本发明专利技术涉及一种主轴轴承,其包含主轴(1)和轴承组件(2),该轴承组件将主轴(1)围绕旋转轴线(3)可旋转地支承,润滑剂传感器(4)探测轴承组件(2)的润滑剂并且对所述润滑剂进行化学分析。本发明专利技术此外涉及一种轴承组件、特别是用于主轴轴承的轴承组件,该轴承组件包含轴承(6,7)、特别是滚动轴承并且包含润滑剂传感器(4),所述轴承具有用于轴承(6,7)的润滑剂输入管路(11),所述润滑剂传感器探测轴承(6,7)中的润滑剂并且对所述润滑剂进行化学分析,其中润滑剂传感器包含通入轴承中的光导体(8,9),并且光导体(8,9)至少在部分区段上设置在润滑剂输入管路(11)中。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种根据权利要求I的主轴轴承以及一种根据权利要求3的轴承组件、特别是用于主轴轴承的轴承组件。
技术介绍
由实践已知主轴轴承,其支承主轴、特别是刀具主轴或作为工具台的组成部分的主轴,其中主轴可以达到直至大约30000转/分钟的高的转速。这样的主轴轴承包含一个主轴和一个轴承组件,其将主轴可旋转地支承。这样的轴承组件包含至少一个轴承,然而大多是两个或四个滚动轴承,其中这两个或四个滚动轴承按照串联式布置组合成各两个滚动轴承对。这样的主轴轴承的失效的通常的原因是在于轴承组件的所述至少一个轴承的不充分的润滑,特别是在于,润滑剂老化并且相应地通常必须被替换,然而特别是在主轴处于持续运行时润滑剂的准确的化学状态不能轻易地确定、特别是不能现场确定。在主轴轴承的 轴承组件的所述至少一个轴承中的润滑剂的样品取出是困难的,因为为此必须打开轴承组件的轴承,这在快速旋转的必须被非常良好地平衡的部件的情况下在可能引入的不平衡时必须进行后续调整。在实践中因此主轴轴承被供给一个润滑剂量,其显著高于实际需要的润滑剂消耗。
技术实现思路
因此,本专利技术的任务在于提供一种轴承组件、特别是用于主轴轴承的轴承组件,其可以实现改善的润滑剂供给。该任务根据本专利技术对于开头所述的主轴轴承这样解决,即设置润滑剂传感器,其探测轴承组件的润滑剂并且进行化学分析。这样的传感器例如由公开的文献DE 102007042254A1已知;该文献的内容在此被完全引用。润滑剂传感器包含红外传感器,其具有发射红外射线的发射器和对于红外射线灵敏的接收器。由传感器探测的测量位置(其被发射器照射并且其被反射的红外射线被接收器分析,特别是被分光地探测和分析)位于滚动轴承的内部,在两个轴承环之间,特别是与滚动轴承的两个轴承环之一上的滚动体滚道直接毗邻。在主轴轴承的情况下,润滑剂传感器探测和化学分析位于轴承组件中的润滑剂(大多情况下是润滑脂),例如在C-H-带和O-H-带或它们的组合模式的范围内,从而能够确定润滑剂的化学状态。因此此外可以预见,是否和何时需要更换润滑剂,特别是对于连续的润滑剂输入管路的情况此外可预见,是否单位时间中输送给轴承组件的润滑剂的量是足够的或必须要被提高或可以被降低。特别是可以估计通过润滑剂的质量确定的主轴轴承的使用寿命。就主轴轴承而言,因此优选规定,主轴轴承具有润滑剂供给装置,其具有至少一个润滑剂输入管路并且润滑剂供给装置的控制装置,该控制装置根据润滑剂传感器的测量值控制单位时间内输送给轴承组件的润滑剂的量。因此可以确保按需供给主轴轴承以润滑齐U,特别是可以阻止由于过高的润滑剂供给率导致的派起损失(PI an S chver I u S t)或阻止由于过低的润滑剂供给率导致的干运行的危险。在轴承组件、特别是对于用于主轴轴承的轴承组件的情况下,其中轴承组件具有轴承特别是滚动轴承,具有用于轴承的润滑剂输入管路以及润滑剂传感器,其探测和化学分析轴承中的润滑剂,其中润滑剂传感器具有通入到轴承中的光导体,上述任务特别是如此解决,即光导体至少在部分区段上地设置在润滑剂输入管路中。在此光导体可以在润滑剂输入管路中受保护地设置。对于轴承组件、特别是对于用于主轴轴承的轴承组件而言,其中光导体至少在部分区段上设置在润滑剂输入管路中,优选规定,设置两个输入管路,其在轴承中的排出口关于旋转轴线彼此基本上对置,并且设置所述至少一个润滑剂传感器的两个测量头,其设置在输入管路的两个排出口之间。