改善型下穿通道路口制造技术

本实用新型专利技术公开了一种改善型下穿通道路口，包括暗埋段和位于暗埋段两端的敞开段、以及位于敞开段两侧的侧墙，至少有一端的敞开段的一侧或两侧的侧墙的顶部设置有向敞开段内侧延伸的扩展道路。通过改变传统的下穿通道敞开段“U”形结构形式，在不影响行车限界的前提下在侧墙顶部向内延伸形成扩展道路，以增加地面道路的宽度，此外，还可将敞开段侧墙做成直墙进一步增加地面道路宽度，从而在投资增加不大的情况下，在路口附近增加车道数量、改善路口交通条件，具有很强的创造性和实用性。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及ー种下穿道路，具体地指ー种改善型下穿通道路ロ。
技术介绍
一般的城市道路下穿通道如附图I所示，在交叉路ロ段下穿通道采用暗埋结构1，在暗埋结构I两端外采用“U”型敞ロ结构2与地面道路顺接。结构横断面如附图2所示。由于敞ロ结构2设置在交叉路ロ附近，它占用了较宽的地面道路，地面道路车道数減少，当左右转向车辆较多时，容易引起交通堵塞。例如对于双向八车道的道路(如附图1、2所示)，在道路中间设置了双向四车道的地下通道后，地面道路单向只剰余2条车道，为了避免路ロ转弯车辆对直行车辆的影响，一般需通过局部道路拓宽增加车道，设置转向车道来解決。当道路拓宽条件有限，有些甚至受道路两侧建筑物控制而无法拓宽时，路ロ的交通条件将会很差，经常在地下通道敞开段两侧的地面道路上发生拥堵。·
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有下穿通道路ロ的敞开段占用地面道路较多，影响地面道路车辆通行的问题，尤其是在交叉路ロ处车道数量減少容易堵塞的缺陷，提供ー种改善型下穿通道路ロ，来提高交叉路ロ交通疏解能力，缓解路ロ附近地面拥堵状况、改善地面道路交通环境。为实现上述目的，本技术所设计的改善型下穿通道路ロ，包括暗埋段和位于暗本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种改善型下穿通道路口，包括暗埋段（1）和位于暗埋段（1）两端的敞开段（2）、以及位于敞开段（2）两侧的侧墙（4），其特征在于：至少有一端的敞开段（2）的一侧或两侧的侧墙（4）的顶部设置有向敞开段（2）内侧延伸的扩展道路（6）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙文昊，焦齐柱，王腾飞，李鸣冲，王春梅，刘浩，孙春光，
申请(专利权)人：中铁第四勘察设计院集团有限公司，
类型：实用新型
国别省市：