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本发明涉及用于获得用于光束衍射的反射式衍射光栅的方法，该反射式衍射光栅包括至少四个平坦介电材料层的叠层，蚀刻上介电材料层以形成衍射光栅，上介电材料层的衍射周期是预先确定的，该方法实施以下步骤：选择包括被蚀刻层的介电材料层的数量和特性；在改变...
该专利属于巴黎综合理工学院;国家科学研究中心所有，仅供学习研究参考，未经过巴黎综合理工学院;国家科学研究中心授权不得商用。

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