一种光谱平坦的探测器用吸收层及其制备方法技术

技术编号:8321650 阅读:151 留言:0更新日期:2013-02-13 21:05
本发明专利技术公开了一种光谱平坦的探测器用吸收层结构及其制备方法,吸收层自上而下由第一金属层、第二金属层和第三金属层组成。其特征在于:第一金属层是膜厚为方块电阻9.5Ω/□-10.0Ω/□的铬镍合金层,第二金属层为膜厚为75nm-85nm的金属镍,第三金属层是18nm-22nm的金属铬。其制造工艺包括:采用光刻图形化、热蒸发和离子束溅射的工艺技术制备平坦的宽光谱吸收层。采用此工艺方法制备吸收层工艺简单,和标准半导体工艺兼容,利于工艺整合,适用于单元、线列及面阵探测器。这种吸收层具有附着牢固、重复性好、吸收波段宽、光谱平坦、吸收率高、比热容小、传热性能优良的优点。同时吸收层可兼做电极,适合作为热红外探测器的吸收层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学薄膜元件,具体涉及。
技术介绍
非制冷热敏型探测器具有室温工作不需要制冷系统、结构紧凑、可靠性高、光谱响应宽且光谱平坦、工艺简单、价格低廉等诸多优点,可以广泛应用于国防、工业、医学和科学研究等领域,例如可用于入侵报警、安全监视、防火报警、非接触测温、工业生产监控、红外成像、飞机车量辅助驾驶、医疗诊断、光谱分析等诸多方面。当红外辐射入射到热敏型非制冷红外探测器上时,红外辐射被探测器吸收而引起探测器温度变化,多数情况下温度的变化会引起探测器某电学参数发生变化(例如电阻值、自发极化强度等),从而实现对红外辐射的探测。非制冷红外探测器的吸收层对红外辐射的吸收特性,不仅直接影响探测器响应 率和探测率,还决定了探测器的光谱响应特性。目前非制冷红外探测器的吸收层存在着附着不牢固或吸收波段窄、和标准半导体工艺不兼容,难以用于线列和面阵探测器等缺点。
技术实现思路
本专利技术的目的是提出一种光谱平坦、宽波段吸收层结构及其制造工艺。解决非制冷红外探测器红外吸收层附着不牢固或吸收波段窄、和标准半导体工艺不兼容,难以用于线列和面阵探测器的问题。本专利技术公开了一种光谱平坦的吸收层结构及其制造本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光谱平坦的探测器用吸收层,它由铬镍合金层(1)、镍金属薄膜(2)和铬金属薄膜(3)组成,其特征在于:吸收层按入射辐射的入射顺序依次为铬镍合金层(1)、镍金属薄膜(2)和铬金属薄膜(3),其中:所述的铬镍合金层(1)是方块电阻为9.5Ω/□?10.0Ω/□的铬镍合金层;所述的镍金属薄膜(2)为膜厚为75nm?85nm的金属镍;所述的铬金属薄膜(3)是膜厚为18nm?22nm的金属铬。

【技术特征摘要】
1.一种光谱平坦的探测器用吸收层,它由铬镍合金层(I)、镍金属薄膜(2)和铬金属薄膜(3)组成,其特征在于吸收层按入射辐射的入射顺序依次为铬镍合金层(I)、镍金属薄膜(2)和铬金属薄膜(3),其中 所述的铬镍合金层(I)是方块电阻为9. 5 Ω / 口 -10. O Ω / 口的铬镍合金层; 所述的镍金属薄膜(2)为膜厚为75nm-85nm的金属镍; 所述的铬金属薄膜(3)是膜厚为18nm-22nm的金属铬。2.一种制造如权利要求I所述的光谱平坦的探测器用吸收层的制备方法,其特征在于按如下的工艺流程进行 1)光谱平坦的吸收层制作在Mn-PMNT晶片上,它的两个表面分别标...

【专利技术属性】
技术研发人员:马学亮邵秀梅于月华李言谨
申请(专利权)人:中国科学院上海技术物理研究所
类型:发明
国别省市:

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