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一种制备柔性超导薄膜的方法技术

技术编号:8191869 阅读:332 留言:0更新日期:2013-01-10 02:35
本发明专利技术公开了一种制备柔性超导薄膜的方法,包括如下步骤:清洗基片,去除基片表面的有机污染物;在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜并进行固化;在涂覆聚酰亚胺膜的基片上直流溅射氮化铌超导薄膜;去除基片:将基片和聚酰亚胺膜剥离。本发明专利技术可以制备出厚度(微米量级)可控的柔性超导薄膜,扩大超导薄膜及器件的应用场合和范围。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及ー种制备柔性超导薄膜的方法
技术介绍
超导薄膜因其具有优越的电磁学特性,广泛应用于制备各种超导器件与电路,如超导约瑟夫森结,超导量子干渉器,超导热电子测辐热仪,超导单光子探測器,超导滤波器,超导量子电路,超导电磁隐身器件等。一般的超导薄膜均制备在刚性的基片上,因而无法弯曲,可容许的形变非常之小。不同超导材料经常需要制备在不同基片之上,限制了混合使用不同超导材料的工作场合。因为固定在特定基片上,其可移植性、及与硅エ艺兼容性上都有一定的限制。这些缺陷进一歩限制了基于超导薄膜的相关器件的应用场合。
技术实现思路
专利技术目的针对上述现有技术存在的问题和不足,本专利技术的目的是提供,可以制备出厚度(微米量级)可控的柔性超导薄膜,并且聚酰亚胺层方便进行进ー步微加工操作(如通过刻蚀等エ艺制备谐振腔),可以制备更复杂的超导器件,扩大超导薄膜及器件的应用场合和范围。技术方案为实现上述专利技术目的,本专利技术采用的技术方案为ー种制备柔性超导薄膜的方法,包括如下步骤(I)清洗基片,去除基片表面的有机污染物;(2)在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜并进行固化;(3)在涂覆聚酰亚胺膜的基片上溅射氮化本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备柔性超导薄膜的方法,包括如下步骤:(1)清洗基片,去除基片表面的有机污染物;(2)在所述基片上涂覆聚酰亚胺膜并进行固化;(3)在涂覆聚酰亚胺膜的基片上溅射氮化铌超导薄膜;(4)去除基片:将基片和聚酰亚胺膜剥离。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:贾小氢梁兰菊金飚兵康琳吴培亨
申请(专利权)人:南京大学
类型:发明
国别省市:

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