玻璃基板保持用膜体及玻璃基板的研磨方法技术

本发明专利技术涉及一种玻璃基板保持用膜体，通过借助双面胶粘片(34)将自吸附型片(32)粘贴在背板上而构成，并且玻璃基板吸附保持于所述自吸附型片上，其中，所述双面胶粘片由片状基材(38)和设置在该基材的两面上的粘合层(40、42)构成，所述粘合层以在所述基材的同一面内各自形成预定间隙(B””、B””)的方式设置，并且设置在所述基材的两面上的粘合层之间的间隙在粘合层的层叠方向上不重合。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于在加工玻璃基板时保持玻璃基板的。
技术介绍
对于应用于液晶显示器用途的玻璃基板而言，其表面的微小凹凸或起伏会导致图像产生变形，因此，使用研磨装置来除去该微小凹凸或起伏。作为这种研磨装置，本申请人在专利文献I中公开了ー种研磨装置，其中，通过将保持在研磨头上的玻璃基板推压到粘贴在研磨平台上的研磨垫上并且使研磨平台和研磨头进行相对旋转而对玻璃基板进行研磨。另外，专利文献I的研磨装置中，通过使玻璃基板吸附保持于安装在研磨头上的自吸附型保持用膜体上而将玻璃基板安装到研磨头上。 近来，随着液晶显示器用玻璃基板的大型化，用于使该玻璃基板吸附保持在研磨头上的保持用膜体的尺寸也正在大型化。该保持用膜体通过借助双面胶粘片将多孔性自吸附型片粘贴在背板上而构成，并且玻璃基板吸附保持在该自吸附型片上。对称为GlO的尺寸(3130mmX2880mm)的母玻璃基板进行研磨加工时，在用于保持该尺寸的玻璃基板的保持用膜体的制造中，对于自吸附型片和背板而言，能够使用现有的制造设备来制造尺寸与其对应的产品。但是，用于将自吸附型片胶粘到背板上的双面胶粘片无法使用现有的制造设备制造成单个产品，制造时需要新型设备投资，因而存在制造成本増大的问题。双面胶粘片具备在聚对苯ニ甲酸こニ醇酯等基材的两面上涂布有胶粘剂的粘合层。对于上述基材而言，也能够使用现有的制造设备来制造上述GlO尺寸的产品。但是，由于涂布面积过大，因此使用现有设备无法应对胶粘剂的涂布装置的要求。因此，以往使用至少两片现有尺寸的双面胶粘片将自吸附型片胶粘保持于背板上。作为自吸附型片，如专利文献2所示，可以例示作为由聚氨酯树脂形成的软质塑料片的聚氨酯片。专利文献2的聚氨酯片是通过在其表面层上形成多微孔、并且在表面层中含有水等液体从而利用渗入到表面层的多微孔中的液体的表面张カ将研磨垫胶粘到研磨平台上的聚氨酯片。但利用该聚氨酯片也能够使玻璃基板进行自吸附保持，因此，将其作为自吸附型片使用。另外，在使用多片双面胶粘片的现有的保持用膜体中，难以使相邻的双面胶粘片的端部彼此以无间隙的方式进行粘贴。图8示出了借助两片双面胶粘片2A、2B将自吸附型片I贴合在背板3上并且玻璃基板G吸附保持在自吸附型片I上的保持用膜体6的截面图。为了使相邻的双面胶粘片2A、2B的端部彼此以无间隙的方式进行粘贴而使双面胶粘片2A、2B的端部以彼此稍稍重叠的方式进行胶粘吋，该重叠的部分会形成凸状，该凸状经由自吸附型片I转印到玻璃基板G上而形成凸状部4。在转印有凸状部4的状态下对玻璃基板G进行研磨吋，如图9所示，研磨后的玻璃基板G的形成有该凸状部4的部分会相反地表现为凹状部4A，因此，存在加工表面的平坦性受损、玻璃基板G的质量(平坦度)降低的问题。为了解决以上的问题，为了将大型玻璃基板研磨至期望的平坦度，如图10所示，需要使保持用膜体6具有厚度方向的间隙(A)和表面方向的间隙(B)。作为具有间隙(A、B)的保持用膜体，想到了下述构成的保持用膜体。如图11所示，以在同一面内形成预定间隙(A’、B’ )的方式使用多片小尺寸的保持用膜体6、6，由此得到大尺寸的保持用膜体7。如图12所示，将自吸附型片I作为单个产品并且以在同一面内形成预定间隙(A”、B”)的方式使用多片双面胶粘片2C、2D，由此得到大尺寸的保持用膜体8。如图13所示，将自吸附型片I作为单个产品并且以在同一面内形成预定间隙 的方式使用多片双面胶粘片2E、2F，并且形成如下构成在将两片双面胶粘片重叠的同时使上下两片各双面胶粘片2E、2F之间的间隙(A”’、B”’ )在双面胶粘片的层叠方向上不重合，由此得到大尺寸的保持用膜体9。