一种太阳能选择性吸收涂层制造技术

一种太阳能选择性吸收涂层，其特征是：包括沿远离玻璃基材的方向依次设置的由Al薄膜粘结层或AlN薄膜粘结层、Cu薄膜红外发射层、SS-N-Al薄膜复合吸收层、Al薄膜减反层；其厚度依次为5～20nm、25～40nm、60～140nm、60～180nm；且所述SS-N-Al薄膜复合吸收层由沿着远离玻璃基材的方向且按照金属成分含量由高到低依次设置的高吸收亚层、中吸收亚层、低吸收亚层组成。该种涂层抗烘烤性能强，优选适用在真空中温工作，物理化学性能可靠，且制备工艺容易控制，生产成本低。该涂层可应用于全玻璃真空集热管吸收涂层或其他真空系统选择性吸收涂层。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种选择性吸收涂层，尤其是太阳能选择性吸收涂层。
技术介绍
选择性吸收层是光吸收体系中用于吸收光能的核心功能部分，通常用于太阳能集热元件或太阳能选择性吸收涂层体系中。由于制备工艺的要求，相对于制备过程中反应气体流量的较为明显的变化，吸收层的光学常数n、k值的变化必须平缓，以便通过调控生产设备中的反应气体流量的变化能够精确制备出具有均一光学常数的吸收层。多年来，人们不断尝试着将不同金属或合金与不同反应气体进行组合以寻求制备工艺操作方面易于调控且优选具有良好的物理、化学稳定性的吸收层材料。反应气体通常 采用氧气、氮气、氨气、一氧化碳、二氧化碳、碳氢气体等或它们的组合。不同金属与不同反应气体产生大量的组合可能性，由于对于实践中成功的吸收层材料的组成及其相关原理缺乏理论解释，本领域在寻找新的吸收层材料的过程中进行着随机的筛选。因此，制备一种优良的选择性吸收涂层关键在于选择具有较佳的太阳光谱选择性的材料和制备工艺，现行涂层多选择铝作为溅射阴极，与氮气进行反应生成渐变膜形式的薄膜，这种薄膜适宜于低温真空使用，抗烘烤性差；采用干涉膜制备的薄膜的抗烘烤性优于渐变膜制备的薄膜，但制备时要求对各层的光学常数、厚度等进行精确控制，制备工艺复杂并且所涉及的材料相对昂贵。
技术实现思路
为了克服上述现有技术存在的缺点，本技术的目的在于提供一种太阳能选择性吸收涂层，该种涂层抗烘烤性能强，可在中温真空使用，物理化学性能可靠，且制备工艺容易控制，生产成本低。为实现上述目的，本技术采用以下技术方案该太阳能选择性吸收涂层，包括沿远离玻璃基材的方向依次设置的由Al薄膜粘结层或AlN薄膜粘结层、Cu薄膜红外发射层、SS-N-Al薄膜复合吸收层、Al薄膜减反层；所述Al薄膜粘结层或AlN薄膜粘结层的厚度为5 20nm ；所述Cu薄膜红外发射层厚度为25 40nm ；所述SS-N-Al薄膜复合吸收层由沿着远离玻璃基材的方向且按照金属成分含量由高到低的顺序依次排列设置的高吸收亚层、中吸收亚层、低吸收亚层组成，所述SS-N-Al薄膜复合吸收层的总厚度为60 140nm ；所述Al薄膜减反层厚度为60 180nm。作为本技术的进一步的技术方案在该太阳能选择性吸收涂层中，所述Al薄膜粘结层或AlN薄膜粘结层厚度为15nm ;所述Cu薄膜红外发射层厚度为35nm ;所述SS-N-A1薄膜复合吸收层厚度为IlOnm ；所述Al薄膜减反层厚度为120nm。在该太阳能选择性吸收涂层中，还包括Al薄膜扩散阻挡层，所述的Al薄膜扩散阻挡层位于所述的Cu薄膜红外发射层与SS-N-Al薄膜复合吸收层之间。更进一步的所述Al薄膜扩散阻挡层的厚度为5 20nm。本技术的有益效果是该太阳能选择性吸收涂层制备时工艺易于调控，生产成本不高，涂层性能稳定例如抗烘烤性好等，优选适用于在真空中温工作，并且由该太阳能选择性吸收层的太阳吸收比α彡O. 92，半球发射比ε ^ O. 060 (80°C )，优于现有的太阳能选择性吸收涂层。该太阳能选择性吸收涂层可应用于全玻璃真空集热管吸收涂层或其他真空系统选择性吸收涂层。以下结合附图和实施例对本技术做进一步的说明图I为本技术实施例的结构示意图；图2为本技术太阳能选择性吸收涂层中设置了扩散阻挡层的结构示意图；图中1玻璃基材，2粘结层，3红外反射层，4复合吸收层，41高吸收亚层，42中吸收亚层，43低吸收亚层，5减反层，6扩散阻挡层。具体实施方式如图I所示，该太阳能选择性吸收涂层，包括沿远离玻璃基材I的方向依次设置的粘结层2、红外发射层3、复合吸收层4、减反层5。所述粘结层2为铝薄膜(Al薄膜)或氮化铝薄膜(AlN薄膜);粘结层2厚度为5 20nmo所述红外反射层3为铜薄膜；红外反射层3厚度25 40nm。