微纳米结构直写装置制造方法及图纸

微纳米结构直写装置，涉及一种亚微米线宽的聚合物材料直写装置。提供一种基于“近场静电纺丝”技术，实现高分子材料或具有一定粘性材料的快速直写，最小直径／线宽可低于３００ｎｍ／２０μｍ，突破了喷印技术的线宽限制，应用范围更加广泛的微纳米结构直写装置。设有微探针控制平台、集成高压静电电源、流量控制器、Ｘ－Ｙ平台、探针和ＣＣＤ显微镜；集成高压静电电源用于为探针提供电压，集成直流高压电源的正极接探针，负极接地；流量控制器固定在微探针控制平台上，流量控制器由管道连接探针；探针作为材料直写的喷丝头，探针安装于微探针控制平台上；显微镜用于观察静电纺丝过程及材料写入图形的效果，显微镜设于微探针控制平台上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种基于静电纺丝技术的微、纳米尺度的材料或图案的直接喷写装置，尤其是涉及一种亚微米线宽的聚合物材料直写装置。
技术介绍
在微纳米器件的研究开发中，实现位置、方向与数量可控的纳米线(nanowire)、纳米管(nanotube)及纳米纤维(nanofiber)与微米结构(如微电极)的集成是制造纳米器件如纳米传感器、执行器的关键。纳米材料的研究取得了显著的成果并且呈现出广阔的商业化前景，已经取得了很好的经济效益。鉴于其特殊的优良物理和化学性质，低维纳米材料是构建纳米器件和纳米结构的基础材料，国内外大批学者纷纷投入到基于低维纳米材料的电子器件、光学器件、传感器、执行器及生物功能器件的研发与开发。西方国家预测7年后可能实现最具市场前景的纳米器件的产业化，这将是纳米技术产业化的又一新的突破。然而，如何操纵(或生长)位置、方向和数量可控的纳米线，纳米管及纳米纤维，实现其与微米结构(如微电极等)的集成，成为目前纳米器件研究的关键，是未来实现纳米器件产业化的必须解决的基础性关键技术。纳米操纵与微纳米结构集成技术已经成为近几年国际纳米器件技术研究的热点，但仍然处于起步阶段。相关研究主本文档来自技高网...

【技术保护点】
微纳米结构直写装置，其特征在于设有微探针控制平台、集成高压静电电源、流量控制器、Ｘ－Ｙ平台、探针和ＣＣＤ显微镜，微探针控制平台用于调节探针与写入基底之间的距离；集成高压静电电源用于为探针提供电压，集成直流高压电源的正极接探针，负极接地；流量控制器固定在微探针控制平台上，流量控制器用于材料的进给，流量控制器由管道连接探针；Ｘ－Ｙ平台用于在二维空间中精确的定位出材料写入的位置，实现二维空间图形的写入；探针作为材料直写的喷丝头，探针安装于微探针控制平台上；显微镜用于观察静电纺丝过程及材料写入图形的效果，显微镜设于微探针控制平台上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙道恒，王凌云，吴德志，林立伟，
申请(专利权)人：厦门大学，
类型：发明
国别省市：92[中国|厦门]