【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种表面介质阻挡放电等离子体单元，包括具有内部空间的固体介电结构，其中该内部空间中布置有内部电极，该单元进一步包括用于与该内部电极合作地产生表面介质阻挡放电等离子体的另一电极，其中该等离子体单元进一步具有沿该结构表面的气体流路。
技术介绍
已知具有布置在介电结构之上或嵌埋在介电结构之中的电极结构的固体介电结 构用于实施等离子体过程(plasma process,或等离子体工艺)。第一电极位于该结构的处理表面上，而第二电极置于介电结构的相对侧上。在这样的过程中，等离子体过程所需的气流能够被诱导而沿着该结构的处理表面流动。具有一个内部电极的专用等离子体单元也是已知的。其内部电极经由介电材料被部分去除以在介电结构表面中形成沟槽的过程、电极沉积过程以及内部电极被介电材料覆盖以获得平坦介电表面的过程而获得。同样，第二电极置于介电结构的相对侧上。仅具有若干内部电极的专用等离子体单元也是已知的。通过在内部电极对之间形成电场，可以沿着该结构的处理表面诱导等离子体过程。然而，等离子体处理看起来是非均匀的，特别是当处理结构为低渗透性或非气体渗透性材料时。气流在待处理...
【技术保护点】
一种表面介质阻挡放电等离子体单元，包括固体介电结构，所述固体介电结构具有其中布置有内部电极的内部空间，所述表面介质阻挡放电等离子体单元进一步包括用于与所述内部电极合作地产生表面介质阻挡放电等离子体的外部电极，其中所述等离子体单元进一步具有沿着所述结构的表面的气体流路并且其中所述气体流路相对于所述固体介电结构的处理平面大致横向地定向，其中所述固体介电结构基本上具有细长的形状，其具有外部处理表面以及从所述外部处理表面延伸的外侧表面，沿着所述外侧表面定位所述气体流路的至少一部分，并且其中固体介电结构基本为板形，所述结构具有狭缝，所述气体流路延伸通过所述狭缝。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：伊夫·洛德韦克·马里亚·克雷格托恩，马塞尔·希莫尔，蒂莫·胡伊斯尔，
申请(专利权)人：荷兰应用科学研究会TNO，
类型：发明
国别省市：
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