一种极浅层探测光谱探头制造技术

本发明专利技术公开了一种极浅层探测光谱探头，包括照明光纤、收集光纤、耦合透镜和外壳，所述照明光纤将光源发出的光导入到耦合透镜内，通过耦合透镜照射到被测物体上形成照明光斑，照射在被测物体上的光线经过耦合透镜的折射进入到收集光纤内，经收集光纤传导至检验仪器中；收集光纤和照明光纤的末端端面打磨加工为一倾斜平面，所述倾斜平面使光束向探头的对称轴方向偏折。本发明专利技术使用耦合透镜，配合照明光纤和收集光纤的端面斜角打磨，可以让照明光束和收集光束在光谱探头的末端产生高汇聚、小直径、大角度交叉的重合光斑，从而获得了短穿透深度。对浅层信号拾取高度敏感，可有效避免深层信号的干扰。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种极浅层探测光谱探头，其特征在于：包括照明光纤、收集光纤、耦合透镜和外壳，所述照明光纤将光源发出的光导入到耦合透镜内，通过耦合透镜照射到被测物体上形成照明光斑，照射在被测物体上的光线经过耦合透镜进入到收集光纤内，经收集光纤传导至检验仪器中；照明光纤、收集光纤和耦合透镜都封装在外壳内且照明光纤和收集光纤位于耦合透镜的同侧。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：方灿，余玲，王宇俊，
申请(专利权)人：西南大学，
类型：发明
国别省市：