可见光穿透率高的透明导电玻璃及其制作方法技术

本发明专利技术是有关于一种可见光穿透率高的透明导电玻璃，包含：一玻璃基板、一形成于该玻璃基板上的缓冲层，及一形成于该缓冲层上的金属基膜层结构。该金属基膜层结构自该缓冲层朝远离该玻璃基板的方向依序具有一第一金属层、一第二金属层及一第三金属层。该第一金属层是由Ag所制成，且厚度是介于6nm-10nm之间。该第二金属层是由一选自下列所构成的群组的第二金属所制成：Zn、Sn、Ti、Ni、ZnSn合金、ZnTi合金、ZnNi合金、SnTi合金，及SnNi合金。该第三金属层是一保护层。本发明专利技术也提供一种前述透明导电玻璃的制作方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种透明导电玻璃(transparent conductive glass,TCG),特别是涉及一种可见光(visible light)穿透率(transmittance)高的透明导电玻璃及其制作方法。
技术介绍
平面显示器(flat panel display,FPD)、触控面板(touch panel)及薄膜太阳能电池(thin film solar cell)等电子产品的需求量于近年来不断地攀升，在此等电子产品中，不可缺少的组件则非透明导电玻璃莫属。目前最常见的透明导电层，无非是在透明玻璃基板上派镀(sputtering) —金属氧化物(metal oxide)的透明导电层。如，氧化铟锡(indium tin oxide, ITO)、氧化铟(In2O3),或掺杂氟的氧化铟锡(fluorine-doped tin oxide, FT0)。然而，熟悉此
者皆知，以该金属氧化物透明导电层所构成的透明导电玻璃的特性，其必须在导电率(conductivity)与穿透率两必要特性之间做取舍；也就是说，当该金属氧化物透明导电层的厚度越大，则其阻值(resistivity本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可见光穿透率高的透明导电玻璃，其特征在于，该包含：一个玻璃基板；一层形成于该玻璃基板上的缓冲层；及一层形成于该缓冲层上的金属基膜层结构，自该缓冲层朝远离该玻璃基板的方向依序具有一层第一金属层、一层第二金属层及一层第三金属层；其中，该第一金属层是由Ag所制成，且厚度是介于6nm？10nm之间；其中，该第二金属层是由一选自下列所构成的群组的第二金属所制成：Zn、Sn、Ti、Ni、ZnSn合金、ZnTi合金、ZnNi合金、SnTi合金，及SnNi合金；及其中，该第三金属层是一保护层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林宽锯，许纯渊，
申请(专利权)人：林宽锯，
类型：发明
国别省市：