一种纳米晶铁-镍-铬合金箔的电沉积制备方法技术

本发明专利技术公开了一种纳米晶铁-镍-铬合金箔的电沉积制备方法，属于电沉积合金领域，是采用电化学沉积的方法在硫酸盐-氯化物-三价铬水溶液体系中电沉积连续制备出纳米晶铁-镍-铬合金箔。本方法制取的合金箔工艺简单，电解液环保、稳定、废液易处理。合金箔中铬含量较高，其成分和厚度易于控制，表面光滑，具有优良的力学、电学、磁学及耐蚀性能，可部分替代不锈钢箔带等广泛应用于电子、通信、机电等工业领域，可作为优良的磁性材料、电池骨架材料和电磁屏蔽材料使用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术公开了，采用电化学沉积的方法在硫酸盐-氯化物-三价铬水溶液体系中连续制备出纳米晶铁-镍-铬合金箔。属于电化学沉积

技术介绍
关于铁-镍-铬合金电沉积的工艺及理论始于20世纪六、七十年代，在硫酸盐镀液体系中电沉积出铁-镍-铬合金镀层；到80年代中期发展较快，先后出现了氯化物、DMF水溶液以及氯化物-硫酸盐混合体系沉积铁镍铬合金镀层。但之前电沉积铁-镍-铬合金的相关研究主要集中于合金镀层的工艺探索和研究，而几乎没有涉及三元合金箔材的制备，这主要是由以下几点造成的(I)三元合金共沉积电化学过程十分复杂，影响因素较多；(2)合金中铬含量提高，由于晶格畸变造成内应力显著增大，内应力可通过镀层的微裂 纹释放部分，其他的则向基体释放，但合金箔由于与基体结合较弱，内应力只能在合金箔中释放，因此常导致合金箔开裂而使实际生产受限；(3)另外三价铬电沉积虽然较六价铬的环保，但由于三价铬易于与水形成稳定的配位化合物，造成其还原困难且沉积速度慢，所报道的电沉积的铬合金镀层厚度一般不超过十微米，很难像箔材一样与基体分离，因此铁-镍-铬合金镀层的制备与铁-镍-铬合金箔材的制备相差甚远。本专利本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种纳米晶铁？镍？铬合金箔的电沉积制备方法，其特征在于：采用硫酸盐？氯化物？三价铬盐水溶液体系作电解液，以金属钛为阴极，表面均布有金属氧化物的钛板为催化阳极，沉积电源为直流电源或脉冲电源；沉积工艺条件为：温度35~70℃，电解液pH值0.5~4；电解液包括下述组分，按质量体积浓度（g/L）组成：FDA00002189463900011.jpg

【技术特征摘要】
1.一种纳米晶铁-镍-铬合金箔的电沉积制备方法，其特征在于采用硫酸盐-氯化物-三价铬盐水溶液体系作电解液，以金属钛为阴极，表面均布有金属氧化物的钛板为催化阳极，沉积电源为直流电源或脉冲电源；沉积エ艺条件为 温度35 70°C，电解液pH值O.5 4 ;电解液包括下述组分，按质量体积浓度(g/L)组成Ni SO4-6 H2O 50 200NiCi2AH2O20-50FeSO4OH2O20-100 CrCl.v6H2010-90 H3BO320 45氨基乙酸10-30 尿素2 50 抗坏血酸2 50糖精5 50 十二烷基硫酸钠0.1-0.5 ο2.根据权利要求I所述的ー种纳米晶铁-镍-铬合金箔的电沉积制备方法，其特征在于采用直流电源沉积时，阴极电流密度6 25A/dm2。3.根据权利要求I所述的ー种纳米晶铁-镍-铬合金箔的电沉积制备方法，其特征在于采用脉冲电源沉积吋，阴极电流密度6 30A/dm2，脉冲周期f 100ms，占空比为O. Γθ. 5。4.根据权利要求2所述的ー种纳米晶铁-镍-铬合金箔的电沉积制备方法，其特征在于在温度60°C，电解液pH值1 2，阴极电流密度15A/dm2，沉积时间为45飞Omin，电解液组分为=NiSO4 · 6H2050 200g/L，NiCl2 · 6H2020 50g/L，FeSO4 · 6H2020 100g/...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓姝皓，刘晗，叶晓慧，龚竹青，
申请(专利权)人：中南大学，
类型：发明
国别省市：