优化的电介质反射式衍射光栅制造技术

本发明专利技术涉及用于获得用于光束衍射的反射式衍射光栅的方法，该反射式衍射光栅包括至少四个平坦介电材料层的叠层，蚀刻上介电材料层以形成衍射光栅，上介电材料层的衍射周期是预先确定的，该方法实施以下步骤：选择包括被蚀刻层的介电材料层的数量和特性；在改变至少四个介电材料层的厚度和光栅的至少一个蚀刻参数的同时，针对属于用于每个预定衍射光栅结构的光谱范围的频率采样数字地计算至少一个衍射级中的反射效率和/或透射效率；以及基于决定于光栅的给定用途的标准从计算的结构中选择至少一个结构。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于获得反射式衍射光栅的方法。更具体地，本专利技术涉及可能获得在特定条件下使用的优化的电介质衍射光栅的方法。本专利技术还涉及通过该获取方法获得的光栅。优选地，但不排除其他技术，本专利技术涉及这种优化的光栅的获取以实施大功率激光束光谱色散。
技术介绍
衍射光栅是具有周期性间隔沟槽的光学器件。它具有大量取决于入射波长、入射角以及其周期的衍射级。在色散级中(不同于级O)，反射角取决于波长。 衍射光栅用于许多光学系统中，尤其用于通过频移放大激光脉冲。2. I用于脉冲式激光的频移放大的光栅的使用脉冲式激光或者脉冲激光可能在非常短的时间周期内(接近几皮秒(I(T12S)或者几飞秒(I(T15s))获得高瞬时功率。在这些激光中，超短激光脉冲在雷射介质(Iasingmedium)中被放大之前由激光腔生成。由于在极短的时间周期内传递脉冲能量，所以最初产生甚至具有低能量的激光脉冲产生高瞬时功率。为了可能提高脉冲激光的功率而没有损坏雷射介质的瞬时功率，已经考虑在放大脉冲之前进行暂时扩展，然后对其进行重新压缩。因此，用于激光介质中的瞬时功率可以相对于最终由脉冲激光发射的脉冲功率而降低。这种频本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：尼古拉斯·博诺，让保尔·尚巴雷，
申请(专利权)人：巴黎综合理工学院，国家科学研究中心，
类型：发明
国别省市：