过程装置制造方法及图纸

过程装置包括：用于至少部分地基于过程装置测量的过程变量，确定过程装置的期望总功率消耗的装置；用于将次级负载消耗的功率调节到期望总功率消耗的一部分的装置；以及用于调节分流电阻器中的功率耗散，以使过程装置的总功率消耗等于期望总功率消耗的装置。本实用新型专利技术允许对次级子系统进行选择性的控制，以按需将可用功率用于增加的功能和处理器速度，并且可以扩展本实用新型专利技术以处理多种附加的非关键负载。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及过程装置。
技术介绍
很多工业过程装置在双线控制回路上工作，其中，基于感应器(sensor)读数或期望的致动器(actuator)状态，电流在4至20mA范围变化。在感应器的情况下，与过程装置相连的主机通过测量控制回路电流确定测量值。在致动器的情况下，控制室向过程装置提供电流，该电流指示了期望的致动器状态。主机位于控制室内，向双线设备提供大约直流24V。对于感应器，可以通过测量诸如3. 5mA或20. 5mA之类的越界电流来完成简单的诊断。在控制室和设备之间可能存在长达数英里乃至更长的电缆，从而由于配线的电阻而导致小的电压降。设备中的电子设备将 电压调节到诸如12V之类的标称值，以向感应器和微处理器供电。微处理器进行感应器测量，并且确定必需的电流值。微处理器使用数模转换器(DAC)控制控制放大器和控制晶体管来消耗流过分流电阻器的电流，以使电子设备和分流电阻器的总电流消耗是合适的值。使用高精度感测电阻器来形成反馈环，该高精度感测电阻器对过程装置的总电流消耗进行测量以确保报告精确值。过程装置的传统设计技术指出仅仅应当实现可使用最小电流(3. 5mA)完成的功能。这是由于过程装本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种过程装置，其特征在于包括：用于至少部分地基于过程装置测量的过程变量，确定过程装置的期望总功率消耗的装置；用于将次级负载消耗的功率调节到期望总功率消耗的一部分的装置；以及用于调节分流电阻器中的功率耗散，以使过程装置的总功率消耗等于期望总功率消耗的装置。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：道格拉斯·韦恩·阿恩岑，
申请(专利权)人：罗斯蒙德公司，
类型：实用新型
国别省市：