双面镀膜玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种双面镀膜玻璃及其制备方法。该双面镀膜玻璃，包括玻璃基板，在玻璃基板的一面设有第一增透膜层，在玻璃基板的另一面依次层叠有第二增透膜层及ITO膜层；其中，第一增透膜层包括依次层叠于玻璃基板一面上的第一Nb2O5膜层、第一SiO2膜层、第二Nb2O5膜层及第二SiO2膜层；第二增透膜层包括依次层叠于玻璃基板另一面上的第三Nb2O5膜层、第三SiO2膜层、第四Nb2O5膜层及第四SiO2膜层。上述双面镀膜玻璃，根据Nb2O5、SiO2材料的折射率，利用光的波动性和干涉原理，设计出提高双面镀膜玻璃透过率的膜系；该双面镀膜玻璃不容易老化泛黄，光反射小，透过率高，画面图像清晰，对紫外线和红外线部分有一定的防护作用，能够更好地应用到市场。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及玻璃工艺领域，特别是涉及一种。
技术介绍
目前大部分液晶显示用玻璃镀膜产品所镀的膜层为Si02+IT0膜层，这样镀膜出来的产品，在550nm处透过率约为90%，镀膜前后透过率的比值为97%左右，视觉效果较差，大部分液晶显示用玻璃厂家都可以做到这种质量的触摸屏产品，由于技术指标较低，在日益激烈的触摸屏行业竞争处于越来越不利的地位，随着人们对视觉品质的不断追求，生产更高透过率的触摸屏产品将拥有更大得市场。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种透过率较高的。一种双面镀膜玻璃，包括玻璃基板，在所述玻璃基板的一面设有第一增透膜层，在所述玻璃基板的另一面依次层叠有第二增透膜层及ITO膜层；其中，所述第一增透膜层包括依次层叠于所述玻璃基板一面上的第一 Nb2O5膜层、第一 SiO2膜层、第二 Nb2O5膜层及第二 SiO2膜层；所述第二增透膜层包括依次层叠于所述玻璃基板另一面上的第三Nb2O5膜层、第三SiO2膜层、第四Nb2O5膜层及第四SiO2膜层。在其中一个实施例中，所述玻璃基板为TFT玻璃。在其中一个实施例中，所述TFT玻璃的厚度为O. 2mnTlmm。在其中一个实施例中，所述第一 Nb2O5膜层及所述第三Nb2O5膜层的厚度为12nm 14nm ;所述第二 Nb2O5膜层及所述第四Nb2O5膜层的厚度为I IOnnTl 14nm。在其中一个实施例中，所述第一 SiO2膜层及所述第三SiO2膜层的厚度为30nnT34nm ;所述第二 SiO2膜层的厚度为83nnT86nm ;所述第四SiO2膜层的厚度为54nm 57nm。在其中一个实施例中，所述ITO膜层的厚度为12nnTl6nm。一种双面镀膜玻璃的制备方法，包括以下步骤采用磁控溅射镀膜的方法，在玻璃基板的一面上依次形成第一 Nb2O5膜层、第一SiO2膜层、第二 Nb2O5膜层及第二 SiO2膜层，以形成第一增透膜层；采用磁控溅射镀膜的方法，在玻璃基板的另一面上依次形成第三Nb2O5膜层、第三SiO2膜层、第四Nb2O5膜层及第四SiO2膜层，以形成第二增透膜层 '及采用磁控溅射镀膜的方法，在所述第二增透膜层上形成ITO膜层，即得双面镀膜玻璃。在其中一个实施例中，所述第一 Nb2O5膜层及所述第三Nb2O5膜层的厚度为12nnTl4nm ;所述第二 Nb2O5膜层及所述第四Nb2O5膜层的厚度为IlOnnTlHnm ;所述第一 SiO2膜层及所述第三SiO2膜层的厚度为30nnT34nm ;所述第二 SiO2膜层的厚度为83nnT86nm ;所述第四SiO2膜层的厚度为54nnT57nm ;所述ITO膜层的厚度为12nnTl6nm。在其中一个实施例中，所述第一增透膜层及所述第二增透膜层的磁控溅射镀膜工艺包括将磁控溅射镀膜的镀膜箱抽真空，后向所述镀膜箱内充入氩气及氧气至真空度为O.4Pa O. 6Pa，在室温下进行镀膜。在其中一个实施例中，所述ITO膜层的磁控溅射镀膜工艺包括将磁控溅射镀膜的镀膜箱抽真空，后向所述镀膜箱内充入氩气及氧气至真空度为O. 4Pa^0. 6Pa，在温度60°C 80°C下进行镀膜。上述双面镀膜玻璃，根据Nb205、SiO2材料的折射率，利用光的波动性及干涉原理，设计出提高双面镀膜玻璃透过率的膜系；在玻璃基板镀有Nb2O5及SiO2材料，该双面镀膜玻璃不容易老化泛黄，光反射小，透过率高，画面图像清晰；同时，上述双面镀膜玻璃，在420nnT660nm波段的透过率达到96. 