现有技术文献专利文献专利文献I :日本特开2004-122351号公报专利文献2 :日本特开2007-7824号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题但是，图11所示的保持用膜体7中，鉴于制作误差而难以缩小间隙(B’ )。因此，保持用膜体7中存在与保持用膜体7的厚度相应大小的间隙(A’ )和间隙(B’)，因此，如图14所示在与该间隙(A’、B’ )的位置对应的玻璃基板上出现较大的凸状部4B。因此，该保持用膜体7难以提高研磨后的玻璃基板的质量。另外，图12所示的保持用膜体8的间隙(A”)与图11所示的保持用膜体7的间隙(A’ )相比，存在与自吸附型片I的厚度对应程度的减小，而鉴于制作误差仍难以减小间隙(B”)。另外，由于研磨时玻璃基板与研磨垫的摩擦阻力，使自吸附型片I在表面方向上延伸，因此使间隙(B”)増大。因此，对于该保持用膜体8而言，也会在玻璃基板上出现较大的上述凸状部4B(參考图14)，因此，难以提高研磨后的玻璃基板的质量。图13所示的保持用膜体9能够利用两片重叠配置的双面胶粘片2E、2F的各基材2G、2H的強度而将自吸附型片I在表面方向上的延伸抑制到小于图12所示的保持用膜体8的延伸。但是，如图13所示将双面胶粘片2E、2F两片重叠时，两个间隙(A”’ )的相加值达到图12的保持用膜体的间隙(A”)的2倍，另外，鉴于制作误差也难以缩小间隙(B”’)。因此，该保持用膜体9也难以提高研磨后的玻璃基板的质量。本专利技术鉴于上述情况而完成，其目的在于提供能够提高研磨后的玻璃基板的质量的。用于解决问题的手段本专利技术提供ー种玻璃基板保持用膜体，通过借助双面胶粘片将自吸附型片粘贴在背板上而构成，并且玻璃基板吸附保持于上述自吸附型片上，其中，上述双面胶粘片由片状基材和设置在该基材的两面上的粘合层构成，上述粘合层以在上述基材的同一面内形成预定间隙的方式设置，并且设置在上述基材的两面上的粘合层之间的间隙在粘合层的层叠方向上不重合。根据本专利技术的保持用膜体，能够利用与自吸附型片相同尺寸的双面胶粘片的基材来抑制研磨加工时自吸附型片在表面方向上的延伸。另外，本专利技术的保持用膜体的间隙(B””’)与前述的图12、图13的保持用膜体8、9的间隙大致相同。但是，本专利技术的保持用膜体的间隙(A””’ )与设置在基材的两面上的粘合层的厚度相当，因此，与图11 图13的保持用膜体7、的间隙(Α’Γ(Α”’)相比大幅减小。因此，根据本专利技术的保持用膜体，与保持用膜体7、相比，能够提高研磨后的玻璃基板的质量。由这种保持用膜体保持而进行研磨的玻璃基板，由于在上述间隙被转印的状态下进行研磨而在其表面上形成凸状部。但是，根据本专利技术的保持用膜体，由于设置在上述基材的两面上的粘合层之间的上述间隙在粘合层的层叠方向上不重合，因此，能够抑制间隙所致的转印量。因此，根据本专利技术，能够将形成在玻璃基板的表面上的凸状部的高度抑制在较低水平，因此，能够更进一步地提高研磨后的玻璃基板的质量。 本专利技术以用于吸附保持大型玻璃基板的保持用膜体作为对象。因此，本专利技术的一片自吸附型片和双面胶粘片的基材的尺寸可以应对大型玻璃基板的尺寸。另外，双面胶粘片的粘合层的尺寸为现有涂布装置所能涂布的最大尺寸以下。另外，根据本专利技术，优选上述玻璃基板的尺寸为3130 (mm) X2880 (mm)以上。S卩，本专利技术的保持用膜体可保持尺寸为称为GlO尺寸的尺寸以上的玻璃基板，从而对该玻璃基板进行研磨。另外，根据本专利技术，优选上述保持用膜体的尺寸为3200(mm)X3000(mm)以上。为了保持上述GlO尺寸以上的玻璃基板，优选本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.03.30 JP 2010-0779341.一种玻璃基板保持用膜体，通过借助双面胶粘片将自吸附型片粘贴在背板上而构成，并且玻璃基板吸附保持于所述自吸附型片上，其中， 所述双面胶粘片由片状基材和设置在该基材的两面上的粘合层构成， 所述粘合层以在所述基材的同一面内各自形成预定间隙的方式设置，并且 设置在所述基材的两面上的粘合层之间的间隙在粘合...

【专利技术属性】
技术研发人员：古田充，横田稔，笹森孝，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，富士纺控股株式会社，
类型：
国别省市：