一种激光分离加工光学晶体的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种激光分离加工光学晶体的装置，先在光学晶体的凸凹不平表面上沿激光分离加工的轨迹进行简单粗磨擦抛光，将表层的水解雾化层和杂质清除干净，形成了一条宽度大于激光入射光斑直径的透明轨迹；再将相同光学晶体材料的饱和溶液均匀涂抹到擦拭过的光学晶体表面，将光学晶体表面凸凹不平填平；最后采用激光沿着光学晶体饱和溶液的轨迹进行扫描分离加工。装置包括激光加工系统和涂液系统，激光聚焦装置、涂液装置、擦拭装置、抛光装置和打磨装置沿X轴方向依次安装在直线移动机构上。可获得无碎裂、分离精度高、分离加工口陡峭、分离面平滑切割且分离质量高的光学晶体薄片，并能有效抑制激光温度过高而导致的负面效应。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于激光加工应用
，具体涉及激光分离加工透明光学晶体的ー种装置，该方法尤其适合于未经专业抛光过的光学晶体坯件。
技术介绍
透明的光学晶体，如磷酸盐类的KDP、DKDP,磷酸钛氧钾(KTP)，三硼酸锂LiB305 (LBO)，还有 LiNb03 (LN)、KNb03 (KN)、磷酸ニ氢钾(KDP)、磷酸ニ氢胺、BaTi03 和Gd(Mo04)3等晶体长期以来一直被认为是很好的电光材料，在光电子技术中得到广泛的应用，是高功率驱动器中的倍频件和电光器件的重要材料，在非线性光学方面一直广泛用于光的倍频、和频、差频和混频等。尤其是KDP及DKDP —直是最早备受重视的功能晶体，透过波段为178nm 1.45μπι，属于负光性单轴晶，其非线性光学系数常作为标准与其他晶体比较。KDP晶体不但可以实现ニ、三、四倍倍频及染料激光实现倍频而且它还可以制造Q开 关。特别是特大功率激光在受控热核反应、核爆模拟的应用方而，大尺寸KDP是惟一已经采用的倍频材料，其转换效率高达80%以上。虽有新材料出现，但特大晶体的综合性能，仍以KDP为最优。需求大尺寸、高质量的KDP光学晶体，是我国自行研制核本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种激光分离加工光学晶体的装置，包括激光聚焦装置和直线移动机构，其特征在于，该装置还包括涂液系统，涂液系统包括打磨装置、抛光装置、擦拭装置和涂液装置，涂液装置用于在激光分离加工光学晶体表面涂相同光学晶体材料的饱和溶液，以直线移动机构的移动方向为X轴方向，激光聚焦装置、涂液装置、擦拭装置、抛光装置和打磨装置沿X轴方向依次安装在直线移动机构上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：段军，邓磊敏，曾晓雁，蒋明，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：实用新型
国别省市：