【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于微纳制造
，特别涉及一种以时间基准为参照的精密光栅高精度制造方法。该方法主要用于精密光栅的制造，包括圆光栅、长光栅、面光栅等。
技术介绍
精密光栅是当今精密加工装备、精密测量、光学调制等的关键部件之一，广泛应用于能源、精密制造、航天探测、超精密光学工程等领域。目前，精密光栅的周期一般为500ηπΓ 0 μ m，槽型结构根据不同应用场合主要为矩形、正弦形、锯齿形、梯形等。随着超精密制造及超精密光学工程的进一步发展，对精密光栅制造的精度要求越来越高，光栅周期可延伸至10nm，光栅结构的表面光洁度要求可达亚纳米级，这对现有的光栅制造方法提出了严重挑战。目前，精密光栅制造方法主要有机械刻划加工、激光干涉加工技术、光学光刻加工等方法。上述制造技术中光栅纳米结构的成形都是基于长度为基准进行度量，并以此来控制加工过程中的各个参数，如加工时长、能量密度、加工速度等。这与传统的宏观机械加工在理念上是一致的。以长度为基准的微纳加工手段，难以实现纳米级、亚纳米级精度的制造。1983年10月在巴黎召开的第十七届国际计量大会上通过了长度标准单位-米的新定义“米是1/2...
【技术保护点】
以时间基准为参照的精密光栅制造方法，其特征在于，包括如下步骤：1)清洗待加工工件；2)时间映射长度的转换：根据待加工工件的结构参数、工件的材料，对工件进行加工的高能束的脉宽、能量密度以及工件的进给速度，进行以时间为基准映射长度基准的转换，得到以时间为基准的纳米加工控制量：沟槽处连续加工脉冲数N1和高能束循环加工次数N2；3)根据脉冲数N1控制时钟开关的打开、根据高能束循环加工次数N2达到所需纳米结构的槽深，进行精密光栅的制造。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘红忠，蒋维涛，杨俊，丁玉成，卢秉恒，
申请(专利权)人：西安交通大学，
类型：发明
国别省市：
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