纳米级钼粉制备方法技术

技术编号:829240 阅读:244 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种纳米级钼粉制备方法,该方法以纳米级八钼酸铵为原料,在封闭环境下进行两次氢气逆向还原反应,通过控制第一次还原、第二次还原的炉温和氢气流量,制备出的纳米级钼粉呈紫色,其粒径在55~92nm,纯度均在99.80%以上。本发明专利技术中氢气可回收再利用,节省了生产成本,而且工艺流程短,工艺条件易控制,对生产设备无特殊要求,适合工业化生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种超细金属粉末的制备方法,具体地讲,本专利技术涉及一种粒 径为纳米级钼粉的制备方法。技术背景钼属于稀有金属,具有很好的物理特性,在钢铁工业、电子工业、航天航 空及农业中有着广泛应用。例如,钢铁冶炼时添加适量的钼元素,能够显著 提高钢铁强度、韧性、耐蚀性及耐热性能。钼粉的粒径对其添加效果有着十 分重大的影响,实践证明钼粉粒径越细,添加效果越佳,当粒径达纳米级时, 在其表面效应及量子尺寸效应下钼粉添加效果更加突出,尤其在钼粉喷涂工 艺中效果更明显,喷涂表面结构致密且均匀。现有技术制备钼粉方法有氯化 钼蒸汽法、等离子还原法、羰基热分解法、氢气还原气相沉积法及微波等离 子体法,这些方法所用原料为钼酸铵类或钼酸盐,制备的钼粉粒径在微米级, 调整工艺流程也可制备出粒径达纳米级的钼粉,但生产成本很高且工艺得率 低,不宜规模化生产。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种使用常规设备,工艺条件易于控制,工艺流程短、 生产成本较低且规模化生产的。 本专利技术通过下述技术方案实现技术目标。,改进之处在于该方法以纳米级八钼酸铵为原料, 采用氢气两次还原法进行制备,制备工艺流程包括下列步本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纳米级钼粉制备方法,其特征在于:该方法以纳米级八钼酸铵为原料,采用氢气两次还原法进行制备,制备工艺流程包括下列步骤:(1)将纳米级八钼酸铵原料平摊在烧舟内,平摊厚度6~13mm;(2)作第一次逆向还原处理,还原条件为炉温380~560℃,还原剂为水电解制得的氢气,氢气流量为20~50m↑[3]/h,露点≤-30℃,原料在炉内停留时间为90~180min,其还原反应方程式为:(NH↓[4])↓[4]Mo↓[8]O↓[26]=4NH↓[3]+8MoO↓[3]+2H↓[2]O  MoO↓[3]+H↓[2]=MoO↓[2]+H↓[2]O;(3)作第二次逆向还原处理,还原条件为炉温600~750℃,...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:丁舜
申请(专利权)人:姜堰市光明化工厂
类型:发明
国别省市:32[中国|江苏]

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