太阳能电池制造技术

技术编号:8304159 阅读:127 留言:0更新日期:2013-02-07 12:00
一种太阳能电池,包括硅基板(4)、设置于硅基板(4)的受光面侧的纹理结构(5)、设置在纹理结构(5)上的受光面钝化膜(13)、设置在受光面钝化膜(13)上的防反射膜(12),纹理结构(5)的平均纹理边长在7μm以上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种太阳能电池,特别是涉及太阳能电池的受光面侧的结构。
技术介绍
近年来,特别是考虑到地球环境问题,作为新能源,对于将太阳能直接转换为电能的太阳能电池的期待极具增高。太阳能电池包括使用化合物半导体或有机材料的多种类型,当前成为主流的有使用硅晶体的太阳能电池。作为改进使用单晶硅基板的太阳能电池结构的一种技术,已知在成为单晶硅基板的受光面的面上形成被称为“纹理结构”的具有数Pm 数十μ m高低差的锥形凹凸形状的技术。这样,通过在太阳能电池的受光面上形成凹凸形状,能够减少入射到受光面的光的反射,同时使入射到太阳能电池内部的光量增加,因此,能够提高太阳能电池的光电转换效·率。作为在成为单晶硅基板的受光面的面上形成凹凸形状的方法,可以列举将金属微粒作为催化剂进行湿式蚀刻的方法、反应性离子蚀刻方法等,但从量产性或制造成本方面考虑,上述方法均不是理想的方法。因此,作为形成凹凸形状的普遍的方法,采用用一种蚀刻液对成为单晶硅基板的受光面的面进行蚀刻的方法,该蚀刻液是在加热到70°C以上90°C以下的氢氧化钾等碱性水溶液中添加低沸点的醇类溶剂而得到的。例如,在专利文献I (W02006 本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:横泽雄二赤田博之西野光俊
申请(专利权)人:夏普株式会社
类型:
国别省市:

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