【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种真空灭弧室纵磁线圈，特别是一种低弹跳结构的真空灭弧室纵磁线圈。
技术介绍
纵磁线圈是一种应用在真空灭弧室中，用于灭弧的触头设备，现有的小型真空灭弧室中，其灭弧所用的杯状纵磁线圈的触头座线圈的构成包括一个导电圆环，圆环的环壁上开有沿圆环圆周旋转的斜槽，斜槽为非贯通结构，斜槽的顶端低于圆环的端面，这种结构的纵磁线圈结构强度较大，回路电阻较高，弹跳时间长（约为2-3.5ms）。
技术实现思路
本技术的目的在于,提供一种低弹跳结构的真空灭弧室纵磁线圈。本技术具有结构强度小，回路电阻低，弹跳时间短的特点。本技术的技术方案：一种低弹跳结构的真空灭弧室纵磁线圈，包括有导电圆环，导电圆环的端面上设有两个或两个以上的半缺口，半缺口的宽度为所述导电圆环环壁厚度的1/3-2/3，所述半缺口的下方连接有斜槽，斜槽的厚度等于导电圆环环壁的厚度，所述斜槽沿导电圆环的中部圆周旋转，其另一端与所述导电圆环底部的底槽连接。前述的低弹跳结构的真空灭弧室纵磁线圈，所述半缺口为6个。前述的低弹跳结构的真空灭弧室纵磁线圈，所述半缺口的宽度为所述导电圆环环壁厚度的1/2。本技术的有益效果：本技术通过将斜槽的顶端延伸至导电圆环的端面，并在端面上开设宽度小于导电圆环环壁厚度的半缺口，减少了斜槽两侧的导电圆环环壁之间连接部位的尺寸，降低了线圈的结构强度，同时降低了回路电阻，减少了弹跳时间。实验证明，本技术的弹跳时间小于或等于2ms。附图说明附图1为本技术的透视图；附图2为本技术的正视图；附图3为本技术的俯视图。附图标记说明：1-导电圆环，2-半缺口，3-斜槽，4...
【技术保护点】
一种低弹跳结构的真空灭弧室纵磁线圈，其特征在于：包括有导电圆环（1），导电圆环（1）的端面上设有两个或两个以上的半缺口（2），半缺口（2）的宽度为所述导电圆环（1）环壁厚度的1/3‑2/3，所述半缺口（2）的下方连接有斜槽（3），斜槽（3）的厚度等于导电圆环（1）环壁的厚度，所述斜槽（3）沿导电圆环（1）的中部圆周旋转，其另一端与所述导电圆环（1）底部的底槽（4）连接。
【技术特征摘要】
1.一种低弹跳结构的真空灭弧室纵磁线圈，其特征在于：包括有导电圆环（1），导电圆环（1）的端面上设有两个或两个以上的半缺口（2），半缺口（2）的宽度为所述导电圆环（1）环壁厚度的1/3-2/3，所述半缺口（2）的下方连接有斜槽（3），斜槽（3）的厚度等于导电圆环（1）环壁的厚度，所述斜槽（3）沿导电圆环（1）的...
【专利技术属性】
技术研发人员：张毅，周吉冰，陈志会，欧阳广龙，顾黎阳，
申请(专利权)人：中国振华电子集团宇光电工有限公司国营第七七一厂，
类型：新型
国别省市：贵州;52
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