【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及激光束系统与带电粒子束系统的组合。
技术介绍
在多种应用中都使用带电粒子束系统,所述多种应用包括诸如集成电路、磁记录头和光刻掩膜的微型器件的制造、修理和检查。带电粒子束包括离子束和电子束。聚焦射束中的离子通常具有足以通过从表面物理地喷射材料来进行微加工的动量。由于电子比离子轻得多,所以电子束通常局限于通过在蚀刻剂蒸气与衬底之间引发化 学反应来去除材料。离子束和电子束两者都能用来以比用最好的光学显微镜能够实现的更大的放大倍率和更高的分辨率来对表面进行成像。使用镓液态金属离子源(LMIS)的离子束系统由于其能够以高精确度进行成像、铣肖|J、沉积和分析而被广泛用于制造操作中。使用镓液态金属离子源(LMIS)的FIB系统中的离子柱例如能够提供五至七纳米的横向分辨率。由于离子束即使在被用来成像时也趋向于损坏样本表面,所以常常在双束系统中将离子束柱与电子束柱組合。此类系统常常包括能够以对目标的最小损坏提供高分辨率图像的扫描电子显微镜(SEM)和能够用来修改エ件并形成图像的诸如聚焦或被塑形射束系统的离子束系统。包括液态金属聚焦离子束和电子束的双束系统是众所周知的 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:M斯特劳,MW乌特劳特,NW帕克,
申请(专利权)人:FEI公司,
类型:发明
国别省市:
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