【技术实现步骤摘要】
本专利技术本专利技术属于界面化学领域，更特别地说，是指一种在胶带表面制作微纳米 结构的超疏水防冰薄膜的方法。
技术介绍
防冰表面的制备方法有很多，包括水热法、电子束刻蚀法等。这些方法都对材料有 着非常高的要求，例如在制备过程中基底材料需要耐受高温，很少有方法提到避免高温过 程能够制备出超疏水、防冰表面的。近年来，有一些文献通过在钢板或者是硅片表面制备微 纳米结构。但是在这个制备过程中，都需要对基底进行高温处理，例如钢板表面要做晶种 就需要400°C左右的高温，而离子刻蚀技术的基底需要耐受一千多度的高温，在这样的条件 下，一般的高分子材料是不能承受的。而且这些技术都需要高耗能、高成本，所以这都大大 限制了这些方法在工业上的应用。针对上述存在的问题，本专利技术做到了不需要大型设备、简 单、易实现。
技术实现思路
针对当前在防覆冰领域中所存在的问题，本专利技术涉及一种全新的制备技术。目的 是通过这种制备技术，去解决胶带表面的微纳米结构问题。从而为超疏水、防冰领域提供更 好的基底材料。传统的防覆冰材料对材料本身有严格的要求。本技术通过...
【技术保护点】
一种在胶带表面制作微纳米结构的超疏水防冰薄膜的方法，其特征在于包括有下列步骤：第一步，缓冲材料的制备：将石墨和醋酸锌溶液进行混合，得到混合溶液；将混合溶液置于温度为75℃的干燥箱中4小时后，再置于马弗炉内300～400℃高温煅烧并保温1小时，取出后，制备成纳米级粉末；所述混合溶液中石墨与醋酸锌的质量比为3:1～10:1；第二步，材料表面的修饰：先将所需要生长ZnO的PVDF与缓冲材料进行混合均匀，然后将表面得到了修饰的PVDF铺展在胶带表面，形成基底组合材料；所述基底材料与缓冲材料的质量比为2:1～20:1；第三步，制备ZnO阵列：将基底组合材料放入到反应釜内，加入含有Zn...
【技术特征摘要】
1. 一种在胶带表面制作微纳米结构的超疏水防冰薄膜的方法，其特征在于包括有下列 步骤： 第一步，缓冲材料的制备： 将石墨和醋酸锌溶液进行混合，得到混合溶液； 将混合溶液置于温度为75°c的干燥箱中4小时后，再置于马弗炉内300?400°C高温 煅烧并保温1小时，取出后，制备成纳米级粉末； 所述混合溶液中石墨与醋酸锌的质量比为3:1?10:1 ; 第二步，材料表面的修饰： 先将所需要生长ZnO的PVDF与缓冲材料进行混合均匀，然后将表面得到了修饰的PVDF 铺展在胶带表面，形成基底组合材料； 所述基底材料与缓冲材料的质量比为2:1?20:1 ; 第三步，制备ZnO阵列： 将基底组合材料放入到反应釜内，加入含有Zn2+的生长液，在85?90°C条件下保温反 应10?12小时。待反应釜冷却后取出，基底组合材料表面长满规则的ZnO阵列，得到微纳 米复合结构的ZnO阵列排布的纳米棒； 所述的含有Zn2+的生长液为硝酸锌或醋酸锌； 第四步，表面疏水处理： 把微纳米复合结构的ZnO阵...
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