【技术实现步骤摘要】
本技术涉及液晶面板及半导体生产
，特别涉及一种涂布设备。
技术介绍
目前，在液晶面板以及半导体生产中，传统工艺为在基板上均匀涂布感光材料，利用掩膜版(mask)进行紫外线曝光并随后进行显像等处理，最终得到相应掩膜版的图案。以阵列(Array)基板为例，感光材料的涂布是阵列基板制造工艺过程中十分重要的一道工序。通用的技术中使用的感光材料涂布方式有两种。一种涂布方式为预先使用涂布设备将感光材料涂布于基板之上，之后将涂布有感光材料的基板放在离心设备上进行高速·旋转，从而将基板上的感光材料通过旋转的离心力甩匀，之后利用负压进行低压干燥，将边缘感光材料去除，进入固化设备对基板上均匀的感光材料进行加热固化，之后进行曝光，化学品显像，最终得到相应掩膜版的图案。另一种涂布方式为直接涂布方式，即使用涂布设备一次性将感光材料均匀的涂布于基板之上。上述感光材料的两种涂布方式均是利用涂布设备涂布感光材料；涂布设备包括机架、喷嘴以及用于放置待涂布基板的涂布平台；涂布平台与机架固定连接，喷嘴可滑动地安装于机架，涂布平台水平放置，喷嘴位于涂布平台的上方；在具体涂布过程中，先将待涂布的基...
【技术保护点】
一种涂布设备，包括喷嘴和用于放置待涂布基板的涂布平台；其特征在于，还包括：感应模块，用于采集所述涂布平台或基板上、位于所述喷嘴前方异物的信息；信号处理模块，信号连接所述感应模块，根据所述感应模块采集的信息判断存在异物时生成执行信号；执行模块，信号连接所述信号处理模块，根据所述信号处理模块的执行信号控制所述喷嘴停止涂布作业。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘昊，焦宇，姜健，宋瑞涛，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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