【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种产品制备方法及系统，特别涉及一种及系统。
技术介绍
随着技术的发展，各类科技含量高的产品也应运而生。对于大多数高科技产品，其在制备之前，都需要经过精密设计，以满足实际需求。例如，应用于核共振成像系统的超磁导体，由于超导线的成本很高，如何设计磁体使得这些超导线的利用率最大化就变得尤为重要。通常，超导磁体被分成数个线圈，这些线圈的几何尺寸和位置都很难确定，而且它们的数值变化对磁体效果很敏感。此外，在最小化成本同时又还必须确保磁体均匀度、5高斯线、临界场等满足特定要求.故此，如何基于这些非线性约束条件来获得相关参数的全局 优化解，以便能根据该全局优化解来制备出相应的超导磁体，对于超导磁体制备企业来说格外关键。在现有超导磁体设计中，参数优化主要有以下几种方式I、在申请号为WO 2006/065027的专利文献中，提出了分两步来进行磁体设计，第一步利用以往经验对涉及磁体结构的有关参数进行优化，第二步，以线圈应力为条件对涉及磁体稳定性的有关参数进行优化。此方法的弊端在于需要借助以往的磁体设计经验，而且所获得的优化解往往只是局部最优解，效率较低。2、采用基因...
【技术保护点】
一种基于参数优化来制备产品的方法，其特征在于包括步骤：1)基于待优化的参数的优化目标、及约束条件形成以待优化的参数为自变量的拉格朗日函数；2)对所述拉格朗日函数，采用自适应退火算法进行参数的优化，以获得待优化的参数的优化解；3)基于所获得的待优化的参数的优化解来制备相应产品。
【技术特征摘要】
1.一种基于参数优化来制备产品的方法，其特征在于包括步骤 1)基于待优化的参数的优化目标、及约束条件形成以待优化的参数为自变量的拉格朗日函数； 2)对所述拉格朗日函数，采用自适应退火算法进行参数的优化，以获得待优化的参数的优化解； 3)基于所获得的待优化的参数的优化解来制备相应产品。2.如权利要求I所述的基于参数优化来制备产品的方法，其特征在于对于待优化的参数X = (X1, X2. . . Xn),其中，Ai≤Xi≤Bi, i = 1,2......η,优化目标为最小化f (Xi X2- · · Xn)，约束条件包括h(x) = Di1(X) , h2 (x) , . . . hm(x) ] = O 及 g(x) = Iig1(X)，g2(x), · · · gjx)]≤ 0,则形成的拉格朗日函数为L(x, λ ) = f (χ)+Η(χ, λ )+G (χ, λ),其中，3.如权利要求I所述的基于参数优化来制备产品的方法，其特征在于对于待优化的参数x = (X1, X2. . . Xn),其中，Ai≤Xi≤...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨绩文，张强，
申请(专利权)人：上海联影医疗科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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