一种真空灭弧室新型纵磁线圈构造制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空灭弧室新型纵磁线圈构造，其特征在于：包括碗型触头座（1），触头座（1）开口端为上方，触头座（1）碗底端为下方，在触头座（1）碗底端开有二个或者二个以上的凹槽（2），凹槽（2）连接触头座（1）侧壁上的斜槽（3），斜槽（3）沿触头座（1）圆周向上旋转，触头座（1）上方开口端表面为完整的圆环结构。本实用新型专利技术触头座开槽方向从下至上，为非贯通槽，保留圆环本身的完整性使得状圆环本身坚固性变强，减少了变形的可能性，使得焊接造成的形变影响变小，避免形变造成接触电阻偏大影响开断效果，并且使得装配过程更加简便快速，真空灭弧室的质量也得到提高。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种真空灭弧室新型纵磁线圈构造，属于真空灭弧室

技术介绍
真空灭弧室是真空开关的关键原件，担负控制电弧的任务，电路的切断与关合都靠真空灭弧室中的触头来完成，如图3和图4在现有的小型真空灭弧室中，以触头座开口端为上方，其灭弧所用的杯状纵磁触头的触头座线圈构成包括一个触头座，圆环上方开有凹槽，凹槽下开有沿圆环圆周旋转的斜槽，斜槽为贯通结构，在加工及焊接过程中，容易发生端面变形影响焊接性能，造成接触电阻偏大影响开断效果。
技术实现思路
本技术的目的在于·提供一种真空灭弧室新型纵磁线圈构造，杯状圆环表面为完整圆环，无开槽，新型触头座结构提高了触头的接触平面，使后期装配焊接性能得到有效改善，提高产品的一次合格率。本技术是这样构成的一种真空灭弧室新型纵磁线圈构造，包括碗型触头座，触头座开口端为上方，触头座碗底端为下方，在触头座碗底端开有二个或者二个以上的凹槽，凹槽连接触头座侧壁上的斜槽，斜槽沿触头座圆周向上旋转，触头座上方开口端表面为完整的圆环结构。上述触头座上方与触头相连，触头座下方与导杆相连。上述斜槽上方的开口与触头座开口端表面的距离为O. 5-3毫米。与现有技术相比，本技本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空灭弧室新型纵磁线圈构造，其特征在于：包括碗型触头座（1），触头座（1）开口端为上方，触头座（1）碗底端为下方，在触头座（1）碗底端开有二个或者二个以上的凹槽（2），凹槽（2）连接触头座（1）侧壁上的斜槽（3），斜槽（3）沿触头座（1）圆周向上旋转，触头座（1）上方开口端表面为完整的圆环结构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张毅，康一，周吉冰，张梅，陈志会，
申请(专利权)人：中国振华电子集团宇光电工有限公司国营第七七一厂，
类型：实用新型
国别省市：