本发明专利技术公开了一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构，其特征在于：包括线圈（1），线圈（1）开口端为下方，线圈（1）碗底端为上方，线圈（1）上方开有二个或二个以上的凹槽（2），凹槽（2）与线圈（1）侧壁上的斜槽（3）连接，斜槽（3）沿线圈（1）圆周向上旋转，线圈（1）下方的表面为完整圆环。本发明专利技术通过线圈开槽的变化，保持了线圈本身的完整性，增强线圈强度，减少了变形，使得焊接造成的形变影响变小，避免形变造成接触电阻偏大的影响；并且通过改变触头与线圈定位方式，提高了定位的可靠性，并且使得装配过程更加简便快速，真空灭弧室的质量也得到提高。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构，属于真空灭弧室
技术介绍
真空灭弧室是真空开关的关键原件，担负着控制电弧的任务，电路的切断与关合都靠真空灭弧室中的线圈触头来完成，如图5是现有的小型真空灭弧室中，以触头座开口端为上方，其灭弧所用的杯状纵磁触头的触头座线圈构成包括一个触头座，圆环上方开有凹槽，凹槽下开有沿圆环圆周旋转的斜槽，斜槽为贯通结构，在加工及焊接过程中，容易发生端面变形影响焊接质量，造成接触电阻偏大，影响开断效果
技术实现思路
本专利技术的目的在于 提供一种新的真空灭弧室用的触头座线圈，杯状圆环表面为完整圆环，无开槽，新型触头座线圈结构提高了与触头焊接面的表面质量，使后期装配焊接性能得到有效改善，提高产品的一次合格率。本专利技术是这样构成的一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构，包括线圈，线圈开口端为下方，线圈碗底端为上方，线圈上方开有二个或二个以上的凹槽，凹槽与线圈轴线呈一斜角，凹槽与线圈侧壁上的斜槽连接，斜槽沿线圈圆周向上旋转，线圈下方的表面为完整圆环。上述所述斜槽与线圈下方圆环表面的距离为0. 5_3mm。上述线圈上方表面设有一个或一个以上的定位凸块，触头上开有和线圈上定位凸块个数相同，位置对应的定位凹槽，通过定位凸块和定位凹槽的配合达到触头和线圈定位。上述线圈碗型结构内连接加强筋，线圈圆环表面和杯托连接，杯托中心和加强筋连接。与现有技术相比，本专利技术在原结构上从线圈碗底开始开槽，斜槽为非贯通结构，斜槽离下方圆环表面距离为0. 5-3mm，这样就保留了圆环表面本身的完整度，使得线圈本身与触头的接触面平面度提高，在加工及焊接过程中，由于杯状圆环本身坚固性变强，减少了变形的可能性，使得焊接造成的形变影响变小，避免形变造成接触电阻偏大影响开断效果，同时由于定位方式的改变，定位准确度及精确度得到提高，从源头提高产品的合格率。附图说明附图I为本专利技术的结构示意 附图2为本专利技术线圈-触头装配示意 附图3本专利技术线圈结构示意 附图4为本专利技术触头结构示意 附图5为现有线圈结构示意图。附图中标记为1-线圈，2-凹槽，3-斜槽，4-定位凸块，5-触头，6-定位凹槽，7-加强筋，8-杯托。具体实施例方式一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构，如图I和2所示，该纵磁线圈结构由线圈I、触头5、加强筋7和杯托8组成。触头5和线圈I通过钎焊连接，触头5可以为开槽结构，也可以为非开槽结构，如图2和图3所示。线圈I和杯托8通过钎焊连接，力口强筋7安装在线圈I和杯托8之间，起增加强度的作用；线圈I为碗型构造，线圈I碗底开有二个或者二个以上的凹槽2，凹槽2与线圈I轴线呈一斜角，凹槽2与斜槽3相连，斜槽3加工时在线圈下方为非贯通，斜槽3下方与线圈I开口端表面的距离为0. 5-3毫米。装配时线圈I上方可以直接与触头5相连，线圈I下方通过杯托8与导电杆相连。这样线圈2开口端为完整的圆环结构，与触头的接触面平面度提高，在加工及焊接过程中，由于杯状圆环本身坚固性增加，减少了变形的可能性，使得装配过程更加简便快速，工作时由于触头系统本身的坚固度提高，使得真空灭弧室的使用寿命得到提高；触头5焊接面有一个或一个以上的定位凹槽6 ;线圈I碗底上有和触头5上定位凹槽6个数相同，位置对应的定位凸块 4;触头5与线圈I之间的定位通过触头5上定位凹槽6和线圈I的定位凸块4实现，提高了定位精度和可靠性，定位方式为点定位。权利要求1.一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构，其特征在于包括线圈(1)，线圈(I)开口端为下方，线圈(I)碗底端为上方，线圈(I)上方开有二个或二个以上的凹槽(2)，凹槽(2)与线圈(I)侧壁上的斜槽(3)连接，斜槽(3)沿线圈(I)圆周向上旋转，线圈(I)下方的表面为完整圆环。2.根据权利要求书I所述的一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构，其特征在于所述斜槽(3)与线圈(I)下方圆环表面的距离为0. 5-3mm。3.根据权利要求书I所述的一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构，其特征在于所述线圈(I)上方表面设有一个或一个以上的定位凸块(4)，触头(5)上开有和线圈(I)上定位凸块(4 )个数相同，位置对应的定位凹槽(6 )，通过定位凸块(4 )和定位凹槽(6 )的配合达到触头(5)和线圈(I)定位。4.根据权利要求书I所述的一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构，其特征在于所述线圈(I)碗型结构内连接加强筋(7)，线圈(I)圆环表面和杯托(8)连接，杯托(8)中心和加强筋(7)连接。全文摘要本专利技术公开了一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构，其特征在于包括线圈(1)，线圈(1)开口端为下方，线圈(1)碗底端为上方，线圈(1)上方开有二个或二个以上的凹槽(2)，凹槽(2)与线圈(1)侧壁上的斜槽(3)连接，斜槽(3)沿线圈(1)圆周向上旋转，线圈(1)下方的表面为完整圆环。本专利技术通过线圈开槽的变化，保持了线圈本身的完整性，增强线圈强度，减少了变形，使得焊接造成的形变影响变小，避免形变造成接触电阻偏大的影响；并且通过改变触头与线圈定位方式，提高了定位的可靠性，并且使得装配过程更加简便快速，真空灭弧室的质量也得到提高。文档编号H01H33/664GK102751131SQ201210258949公开日2012年10月24日 申请日期2012年7月25日 优先权日2012年7月25日专利技术者周吉冰, 康一, 张梅, 张毅, 陈志会 申请人:中国振华电子集团宇光电工有限公司(国营第七七一厂)本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构，其特征在于：包括线圈（1），线圈（1）开口端为下方，线圈（1）碗底端为上方，线圈（1）上方开有二个或二个以上的凹槽（2），凹槽（2）与线圈（1）侧壁上的斜槽（3）连接，斜槽（3）沿线圈（1）圆周向上旋转，线圈（1）下方的表面为完整圆环。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张毅，康一，周吉冰，张梅，陈志会，
申请(专利权)人：中国振华电子集团宇光电工有限公司国营第七七一厂，
类型：发明
国别省市：
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