患者接近性调制的比吸收率制造技术

一种关于调节要被施加到要被成像的感兴趣对象(20)的射频激励场B1来操作磁共振成像系统(10)的方法，所述方法包括以下步骤：‑确定至少一个位置参数(d)，其指示所述感兴趣对象(20)的至少部分相对于所述磁共振成像系统(10)的至少一个射频发射天线(36)的位置；并且‑取决于出自所确定的所述感兴趣对象(20)的至少一个位置参数(d)和确定的几何尺寸(w)中的至少一个，调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线(36)的射频功率的至少一个射频功率相关的参数；以及‑具有接近检测单元(46)的磁共振成像系统(10)，其包括至少一个接近检测器(D)，以及控制单元(26)，其中，所述控制单元(26)被配置为执行这样的方法的步骤。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及关于调节被应用到要被成像的感兴趣对象的射频激励场来操作磁共振成像系统的方法，以及通过采用这样的方法来操作的磁共振成像系统。
技术介绍
在磁共振成像的领域中，要被成像的感兴趣对象被暴露于射频场，在从激励的原子核采集磁共振信号之前所述射频场被应用以激励感兴趣对象的原子核或感兴趣对象内的原子核。关于比吸收率的上限的安全要求必须被观察。美国专利申请US2005/0122108公开了被提供有轮廓检测单元的磁共振成像装置，所述轮廓检测单元检测客体的轮廓。此外，线圈移动单元被提供用于基于所检测的轮廓来移动射频线圈。
技术实现思路
期望操作磁共振成像系统，使得关于针对要被成像的对象的比吸收率的上限在任何时间处被观察。因此本专利技术的一个目的是提供关于调节射频激励场操作磁共振成像系统的方法，所述射频激励场要被施加到要被成像的感兴趣对象，其中，所述磁共振成像系统被配置用于采集感兴趣对象的至少部分的磁共振图像。所述方法包括以下步骤：-确定至少一个位置参数，所述至少一个位置参数指示所述感兴趣对象的至少部分相对于所述磁共振成像系统的至少一个射频发射天线的位置；并且-取决于出自所确定的所述感兴趣对象的至少一个位置参数和确定的几何尺寸中的至少一个，调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线的射频功率的至少一个射频功率相关的参数。如本申请中使用的短语“位置参数”应当尤其被理解为直接或间接指示感兴趣对象的至少部分相对于至少一个射频发射天线的位置的参数。在间接情况下，位置参数可以指示感兴趣对象的至少部分相对于参考位置的位置，所述参考位置到至少一个射频发射天线的相对位置继而是已知的。以这种方式，能够可靠地防止感兴趣对象到可能潜在地危害感兴趣对象的健康的比吸收率的暴露，而无论感兴趣对象相对于磁共振系统的射频发射天线的尺寸、姿态或者相对位置。调节至少一个射频功率相关的参数的步骤可以由操作者来人工执行，或者优选地，其可以自动地并且较不易于出现人类错误地执行，例如由磁共振成像系统的控制单元执行，其中，所述控制单元被配置用于直接或者间接控制至少一个射频功率相关的参数。在方法的优选实施例中，通过采用具有至少一个接近检测器的接近检测单元来执行确定所述至少一个位置参数的步骤。如本申请中使用的术语“接近检测器”应当被尤其理解为能够检测客体的位置而无需检测器与客体之间的物理接触的检测器。优选地，所述至少一个接近检测器是从由多个超声接近检测器、光学(例如，红外)接近检测器(尤其是在接近感测(弥散)布置中)形成的组中选择的，并且总体而言基于光学或者声学工作原理。在一个实施例中，至少一个接近检测器可以被设计为相机。术语“接近检测单元”应当明确地排除具有基于磁共振成像的工作原理的单元。优选地，所述至少一个接近检测器被布置在磁共振扫描单元的检查空间的进入区域中。如本申请中所使用的术语“进入区域”应当尤其被理解为患者在进入检查空间之前必须通过的体积。在另外的优选实施例中，所述接近检测单元包括至少两个接近检测器，所述至少两个接近检测器被布置为朝向所述感兴趣对象的相对的各一半瞄准。所述方法还包括以下步骤：确定所述感兴趣对象的至少一个横向尺寸。