这两个排出口使得润滑剂在轴承环的内部的侧面的关于旋转轴线对置的各位置上流出,这两个排出口关于旋转轴线在所述内部的侧面上错位大约 180°地布置。所述至少一个润滑剂传感器的测量头、特别是所述至少两个润滑剂传感器的每个润滑剂传感器的相应的测量头同样设置在轴承环的内部的侧面上,关于轴承环的旋转轴线基本上彼此对置并且相对于输入管路的排出口如此设置,使得它们相对于输入管路的排出口具有最大的距离。在此所述至少一个润滑剂传感器的测量头正好不探测刚进入轴承的润滑剂,而是探测轴承中的离开排出口最远并且因此老化最严重的那部分润滑剂。对于所述轴承组件、特别是对于用于主轴轴承的轴承组件而言,此外优选规定,润滑剂传感器探测这样的测量位置,其在滚动轴承的保持架上、特别是在保持架的侧面上设置。测量位置在此是在轴承内部的这样的位置,其被润滑剂传感器的红外发射器的照亮并且其特别是被反射的红外射线被润滑剂传感器的接收器探测和化学分析,即是在轴承的轴承内部的这样的位置,在该位置上关于润滑剂的化学状态的信息直接被获得,从而由在测量位置上的润滑剂的化学状态推断出轴承组件的整个轴承中的润滑剂的化学状态。测量位置在滚动轴承的保持架上、特别是在保持架的侧面上的设置在此使得将测量位置离开滚动体的工作面布置并且因此测量这样的测量位置,其相对于被持续滚过的且发生润滑剂持续混合的区域隔开距离。换而言之,使用过的润滑剂聚集在保持架上,从而积聚在保持架上的润滑剂对于轴承的整个轴承内部中的润滑剂的质量而言提供了良好的参考点。对于在具有至少两个轴承的轴承组件、特别是在用于主轴轴承的轴承组件中设置两个直接相邻的轴承时,优选规定,所述至少一个润滑剂传感器的光导体基本上设置在两个轴承之间的中心。在此光导体穿过相应的轴承的相应的侧面中的开口并且探测轴承内部中的尽可能远离工作面的测量位置,在工作面上发生刚输入的润滑剂与老的润滑剂的持续的彻底混合。就测量位置或光导体相对于所述至少一个润滑剂传感器的配置而言要注意,可以设置唯一的润滑剂传感器,其探测多于一个测量位置并且具有多于一个光导体。在这种情况下,由润滑剂传感器中的唯一的红外发射器发射的射线被分配到两个或多个光导体上,和/或在唯一一个接收器中探测和化学分析由多于一个测量位置辐射的红外射线。然而也可以规定,每个润滑剂传感器正好具有一个光导体,其将红外射线从相关的润滑剂传感器的红外发射器引导到测量位置并且将由测量位置辐射的红外射线引导到相应的润滑剂传感器中的接收器。如果而后要测量两个或多个测量位置,那么需要两个或多个彼此独立工作的润滑剂传感器,其相应的测量结果在开头所述的润滑剂供给装置的控制装置被集中考虑量和分析。本专利技术的其它优点和特征由从属权利要求和实施例的说明得出。附图说明本专利技术接下来借助于下面的附图进行详细描述和阐述。图I示出具有本专利技术的轴承组件的一个实施例的根据本专利技术的主轴轴承的一个实施例的不意图;图2部分地示出根据图I的实施例的局部“B”的透视图;并且图3示出图I的区域“Z”的放大视图。 具体实施例方式图I示出一个主轴轴承,其包含一个设计成轴的主轴I以及一个轴承组件2,其将主轴I围绕一个旋转轴线3可旋转地相对于在附图未示出的轴承接纳部支承。主轴I设置成工具台或工具的快速旋转的轴并且可以以水平布置或竖直布置、必要时以可偏转的布置进行支承。主轴I此外包含在附图未示出的夹盘。主轴轴承此外包含一个润滑剂传感器4,其探测轴承组件2中的润滑剂并且进行化学分析。轴承组件2包括四个轴承、特别是四个滚动轴承,它们中各两个组合成一个轴承对。两个轴承对沿着主轴I的旋转轴线3的方向沿着轴向彼此隔开并且基本上对称构成,从而仅仅详细描述第一轴承对5。第一轴承对5在此包含两个在轴向方向上、即在平行于旋转轴线3的方向上相邻的、即直本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:M·卡拉姆,R·艾德洛特,
申请(专利权)人:谢夫勒科技股份两合公司,
类型:
国别省市:
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