一种电渗流可控输药芯片电渗驱动单元的制备方法技术

技术编号:8207671 阅读:175 留言:0更新日期:2013-01-16 21:27
一种电渗流可控输药芯片电渗驱动单元的制备方法,该方法包括如下:(1)在硅片的一面氧化成二氧化硅层,另一面甩胶光刻,(2)光刻芯片,形成4个深沟道等步骤,最后封装整个芯片。本发明专利技术使芯片的生产工艺简单,生产成本低,易于大规模生产,所设计的芯片可以实现极低电压直流(DC)驱动,药物输出量微量、稳定、可控,不会产生液体电解和大量焦耳热。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及的是生物医学工程领域,具体涉及微型机电系统(micro electromechanical system,以下简称为MEMS)范畴内的植入式电渗流可控输药芯片及其制备方法。
技术介绍
药物传输系统(Drug Delivery Systems, DDS)是指人们在防治疾病的过程中所采用的各种治疗药物的不同给药形式。理想的药物传输系统不仅应具有良好的生物相容性, 较高的载药率和包封率,良好的细胞或组织特异性一即靶向性;还应具有在达到目标病灶部位之前不释放药物分子,到达病灶部位后才以适当的速度释放出药物分子的特性。随着MEMS技术的进步,具有不同功能的微型元器件和显微机电元件能够规模化生产。将MEMS同药物传递系统结合,有助于改善现有多种药物的临床治疗效果,并在新药研发中扮演重要作用。MEMS用于药物控释系统主要包括药物控释芯片、渗透压驱动微型药物释放系统、植入式智能药物释放系统、遥控透皮给药系统、微型泵、纳米微粒包和系统、微型注射针管阵列给药系统、微型药物输液给药装置、体腔内微型监测器械、高温微型阀、用于微液流标记的三维微阵列管道系统、皮下微型针刀等。其中,微型泵是药物传本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电渗流可控输药芯片电渗驱动单元的制备方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:(1)把单晶硅两面抛光,在硅片的一面氧化成二氧化硅层,硅在芯片的另一面甩胶光刻,所述的单晶硅厚度≧16um;(2)光刻芯片,形成4个深沟道;(3)氧化上表面,形成的二氧化硅层厚度应大于1.5um,同时所述的4个深沟道也利用氧化层的形成而填满;(4)刻蚀上表面氧化层,在被二氧化硅填满的深沟道之间刻蚀出一定宽度的缺口;(5)对所述的缺口所对应区域进行离子注入;(6)上表面抛光并将二氧化硅层留至1um厚;(7)在上表面溅射铝,厚度≧1um,按照连接相同一个电极的布线方案刻蚀铝;(8)在上表面生长二氧化硅层,抛光磨平;(9)...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张文光胡牧风吴栋栋
申请(专利权)人:上海交通大学
类型:发明
国别省市:

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