【技术实现步骤摘要】
本专利技术的实施方式涉及，例如涉及在涂敷对象物上涂敷材料而形成涂敷膜的。
技术介绍
在半导体等领域中，作为在基板上形成圆形状的膜的方法，有螺旋涂敷方法。该螺旋涂敷方法中，在圆形状的旋转工作台上固定圆盘状的基板，将涂敷喷嘴的喷出面与基板表面的距离(间隙)保持为规定的值，使该旋转工作台旋转，ー边用可控制流量的定量泵从涂敷喷嘴喷出材料，ー边使该涂敷喷嘴从基板中央向基板外周直线状移动，通过描绘螺旋 状(漩涡状)的涂敷轨跡来在基板的整个面上形成膜。基于螺旋涂敷的涂敷装置以及涂敷方法中，例如用与喷嘴一体设置的位移测量定距基板表面的距离，以使測定出的距离成为预先设定的值的方式调整喷嘴的高度方向的位置，由此进行控制(间隙控制)以使得喷嘴前端与基板表面的距离保持为一定。存在例如由于喷嘴的移动的再现性、尺寸偏差、喷嘴的热伸长等影响而导致喷嘴的喷出面的位置变化的情况，在这样的情况下，通过上述的技术难以高精度地控制间隙。
技术实现思路
ー种螺旋涂敷装置，具有工作台、旋转机构、涂敷喷嘴、移动机构部、喷嘴位置检测部以及位置调整部。工作台具有载置涂敷对象物的载置面。旋转机构使上述工作台在沿着上述...
【技术保护点】
一种螺旋涂敷装置，其特征在于，具备：工作台，具有载置涂敷对象物的载置面；旋转机构，使上述工作台在沿着上述载置面的旋转方向上旋转；涂敷喷嘴，对上述工作台上的上述涂敷对象物喷出材料而进行涂敷；移动机构部，使上述工作台和上述涂敷喷嘴在与上述旋转方向相交的交差方向上沿着上述载置面相对移动，并且能够使上述工作台和上述涂敷喷嘴在上述旋转的轴方向上相对移动；喷嘴位置检测部，检测上述旋转的轴方向上的上述涂敷喷嘴的底面的位置信息；以及位置调整部，根据上述涂敷喷嘴的位置信息，进行上述涂敷喷嘴与上述载置面在上述轴方向的位置调整。
【技术特征摘要】
2011.06.20 JP 136354/20111.ー种螺旋涂敷装置，其特征在于，具备 工作台，具有载置涂敷对象物的载置面； 旋转机构，使上述工作台在沿着上述载置面的旋转方向上旋转； 涂敷喷嘴，对上述工作台上的上述涂敷对象物喷出材料而进行涂敷； 移动机构部，使上述工作台和上述涂敷喷嘴在与上述旋转方向相交的交差方向上沿着上述载置面相对移动，并且能够使上述工作台和上述涂敷喷嘴在上述旋转的轴方向上相对移动； 喷嘴位置检测部，检测上述旋转的轴方向上的上述涂敷喷嘴的底面的位置信息；以及位置调整部，根据上述涂敷喷嘴的位置信息，进行上述涂敷喷嘴与上述载置面在上述轴方向的位置调整。2.如权利要求I所述的螺旋涂敷装置，其特征在干， 上述喷嘴位置检测部具备设置于上述工作台、測定到上述涂敷喷嘴的前端的位移的位移传感器。3.如权利要求I所述的螺旋涂敷装置，其特征在干， 上述喷嘴位置检测部具备设置于上述工作台的侧方、检测上述涂敷喷嘴的前端在上述轴方向的位置的线传感器。4.如权利要求3所述的螺旋涂敷装置，其特征在干， 具备工作台位移传感器，该工作台位移传感器与上述涂敷喷嘴一体地设置于上述移动机构部，与上述涂敷喷嘴一起移动，在与上述工作台对置的状态下测定距上述载置面的距离， 上述位置调整部根据上述喷嘴的位置信息、由上述移动机构部产生的上述喷嘴的移动的信息、以及由上述工作台位移传感器測定的距上述载置面的距离，进行上述位置调整。5.如权利要求4所述的螺旋涂敷装置，其特征在干， 该螺旋涂敷装置还具备检测上述喷嘴的温度的温度检测部， 上述位置调整部根据上述喷嘴的温度，算出上述喷嘴的热伸长量，执行对上述喷嘴与上述载置面在高度方向的位置关系进行修正的修正处理。6.ー种螺旋涂敷装置，其特征在于，具备 工作台，具有载置涂敷对象物的载置面； 旋转机构，使上述工作台在沿着上述载置面的旋转方向上旋转； 涂敷喷嘴，对上述工作台上的上述涂敷对象物喷出材料而进行涂敷； 移动机构，使上述工作台和上述涂敷喷嘴在与上述旋转方向相交的交差方向上沿着上述载置面相对移动； 温度检测部，检测上述涂敷喷嘴的温度；以及 位置调整部，根据上述涂敷喷嘴的温度，算出上述喷嘴的热伸长量，修正...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。