用于连续基底的常压等离子处理的机器和方法技术

一种用于连续材料基底的常压等离子处理的机器，包括：用于进给基底（3）以沿着进给路径（A）移动其的装置（6）；至少两个电极（4），每个电极（4）定位在基底（3）的一个面（5）处，每个电极（4）面向基底（3）的相应的面（5），电势差可施加在两个电极（4）上，以产生放电；进给装置（6）包括至少一个第一辊（7）和一个第二辊（8），第一辊（7）和第二辊（8）与相应的电极（4）重合，并且每个辊作用于基底（3）的相应的面（5）上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于成行(线上，in-line)可渗透材料的基底(衬底，substrate)的常压等离子处理(atmospheric plasma treatment)的机器，即，能够通过电离气体处理由织物、非编织织物、纤维带、增强织物(例如玻璃纤维或碳纤维)或其他材料制成的基底的机器。等离子处理允许获得具有改进特性的可渗透材料(可透过材料，permeablematerial)的基底。特别地，此处理允许改进材料的特性，例如防水性、颜色和染料的吸收性、防缩绒特性(anti-felting properties)(在羊毛的情况下),等等。等离子处理还允许，在诸如非编织织物的特殊基底上使材料沉积在基底本身上。
技术介绍
现有技术的用于可渗透材料的基底的等离子处理的机器包括圆柱形空心辊筒。辊筒可围绕其自己的中心旋转轴线旋转，以传送待处理的基底。特别地，在机器操作过程中，基底部分地覆盖辊筒的外圆柱形表面。该机器包括覆盖辊筒的外圆柱形表面的第一电极。更详细地，在机器操作过程中，第一电极夹在辊筒和基底之间。该机器还包括面向第一电极并在辊筒之外的第二电极。在机器操作过程中，将待处理的基底定位在第一电极和第二电极之间。换句话说，第二电极部分地包围辊筒。第二电极包括多个圆柱形杆，每个杆自己的延伸主轴与辊筒的中心旋转轴线平行。该杆离辊筒的中心旋转轴线的距离相等。它们还彼此以相等的角度隔开。辊筒的圆柱形外表面具有允许气体从外部朝着辊筒中的内腔通过的开口。内腔与抽风机连接。在操作过程中，抽风机迫使气体从辊筒的外部移动至内部，从而在第二电极和第一电极的杆之间产生气流。特别地，在操作过程中，所述气流通过位于电极之间的基底。在操作过程中，两个电极上存在电势差，这会在第二电极和第一电极的杆之间产 生放电。这样，使在第一电极和第二电极之间移动的气体电离，在基底附近产生等离子体，并允许基底被处理。现有技术的用于可渗透材料的基底的等离子处理的机器具有明显的缺点。首先，辊筒的旋转使基底受到切向力，该切向力能够使其变形并拉断低阻力材料(例如纤维带)。另一个缺点是基底与第一和第二电极之间的不同距离。这会导致在基底的两个面上进行不均匀的处理。
技术实现思路
在本上下文中，形成本专利技术的基础的技术目的是，提出一种克服了现有技术的上述缺点的用于可渗透材料的基底的常压等离子处理的机器。特别地，本专利技术的目标是，提供了一种用于对切向力具有低阻力的可渗透材料的基底的等离子处理的机器。术语低阻力或低密度材料指的是，具有优选短纤维的松散且基本上不规则的编织的可渗透材料。本专利技术的另一个目标是，提出一种能够确保材料的两个面上具有相等特性的用于可渗透材料的基底的等离子处理的机器和方法。所指出的技术目的和所规定的目标基本上通过这样的机器和方法来实现，其是具有一项或多项所附权利要求中描述的技术特征的用于可渗透材料的基底的等离子处理的机器和方法。附图说明从遵循用于可渗透材料的基底的等离子处理的机器和方法的一个优选的、非限制性的实施方式的非限制性描述中，本专利技术的其他特征和优点是更显而易见的，如附图中所不，在附图中 -图I是根据本专利技术的用于连续材料的基底的等离子处理的机器的示意性侧视图；-图2是图I的机器的细节的示意性侧视图。具体实施例方式参考附图，数字I整体表示根据本专利技术的用于可渗透材料的基底3的等离子处理的机器。