基于成像光谱仪的超越探测器动态范围探测的方法技术

技术编号:9851064 阅读:106 留言:0更新日期:2014-04-02 16:55
基于成像光谱仪的超越探测器动态范围探测的方法,涉及遥感成像光谱仪空间探测领域,解决了现有分波段(通道)探测法存在的过程复杂、研制成本高的问题,该方法为:步骤i:确定空间探测目标的光谱辐射分布特性L(λ);步骤ii:对成像光谱仪光学系统中的各光学元件进行选择性镀膜;步骤iii:计算成像光谱仪中的探测器对应各光谱信号输出电子数的理论值Se(λ);步骤iv:在成像光谱仪的光学系统中加入具有特定光谱透过率功能的滤光片,滤光片的理想光谱透过率τfilter(λ)为:k为比例系数,0.8

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及遥感成像光谱仪空间探测
,具体涉及一种。
技术介绍
根据空间大气随临边高度、波长变化的辐射特性分析,在紫外/可见波段,地球临边大气散射光谱辐亮度随波长变化的动态范围高达IO5~6量级,而紫外CCD探测器动态范围一般为IO3~4量级。为了实现大动态范围的探测,通常采用分波段(通道)探测法,即将大动态范围的光谱信号分解为满足探测器动态范围的多个波段分别进行探测,虽然联合各探测波段实现了紫外/可见波段超越探测器动态范围的光谱信号的测量,但极大地增加了仪器的复杂程度和研制成本,并对卫星平台资源提出了更高的要求。
技术实现思路
为了解决现有分波段(通道)探测法存在的过程复杂、研制成本高的问题,本专利技术提供一种。本专利技术为解决技术问题所采用的技术方案如下:,该方法的条件和步骤如下:步骤1:确定空间探测目标的光谱辐射分布特性,即成像光谱仪入瞳处的光谱辐亮度分布L(X);步骤i1:对成像光谱仪光学系统中的各光学元件进行选择性镀膜,反射光学元件镀紫外增反膜,透射光学元件镀紫外增透膜;步骤ii1:利用成像光谱仪入瞳处的光谱辐亮度分布L( λ )测量得到成像光谱仪光学系统的紫外光谱信号的传输效率λ)及探测器的相关参数,在保证弱紫外光谱信号能探测的前提下,设计积分时间tint,计算成像光谱仪中的探测器对应各光谱信号输出电子数的理论值\(入);步骤iv:在成像光谱仪的光学系统中加入具有特定光谱透过率功能的滤光片,滤光片的理想光谱透过率TfiltoU)为:

【技术保护点】
基于成像光谱仪的超越探测器动态范围探测的方法,其特征在于,该方法的条件和步骤如下:步骤i:确定空间探测目标的光谱辐射分布特性,即成像光谱仪入瞳处的光谱辐亮度分布L(λ);步骤ii:对成像光谱仪光学系统中的各光学元件进行选择性镀膜,反射光学元件镀紫外增反膜,透射光学元件镀紫外增透膜;步骤iii:利用成像光谱仪入瞳处的光谱辐亮度分布L(λ)测量得到成像光谱仪光学系统的紫外光谱信号的传输效率τo(λ)及探测器的相关参数,在保证弱紫外光谱信号能探测的前提下,设计积分时间tint,计算成像光谱仪中的探测器对应各光谱信号输出电子数的理论值Se(λ);步骤iv:在成像光谱仪的光学系统中加入具有特定光谱透过率功能的滤光片,滤光片的理想光谱透过率τfilter(λ)为: τ filter ( λ ) = 1 S e ( λ ) ≤ kS SAT k S SAT S e ( λ ) S e ( λ ) > kS SAt 其中,k为比例系数,0.8...

【技术特征摘要】
1.基于成像光谱仪的超越探测器动态范围探测的方法,其特征在于,该方法的条件和步骤如下: 步骤1:确定空间探测目标的光谱辐射分布特性,即成像光谱仪入瞳处的光谱辐亮度分布L(X); 步骤i1:对成像光谱仪光学系统中的各光学元件进行选择性镀膜,反射光学元件镀紫外增反膜,透射光学元件镀紫外增透膜; 步骤ii1:利用成像光谱仪入瞳处的光谱辐亮度分布L(X)测量得到成像光谱仪光学系统的紫外光谱信号的传输效率'(λ)及探测器的相关参数,在保证弱紫外光谱信号能探测的前提下,设计积分时间tint,计算成像光谱仪中的探测器对应各光谱信号输...

【专利技术属性】
技术研发人员:王淑荣薛庆生李占峰
申请(专利权)人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
类型:发明
国别省市:吉林;22

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