一种投影光刻物镜制造技术

一种投影光刻物镜，把物面的图像聚焦成像在像面上，从物面开始沿光轴依次包括：一具有正光焦度的第一透镜组G11；一具有负光焦度的第二透镜组G12；一具有正光焦度的第三透镜组G13；以及一具有负光焦度的第四透镜组G14；其中，所述透镜组G11、G12、G13、G14满足以下关系：0.09＜|f2/f1|＜0.25，0.09＜|f3/f4|＜0.25，0.90＜|f3/f2|＜1.1，其中：f1：第一透镜组G11的焦距；f2：第二透镜组G12的焦距；f3：第三透镜组G13的焦距；f4：第四透镜组G14的焦距。本发明专利技术以较少数量的镜片，不包含非球面的简单结构，能够实现所需的微米级的分辨率，并且校正同等视场范围内畸变、像散、色差，为物方及像方留有更大的工作距离。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学
，特别是涉及一种半导体光刻装置的投影光刻物镜。
技术介绍
目前在半导体加工领域，微米级分辨率的投影光学系统需求日益增加。此类光学系统经常采用低数值孔径的I倍或接近I倍放大倍率设计。中国专利申请2010101309921公开了一种I倍放大倍率的投影光学系统。该专利使用gh线波段，为18片透镜结构，包含4片非球面，加工难度及成本都较高。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提出一种投影光刻物镜，能校正畸变、场曲、像散、轴向色差、倍率色差，并实现物像空间的双远心。使用gh线设计，保证足够的曝光光强同时，结构更简单，工作距离更大，大大降低加工难度和成本。本专利技术一种投影光刻物镜，把物面的图像聚焦成像在像面上，从物面开始沿光轴依次包括一具有正光焦度的第一透镜组Gll ; —具有负光焦度的第二透镜组G12 ;—具有正光焦度的第三透镜组G13 ;以及一具有负光焦度的第四透镜组G14;其中，所述透镜组G11、G12、G13、G14满足以下关系0. 09 < I fjfx I < 0. 250. 09 < I f3/f41 < 0. 250. 90 &l本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种投影光刻物镜，把物面的图像聚焦成像在像面上，从物面开始沿光轴依次包括：一具有正光焦度的第一透镜组G11；一具有负光焦度的第二透镜组G12；一具有正光焦度的第三透镜组G13；以及一具有负光焦度的第四透镜组G14；其中，所述透镜组G11、G12、G13、G14满足以下关系：？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？0.09＜|f2/f1|＜0.25？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？0.09＜|f3/f4|＜0.25？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？？0.90＜|f3/f2|＜1.1其中：f1：第一透镜组G11的焦距；f2：第二透镜组...

【技术特征摘要】
1.一种投影光刻物镜，把物面的图像聚焦成像在像面上，从物面开始沿光轴依次包括 一具有正光焦度的第一透镜组Gll 具有负光焦度的第二透镜组G12 ;—具有正光焦度的第三透镜组G13 ;以及一具有负光焦度的第四透镜组G14 ； 其中，所述透镜组611、612、613、614满足以下关系0. 09 < I fjfx I < 0. 250. 09 < I f3/f41 < 0. 250. 90 < f3/f2 < I. I其中f\ :第一透镜组GlI的焦距；f2 :第二透镜组G12的焦距；f3 :第三透镜组G13的焦距；f4:第四透镜组G14的焦距。2.如权利要求I所述的投影光刻物镜，其中 所述第一透镜组Gll由四片透镜构成，光焦度分别为负、负、正、正； 所述第二透镜组G12由三片透镜构成，光焦度依次为负、正、正； 所述第三透镜组G13由三片透镜构成，光焦度依次为负、正、正； 所述第四透镜组G14由四片透镜构成，光焦度依次为负、负、正、正。3.如权利要求2所述的投影光刻物镜，其中 所述第一透镜组Gll的第一透镜11为双凹式负透镜；第二透镜12为凹面面向物面的弯月式的负透镜；第三透镜13为凹面弯向物面的弯月式的正透镜；第四透镜14为双凸式正透镜； 所述第二透镜组G12的第一透镜15为双凹式负透镜，第二透镜16、第三透镜17为正透镜; 所述第三透镜组G13的...

【专利技术属性】
技术研发人员：武珩，刘国淦，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：