所述复合吸收层4为由不锈钢靶、铝靶在氩气环境中及氮气气氛中溅射形成的混合物薄膜，即为SS-N-Al薄膜。复合吸收层4( SS-N-Al薄膜)由沿着远离玻璃基材I的方向且按照金属成分含量由高到低的顺序依次设置的高吸收亚层41、中吸收亚层42、低吸收亚层43组成；所述复合吸收层4的总厚度为60 140nm。高吸收亚层41表示为SS-N-Al (H)，中吸收亚层42表示为SS-N-Al (M)，低吸收亚层43表示为SS-N-Al (L)。所述减反层5为氮化招薄膜,减反层5厚度为60 180nm。该太阳能选择性吸收涂层的制备方法，包括以下步骤a)在磁控溅射镀膜机的真空室中，将待镀膜真空管内管装在真空管工架上的步骤；b)在所述的真空室抽真空至本底真空时，冲入氩气达到工作压强，启动铝靶，保持铝靶电流恒定，冲入氮气的步骤；c)沉积粘结层的步骤停止冲入氮气直接铝靶溅射在玻璃基材上沉积形成铝薄膜；或者继续冲入氮气，铝靶与氮气反应溅射在玻璃基材上沉积形成氮化铝薄膜；所述铝薄膜或氮化铝薄膜即为粘结层，并使粘结层厚度为5 20nm ；d)沉积红外发射层的步骤停止铝靶溅射，停止注入氮气；直流电溅射铜靶，沉积厚度为25 40nm铜薄膜即为红外发射层；e)沉积复合吸收层的步骤，包括分步骤(el)沉积高吸收亚层的分步骤停止铜靶溅射，冲入氮气，以铝靶和不锈钢靶为阴极，保持铝靶溅射电流恒定且给铝靶第一溅射电压，给不锈钢靶第一溅射电流；铝靶与不锈钢靶同时在氮气氛围中溅射形成高吸收亚层；( e2 )沉积中吸收亚层的分步骤保持铝靶所述溅射电流恒定且给铝靶第二溅射电压，第二溅射电压小于所述的第一溅射电压；给不锈钢靶第二溅射电流，第二溅射电流小于所述的第一溅射电流；铝靶与不锈钢靶同时在氮气氛围中溅射形成中吸收亚层； (e3)沉积低吸收亚层的分步骤保持铝靶所述溅射电流恒定且给铝靶第三溅射电压，第三溅射电压小于所述的第二溅射电压；给不锈钢靶第三溅射电流，第三溅射电流小于所述的第二溅射电流；铝靶与不锈钢靶同时在氮气氛围中溅射形成低吸收亚层；通过上述分步骤(el)、(e2)、(e3)溅射沉积形成60 140nm的混合物薄膜即为复合吸收层；上述分步骤(el)、(e2)、(e3)通过调整铝靶溅射电压、不锈钢靶的溅射电流，实现三个吸收亚层的金属含量的调整；使低吸收亚层中的金属成分含量少于中吸收亚层中的金属成分含量；中吸收亚层中的金属成分含量少于高吸收亚层中的金属成分的含量；即复合吸收层沿着远离玻璃基材的方向金属成分含量减少；f)沉积减反层停止不锈钢靶溅射，继续冲入氮气，以铝靶为阴极，溅射沉积厚度为60 ISOnm的氮化铝薄膜即为减反层。本技术的太阳能选择性吸收涂层，除包括上述膜层外，也可根据具体热性能情况在该太阳能选择性吸收涂层中适当增加扩散阻挡层6，如图2所示，扩散阻挡层6位于红外反射层3与复合吸收层4之间，用于阻止红外反射层3中与复合吸收层4之间金属原子相互扩散和迁移，所述扩散阻挡层6的厚度为5 20nm。所述扩散阻挡层6为铝薄膜(Al薄膜)，并优选纯铝薄膜。相应的，在上述太阳能选择性吸收涂层的制备方法中，在步骤d)之后、步骤e)之前，加入沉积扩散阻挡层的步骤；沉积扩散阻挡层时，停止铜靶溅射，直流溅射铝靶沉积铝薄膜即为扩散阻挡层，并使得扩散阻挡层厚度为5 20nm。在上述太阳能选择性吸收涂层的制备方法中，步骤e)中，溅射高吸收亚层时不锈本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种太阳能选择性吸收涂层，其特征是：包括沿远离玻璃基材的方向依次设置的由Al薄膜粘结层或AlN薄膜粘结层、Cu薄膜红外发射层、SS？N？Al薄膜复合吸收层、Al薄膜减反层；所述Al薄膜粘结层或AlN薄膜粘结层的厚度为5～20nm；所述Cu薄膜红外发射层厚度为25～40nm；所述SS？N？Al薄膜复合吸收层由沿着远离玻璃基材的方向且按照金属成分含量由高到低的顺序依次排列设置的高吸收亚层、中吸收亚层、低吸收亚层组成，所述SS？N？Al薄膜复合吸收层的总厚度为60～140nm；所述Al薄膜减反层厚度为60～180nm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：于洪文，马兵，张艳丽，安利娟，李萍，李春江，何晓倩，李宝山，陈志朋，
申请(专利权)人：山东桑乐太阳能有限公司，
类型：实用新型
国别省市：