单涂层的厚氧化物膜制造技术

一种制品，包括衬底和沉积在所述衬底上的均质金属氟氧化物中间膜层，所述中间膜包含稀土金属、碱土金属和过渡金属。所述中间膜具有小于20％的缺陷密度，并且在热处理后能够转化成化学计量厚度大于1μm且至多5μm的稀土金属-碱土金属-过渡金属-氧化物超导体膜。还公开了另一制品，包括衬底和化学计量厚度大于1μm且至多5μm的均质超导体膜。此外，公开了制备这两种制品的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】单涂层的厚氧化物膜相关申请的交叉引用本申请要求2010年3月31日提交的美国专利申请12/751,064的优先权，其内容通过引用全文并入本文。政府权利本专利技术是在空军科学研究局授予的项目编号FA9550-07-C-0034的政府资助下完成的。政府对于本专利技术具有一定的权利。
技术介绍
高温超导(HTS)材料，如钇-钡-铜氧化物(YBCO)，已被用于制造薄膜超导装置和 电线。具有较高临界电流(Ic)的厚(即> Iu m)HTS膜优选用于需要高电流承载能力的应用中，例如电カ传输和配电线路、变压器、故障电流限制器、磁体、电机和发电机。根据基于常规解决方案的技术，较厚的超导体膜由多层的HTS薄膜形成，每ー层的厚度不大于I U m。超导薄膜可通过包括三氟こ酸盐基有机金属前体的分解在内的多种技术沉积在有缓冲或无缓冲的衬底上。前体分解是HTS薄膜制造中最慢且最关键的步骤。当前体膜进行分解吋，发生显著的体积变化，因而在膜内产生应力。如果不加控制，则这些应カ会导致在所得的中间膜内产生大量裂纹，这进而又导致形成具有高Ic的HTS涂层失败。因此，重要的是调节这些应力。实现这一点的ー种方法是通过仔细选择本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：斯里瓦桑·萨特亚默西，马丁·W·鲁皮希，
申请(专利权)人：美国超导体公司，
类型：
国别省市：