5%以上，镀膜前后透过率的比值达到106%以上，对紫外线和红外线部分有一定的防护作用，说明该双面镀膜玻璃的透过率较高，能够更好地应用 到市场。附图说明图I为一实施方式的双面镀膜玻璃的结构示意图；图2为一实施方式的双面镀膜玻璃的制备方法的流程图；图3为实施例I的双面镀膜玻璃和传统TFT镀膜玻璃的透过率对比图；图4为TFT玻璃镀膜前的透过率图。具体实施例方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施的限制。请参阅图1，一实施方式的双面镀膜玻璃100，包括玻璃基板110，在玻璃基板110的一面设有第一增透膜层120，在玻璃基板110的另一面依次层叠有第二增透膜层130及ITO (氧化铟锡)膜层140。其中，第一增透膜层120包括依次层叠于玻璃基板110—面上的第一 Nb2O5膜层122、第一 SiO2 膜层 124、第二 Nb2O5 膜层 126 及第二 SiO2 膜层 128 ；第二增透膜层130包括依次层叠于玻璃基板110另一面上的第三Nb2O5膜层132、第三SiO2膜层134、第四Nb2O5膜层136及第四SiO2膜层138。玻璃基板110可以为TFT (膜场效应晶体管)玻璃。TFT玻璃的厚度为O. 2mnTlmm。第一 Nb2O5膜层122及第三Nb2O5膜层132的厚度为12nnTl4nm ;第二 Nb2O5膜层126及第四Nb2O5膜层136的厚度为I IOnnTl 14nm。第一 SiO2膜层124及第三SiO2膜层134的厚度为30nnT34nm ;第二 SiO2膜层128的厚度为83nnT86nm ;第四SiO2膜层138的厚度为54nnT57nm。ITO膜层140的厚度为12nnTl6nm。由于ITO膜层的导电性，使得镀ITO膜层后的玻璃基板具有良好的防静电功能。传统的TFT镀膜玻璃，在玻璃基板的一面上依次涂镀有SiO2膜层及ITO膜层，SiO2膜层的厚度为23nnT27nm，ITO膜层的厚度为12nnTl6nm。该TFT镀膜玻璃在550nm处透过率约为90%，镀膜前后透过率的比值为97%左右，视觉效果较差。上述双面镀膜玻璃，根据Nb205、Si02材料的折射率及光的波动性和干涉原理，设计出提高双面镀膜玻璃透过率的膜系，在420nnT660nm波段的透过率达到96. 5%以上，镀膜前后透过率的比值达到106%以上，对紫外线和红外线部分有一定的防护作用，说明该双面镀膜玻璃极大地提高了 TFT镀膜玻璃的光学性能，在同类产品中有极大的竞争优势。另外，在玻璃基板表面设有Nb2O5及SiO2材料，该双面镀膜玻璃不容易老化泛黄，光反射小，透过率高，画面图像清晰；同时，在玻璃基板的一面增透膜层表面涂镀ITO膜层，增强了玻璃基板的防静电能力。请参阅图2，一实施方式的双面镀膜玻璃的制备方法，包括以下步骤步骤S10、采用磁控溅射镀膜的方法，在玻璃基板的一面上依次形成第一 Nb2O5膜 层、第一 SiO2膜层、第二 Nb2O5膜层及第二 SiO2膜层，以形成第一增透膜层。玻璃基板可以为TFT玻璃。TFT玻璃的厚度为O. 2mnTlmm。第一 Nb2O5膜层的厚度为12nm 14nm ;第二 Nb2O5膜层的厚度为I IOnm 114nm。第一 SiO2膜层的厚度为30nnT34nm ；第二 SiO2膜层的厚度为83nnT86nm。第一增透膜层的磁控溅射镀膜工艺包括将玻璃基板置于磁控溅射镀膜的镀膜箱中，将镀膜箱抽真本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双面镀膜玻璃，包括玻璃基板，其特征在于，在所述玻璃基板的一面设有第一增透膜层，在所述玻璃基板的另一面依次层叠有第二增透膜层及ITO膜层；其中，所述第一增透膜层包括依次层叠于所述玻璃基板一面上的第一Nb2O5膜层、第一SiO2膜层、第二Nb2O5膜层及第二SiO2膜层；所述第二增透膜层包括依次层叠于所述玻璃基板另一面上的第三Nb2O5膜层、第三SiO2膜层、第四Nb2O5膜层及第四SiO2膜层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郑芳平，张迅，
申请(专利权)人：江西沃格光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：