调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线的所述射频功率的所述至少一个射频功率相关的参数的步骤还取决于所述感兴趣对象的所确定的至少一个位置参数和至少一个横向尺寸两者而被执行。通过这样，感兴趣对象到可以潜在地危害感兴趣对象的健康的比吸收率的暴露能够容易且可靠地被防止，而无论尺寸、感兴趣对象的姿势或者相对位置。在方法的又一优选实施例中，以下步骤针对所述感兴趣对象的所述至少部分的多个位置而被执行：-确定至少一个位置参数，所述至少一个位置参数指示所述感兴趣对象的所述至少部分相对于所述磁共振成像系统的所述至少一个射频发射天线的位置；并且-经由所述至少两个接近检测器来确定所述感兴趣对象的至少一个横向尺寸。所述方法还包括以下步骤：-获得用于根据在所述多个位置处确定的所述位置参数和所述横向尺寸来生成所述感兴趣对象相对于所述磁共振成像系统的所述至少一个射频发射天线的几何轮廓的数据。对针对多个位置的感兴趣对象的位置参数和横向尺寸的确定可以在通过移动感兴趣对象或者通过移动接近检测器来相对于接近检测器移动感兴趣对象期间相继地执行。在人类感兴趣对象的情况下，多个位置沿人类感兴趣对象的身体轴线来布置。以这种方式，使用适合的布置，感兴趣对象相对于至少一个射频发射天线的位置能够容易地被监测和检查。监测和检查可以由操作者来执行，或者优选地，其可以自动地并且较少易于发生人类错误地执行，例如由磁共振成像系统的控制单元来执行。在又一实施例中，所述方法还包括以下步骤：通过利用感兴趣对象的确定的位置参数和横向尺寸来确定要由所述至少一个射频发射天线发射的射频功率的预期的比吸收率。所述确定是基于针对由具有指定横向尺寸的所述感兴趣对象在以指定相对位置参数被暴露于的所发射的射频功率时吸收的所述比吸收率的预定关系的。取决于所确定的预期的比吸收率，来执行调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线的射频功率的所述至少一个射频功率相关的参数的步骤。如本文中使用的短语“比吸收率”应被理解为特别地涵盖全身比吸收率以及与正被成像的感兴趣对象的部分有关的局部比吸收率。以这种方式，能够估计针对预期的比吸收率的患者特异性和位置特异性估计，其允许执行调节至少一个射频功率相关的参数的步骤，使得射频激励场针对最佳信噪比尽可能大，但是被可靠地保持低于最大可容忍比吸收率。在一个实施例中，调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线的射频功率的所述至少一个射频功率相关的参数的步骤包括调节出自射频脉冲序列的占空比和射频功率幅度中的至少一个。通过这样，能够实现针对调节在磁共振成像领域中常用的射频脉冲序列的灵活性。在本专利技术的另一方面中，提供了一种被配置用于采集感兴趣对象的至少部分的磁共振图像的磁共振成像系统。所述磁共振成像系统包括：-扫描单元，其提供检查空间以将所述感兴趣对象的所述至少部分定位于其内，其中，所述检查空间具有供所述感兴趣对象进入所述检查空间的进入区域，并且所述扫描单元还具有被配置用于生成所述检查空间中的静态磁场B0的主磁体；-磁梯度线圈系统，其被配置用于生成被叠加到所述静态磁场B0的梯度磁场；-至少一个射频发射天线，其被配置用于将射频激励场B1施加到所述感兴趣对象的所述部分的原子核或所述感兴趣对象的所述部分内的原子核，以用于磁共振激励；-至少一个射频接收天线，其被配置用于接收来自已经通过施加所述射频激励场B1激励的所述感兴趣对象的所述部分的所述原子核或所述感兴趣对象的所述部分内的所述原子核的磁共振信号；-控制单元，其被配置用于控制所述磁共振成像系统的功能；-接近检测单元，其包括至少一个接近检测器，所述至少一个接近检测器被配置用于确定至少一个位置参数，所述至少一个位置参数指示所述感兴趣对象的所述至少部分相对于所述至少一个射频发射天线的位置。所述控制单元被配置为执行以上描述的方法中的任一项或其组合的步骤。以这种方式，能够在采集感兴趣对象的至少部分的磁共振图像期间可靠地防止对感兴趣对象超过最大可容忍比吸收率的射频激励场的暴露。