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一种片构式腔体结构制造技术

技术编号:8289240 阅读:165 留言:0更新日期:2013-02-01 03:02
本实用新型专利技术公开一种片构式腔体结构,包括由位于两侧的侧壁基材与中央的腔室基材组构而成,该腔室基材设有一中空部,多个腔室基材排列后,于两侧靠合侧壁基材,以热融合技术结合,令所有基材结合为一体,构成一中空的封闭腔体;此片构沟槽式腔体,由腔室基材中空部的形状设计,及相邻中空部的高低差,可形成较大的毛隙表面积及有效控制真空腔体内毛隙率,特别是生产时,以高温结合或粘合等结合技术,利于大量生产。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种片构式腔体结构,尤指一种应用于各种须散热的发热体上(如电子零件),能将其运作时所产生的热能带离,以便于维持发热体的正常运作的片构式腔体结构。
技术介绍
现阶段的电脑晶片运算速度越来越快,所相对产生的温度也越高,因此,业者除了增加该散热器的体积外,亦增加了散热鳍片的数量,目的仅为了增加散热的表面积,以维持电脑晶片的正常运作,然而,此一作法,却大大的压缩了电脑内部的空间,尤其是笔记型电脑的应用,轻薄短小是其主要的卖点,但是因散热所导致运算速度迟缓的问题,一直是笔记型电脑业者极欲克服的难题。传统铝挤型的散热器,其散热效能已无法应付目前较高阶的电脑晶片的散热需求,故而有热导管以及均热腔体的出现,来克服日益严苛的散热需求,其中以均热腔体的效率最佳,但其制造成本也是最高。如图I及图2所示,目前均热腔体的腔体结构主要是由上、下盖体10、11,在上、下盖10、11的内壁面上还必需烧结一层由许多颗粒所构成的传热层12,最后利用焊接13将上、下盖体10、11结合成一具有中空腔室的腔体。此种腔体构造具有下列的缺点I.腔体的上、下盖,须利用铣床--加工成型,上、下盖素材成本偏高,产能偏低。2本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种片构式腔体结构,其特征在于,包含:多个侧壁基材:其中一个的一侧设贯穿孔;一通管:为中空形状;及多个腔室基材:设有一个以上的中空部,中空部的内缘形成的导热部;所述多个腔室基材以镜射或旋转180度排列布设在两个所述侧壁基材之间,所述通管插合于贯穿孔;所述侧壁基材、腔室基材以及通管于两侧以治具施压,再以高温后融结为一体,所述多个腔体基材的中空部与所述两个侧壁基材之间形成一腔室,所述多个腔室基材于高温高压结合后形成一接触部。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:陈晃涵
申请(专利权)人:陈晃涵
类型:实用新型
国别省市:

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