例如，基底3可由织物、非编织织物、增强织物(例如玻璃纤维或碳纤维)、纤维带等制成。机器I包括框架(结构，frame)，在该框架中形成至少一个用于基底3的常压等离子处理的操作室2。所述实施方式优选地包括多个连续(串联，in series)布置的室2。特别是参考图1，机器I包括三个室2。可以在室2中插入基底3，以执行常压等离子处理。实际上，每个室2容纳对等离子体产生来说所必需的气流。主气体优选地是空气，尽管气体可能是主气体与任何其他可用于待处理基底3的等离子处理的特殊气体(例如，活性气体(氮气、二氧化碳或其他前体类型的气体)，或惰性气体(氦气等)，或它们的混合物)的混合物。根据机器I的未示出的可替换实施方式，在下文中标为处理区域9的区域处，该机器包括相应的用于特殊(前体)气体的局部鼓风的装置。对于等离子体产生，机器I包括至少两个电极4，优选地插在每个室2中。特别地，每个电极4面向基底3的相应的面5。实际上，电势差施加在电极4上，以产生放电，这会使气体电离并在待处理基底3附近产生等离子体。机器I还包括用于基底3的进给装置(进料装置，feed means) 6，用于沿着进给路径A移动基底3。特别地，进给装置6包括至少一个第一辊7和一个第二辊8，优选地容纳在一个室2中。优选地，每个室2容纳相应的第一辊7和第二辊8。第一辊7和第二辊8与基底3的相应的相对面5接触。特别地，第一辊7和第二辊8以相反的方向旋转，优选地以相同的速度旋转，通过这样的方式，使得它们在基底3的两个面5上施加相等的进给作用(feed action)。术语“进给作用”指的是，辊7，8由于在辊的外表面和基底本身之间产生的静摩擦而与基底伴随(贴合，accompany),当沿着路径A进给基底3时,不会对其造成任何拉动。在所述实施方式中，第一辊7和第二辊8之间的距离有利地小于待处理基底3的厚度。所述距离优选地大于0. 4mm。有利地，第一辊7和第二辊8各自与相应的电极4重合(迭合，coincide)。由于此原因，使用由介电材料优选硅酮制成的涂层对第一辊7和第二辊8在它们的外圆柱形表面上进行涂覆。特别是参考图2，为了在第一辊7和第二辊8上产生上述电势差，将第一辊7与诸如交流发电机15的发电机连接，而将第二辊8与地电位连接。第一辊7和第二辊8各自具有相应的旋转轴线。旋转轴线优选地彼此平行。此外，将旋转轴线定位为，与用于基底3的进给路径A垂直。 更详细地，第一辊7和第二辊8是圆柱形的。第一辊7和第二辊8还具有50mm至90mm之间的相同直径，优选地是70mm。使用介电层涂覆辊7，8，使得它们可产生介质阻挡放电(Dielectric Barrier Discharge) (DBD)类型的放电。在所述实施方式中，机器I包括第一辊7的阵列和第二辊8的阵列。将所述阵列优选容纳在室2中。第一辊7的每个阵列和第二辊8的每个阵列在基底3的相应的面5上操作，以这样的方式，使得在多个位于每个第一辊7和第二辊8之间的放电区域9处产生等离子体。该阵列还在处理区域处的基底3上操作。通过存在于室2中的放电区域9的组合，形成该处理区域。该阵列还以这样的方式彼此一起在基底3上操作，以便沿着进给路径A移动基底3。机器I的进给装置6包括至少一个作用于所有第一辊和第二辊7，8上、驱动它们旋转的电机(未示出)。换句话说，每个第一辊7和第二辊8是电机驱动的，并以相同的速度旋转。有利地，这允许在基底3上均匀地施加所述进给作用。特别地，在整个处理区域上均匀地分配该进给作用，沿着进给路径A进给基底3。第一辊7的旋转轴线位于第一参考平面中，并优选相等地隔开。类似地，第二辊8的旋转轴线位于第二参考平面中，并优选相等地隔开。第一参考平面和第二参考平面彼此平行。在所述实施方式中，两个相邻第一辊7的两条旋转轴线之间的距离在第一辊7的直径的100%至150%之间。该距离优选地本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊利亚·库尔克，
申请(专利权)人：MERO股份公司，威尼托纳米科技股份合作公司，
类型：发明
国别省市：