在磁共振成像系统的另一优选实施例中，所述接近检测单元包括至少一对接近检测器，所述至少一对接本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种关于调节要被施加到要被成像的感兴趣对象(20)射频激励场B1来操作磁共振成像系统(10)的方法，所述磁共振成像系统(10)被配置用于采集所述感兴趣对象(20)的至少部分的磁共振图像，所述方法包括以下步骤：‑确定至少一个位置参数(d)，所述至少一个位置参数指示所述感兴趣对象(20)的至少所述部分相对于所述磁共振成像系统(10)的至少一个射频发射天线(36)的位置；并且‑取决于出自所述感兴趣对象(20)的所确定的至少一个位置参数(d)和确定的几何尺寸(w)中的至少一个，调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线(36)的射频功率的至少一个射频功率相关的参数。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.06.04 EP 14171089.71.一种关于调节要被施加到要被成像的感兴趣对象(20)射频激励场B1来操作磁共振成像系统(10)的方法，所述磁共振成像系统(10)被配置用于采集所述感兴趣对象(20)的至少部分的磁共振图像，所述方法包括以下步骤：-确定至少一个位置参数(d)，所述至少一个位置参数指示所述感兴趣对象(20)的至少所述部分相对于所述磁共振成像系统(10)的至少一个射频发射天线(36)的位置；并且-取决于出自所述感兴趣对象(20)的所确定的至少一个位置参数(d)和确定的几何尺寸(w)中的至少一个，调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线(36)的射频功率的至少一个射频功率相关的参数。2.根据权利要求1所述的方法，其中，确定所述至少一个位置参数(d)的步骤是通过采用具有至少一个接近检测器(D)的接近检测单元(46)来执行的。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述接近检测单元(46)包括至少两个接近检测器(D1、D9)，所述至少两个接近检测器被布置为朝向所述感兴趣对象(20)的相对的各一半瞄准，所述方法还包括以下步骤：-确定所述感兴趣对象(20)的至少一个横向尺寸(w)；并且其中，以下步骤：-调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线(36)的所述射频功率的所述至少一个射频功率相关的参数，还取决于所述感兴趣对象(20)的所确定的至少一个位置参数(d)和所述至少一个横向尺寸(w)两者来执行。4.根据权利要求3所述的方法，包括以下步骤：-针对所述感兴趣对象(20)的至少所述部分的多个位置(zi)，执行以下步骤：-确定至少一个位置参数(di)，所述至少一个位置参数指示所述感兴趣对象(20)的至少所述部分相对于所述磁共振成像系统(10)的所述至少一个射频发射天线(36)的位置；并且-经由所述两个接近检测器(D1、D9)来确定所述感兴趣对象(20)的至少一个横向尺寸(wi)；-获得用于根据在所述多个位置(zi)处确定的所述位置参数(di)和所述横向尺寸(wi)来生成所述感兴趣对象(20)相对于所述磁共振成像系统(10)的所述至少一个射频发射天线(36)的几何轮廓的数据。5.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，还包括以下步骤：-通过利用所述感兴趣对象(20)的确定的位置参数(di)和横向尺寸(wi)来确定要由所述至少一个射频发射天线(36)发射的射频功率的预期的比吸收率，其中，所述确定是基于针对由具有指定横向尺寸的所述感兴...

【专利技术属性】
技术研发人员：P·R·哈维，
申请(专利权)人：皇家飞利浦有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL