一种调Q激光器制造技术

本实用新型专利技术涉及激光技术领域，公开了一种调Q激光器，包括泵浦源、泵浦耦合系统、激光增益介质、可饱和吸收体、激励源和激励耦合系统；所述泵浦源发出的泵浦光通过泵浦耦合系统耦合进入激光增益介质，被激光增益介质吸收；所述激励源发出的激励光通过激励耦合系统耦合进入可饱和吸收体，被可饱和吸收体吸收；所述泵浦光波长与激励光波长不一样，激光增益介质对泵浦光的吸收系数大于对激励光的吸收系数，可饱和吸收体对激励光的吸收系数大于对泵浦光的吸收系数。该结构增加LD激励源，从侧面或端面激励被动调Q晶体，通过激励源主动改变被动调Q晶体的透明时间来主动调节调Q时间和频率，有效提高了被动调Q激光器的重复频率。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及激光
，尤其涉及一种调Q激光器。
技术介绍
LD泵浦的被动调Q激光器是获得高重复频率、大峰值功率、窄脉冲激光输出的重要技术。在中小功率固体激光器件中，被动调Q技术以其价格低廉，运转可靠和结构简单等 优点而获得了广泛应用。被动调Q激光器由其被动调Q材料自身的性质决定其激光器输出频率有一个上限，以Cr:YAG晶体为例，受其上能级寿命限制，其理论最大重频约为ΙΟΟΚΗζ。而通常被动调Q激光器的重频远达不到其理论上限，仍以Cr:YAG为例，其与Nd:YAG搭配组成的被动调Q激光器其单脉冲输出时的重频一般为10 20KHz，而无论是通过调整激光输出腔镜的透过率还是激光腔长，对其的影响都是十分有限的。在理论上泵浦功率越大，重复频率越高，实际上，随着泵浦功率的提高，激光器输出的重频趋于饱和，之后甚至会随泵浦功率继续增大而下降。
技术实现思路
针对上述问题，本技术提出一种结构简单的调Q激光器，有效提高了被动调Q激光器输出激光的重复频率。为达到上述目的，本技术提出的技术方案为一种调Q激光器，包括泵浦源、泵浦耦合系统、激光增益介质和可饱和吸收体，还包括一激励源和激励耦合系统；所述泵浦源发出本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种调Q激光器，包括泵浦源、泵浦耦合系统、激光增益介质和可饱和吸收体，其特征在于：还包括一激励源和激励耦合系统；所述泵浦源发出的泵浦光通过泵浦耦合系统耦合进入激光增益介质，被激光增益介质吸收；所述激励源发出的激励光通过激励耦合系统耦合进入可饱和吸收体，被可饱和吸收体吸收；所述泵浦光波长与激励光波长不一样，激光增益介质对泵浦光的吸收系数大于对激励光的吸收系数，可饱和吸收体对激励光的吸收系数大于对泵浦光的吸收系数。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴砺，凌吉武，贺坤，韩晓明，任策，
申请(专利权)人：福州高意通讯有限公司，
类型：实用新型
国别省市：