【技术实现步骤摘要】
本技术属于电子
,涉及ー种透光电容屏。
技术介绍
随着电子技术的发展,目前对于各种显示设备的要求也越来越高,这里主要是包括电阻式屏、压电式屏以及电容式屏,由于电阻式屏需要依靠物理力使之产生信号,在长时间使用后性能较差,而压电式屏成本较大,电容式屏是依靠人体的电场、手指以及工作面形成耦合电容产出可侦测信号,现在的应用面也越来越广,但是现有的电容屏由于各层之间存在着液态高分子材料或间隔颗粒之间含有空气,大大降低了透光率。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是针对现有技术的现状,而提供一种结构简单,屏幕轻薄,透光率高的透光电容屏。本技术解决上述技术问题所采用的技术方案为一种透光电容屏,其特征是包括由上至下依次叠加而成的基板层、第一导电层、隔离层、第二导电层、屏蔽层以及金属层,所述的第一导电层和第二导电层上蚀刻有多条上下相错X迹线和Y迹线,其中X迹线组成第一电容,Y迹线组成第二电容,所述的金属层将上述的X迹线或Y迹线连接起来后并连接到控制电路上,所述的屏蔽层屏蔽第一导电层和第二导电层对金属层的电压干扰。为优化上述方案采取的措施具体包括在上述的一种透光电容屏中,所述的隔离层为ニ氧化硅层,且隔离层的厚度为150 300埃米。在上述的一种透光电容屏中,所述的第一导电层和第二导电层为氧化铟锡层。与现有技术相比,本技术的优点在于克服了原有各层存在着液态高分子材料或间隔颗粒造成的屏幕透光率不佳等问题,整个电容屏不仅结构简単,而且轻薄,这里通过屏蔽层能够屏蔽电压信号的干扰。附图说明图I是本技术的整体结构示意图。具体实施方式以下是本技术的具体实施例并结合附图,对本技术的技 ...
【技术保护点】
一种透光电容屏,其特征是:包括由上至下依次叠加而成的基板层(1)、第一导电层(2)、隔离层(3)、第二导电层(4)、屏蔽层(8)以及金属层(5),所述的第一导电层(2)和第二导电层(4)上蚀刻有多条上下相错X迹线(6)和Y迹线(7),其中X迹线(6)组成第一电容,Y迹线(7)组成第二电容,所述的金属层(5)将上述的X迹线(6)或Y迹线(7)连接起来后并连接到控制电路上,所述的屏蔽层(8)屏蔽第一导电层(2)和第二导电层(4)对金属层(5)的电压干扰。
【技术特征摘要】
1.一种透光电容屏,其特征是包括由上至下依次叠加而成的基板层(I)、第一导电层⑵、隔离层(3)、第二导电层(4)、屏蔽层⑶以及金属层(5),所述的第一导电层⑵和第ニ导电层(4)上蚀刻有多条上下相错X迹线(6)和Y迹线(7),其中X迹线(6)组成第一电容,Y迹线(7)组成第二电容,所述的金属层(5)将上述的X迹线(6)或Y迹线(7)连...
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