可调整高度的引线框架处理装置制造方法及图纸

技术编号:7865297 阅读:197 留言:0更新日期:2012-10-15 00:30
本实用新型专利技术公开了一种可调整高度的引线框架处理装置,包括槽体及支架,所述支架设置于槽体上方,其特征在于,所述支架与槽体之间设置有可水平移动的支撑架;所述支撑架为矩形框,支撑架套装在槽体外围且可沿水平方向移动;所述支架与支撑架通过运动换向装置传动连接;所述运动换向装置将支撑架水平移动转化为支架的上下运动。本实用新型专利技术中的可调整高度的引线框架处理装置,可以调整引线框架浸入电镀液或浸洗液内的高度。一套装置可适用于多种尺寸规格的引线框架,功能多样,节省生产成本。而且本实用新型专利技术结构简单,利用减速电机驱动,使用方便。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种可调整高度的引线框架处理装置
技术介绍
随着电子工业的发展,对电子元件的需求数量越来越多。为了满足日益增长的电子元件生产需要,电子元件生产的各个阶段的自动化操作成为提高供应数量的关键。另外,为节省人力成本,电子元件的自动化生产也成为重要因素之一。引线框架需要选择性地电镀某一部分或浸洗时,需要控制引线框架浸入电镀液内或浸洗液内的高度。电子工业需要使用的引线框架尺寸规格多样。同一生产商需要生产不同尺寸规格的引线框架。常用的一种方法是,根据引线框架不同的尺寸规格设计不同尺寸 的电镀槽或浸洗槽。不仅使用不便,而且生产成本高。
技术实现思路
本技术的第一个目的是为了克服现有技术中的不足,提供一种使用方便的可调整高度的引线框架处理装置。为实现以上目的,本技术通过以下技术方案实现可调整高度的引线框架处理装置,包括槽体及支架,所述支架设置于槽体上方,其特征在于,所述支架与槽体之间设置有可水平移动的支撑架;所述支撑架为矩形框,支撑架套装在槽体外围且可沿水平方向移动;所述支架与支撑架通过运动换向装置传动连接;所述运动换向装置将支撑架水平移动转化为支架的上下运动。优选地是,所述支撑架上表面设置有轨迹基板;轨迹基板沿水平方向的两端高度不同;支架下表面设置有导轮架;轨迹基板在随支撑架水平移动过程中与导轮架相配合驱动支架上下运动。优选地是,所述槽体上端设置有自槽体向外延伸的定位板;所述支撑架位于定位板下方且套装在槽体外围;所述定位板上设置有通孔;所述导轮架穿过通孔。优选地是,所述导轮架下端设置有可转动的导轮;所述导轮在轨迹基板水平运动过程中始终与轨迹基板的上表面接触。优选地是,所述的上表面为斜面。优选地是,所述延伸板上设置有定位套;支架上设置有滑轴;滑轴插入定位套内且可在定位套内滑动。优选地是,槽体上设置有自槽体向外延伸的支撑板,所述支撑板设置在延伸板下方;支撑板上设置有可转动的支撑轮,所述支撑架支撑在支撑轮上。优选地是,还包括驱动装置,驱动装置与支撑架传动连接;驱动装置驱动支撑架水平移动。优选地是,所述驱动装置与支撑架通过齿条与齿轮的组合传动连接;所述齿条与支撑架连接;所述齿轮安装于驱动装置的输出轴上。优选地是,所述驱动装置为减速电机。本技术中的可调整高度的引线框架处理装置,可以调整引线框架浸入电镀液或浸洗液内的高度。一套装置可适用于多种尺寸规格的引线框架,功能多样,节省生产成本。而且本技术结构简单,利用减速电机驱动,使用方便。附图说明图I为本技术结构示意图。图2为本技术侧视图。具体实施方式以下结合附图对本技术进行详细的描述·如图I、图2所示,可调整高度的引线框架处理装置,包括槽体1,槽体I为长方体结构,其具有用于容纳液体的容腔15。槽体I上端设置有自槽体I向外延伸的延伸板11。延伸板11可围绕槽体四周均设置;也可以对称地设置两块。本实施例设置四块。四块延伸板11分别设置在槽体I的一个壁上。四块延伸板11也可以相互连接以一个中空的矩形框的形式设置。延伸板11上设置有四个通孔12。四个通孔12按照矩形分布。每两个通孔12设置在对称设置的两个延伸板11的其中一块上。延伸板11下方设置有支撑板13,支撑板13自槽体I向外延伸。支撑板13可以与延伸板11以相同的形式设置。延伸板11与支撑板13具有一定的间隙。延伸板11与支撑板13均可用于支撑其它零部件。延伸板11上设置有四个轴套14。槽体I上方设置有支架2。支架2为中空的矩形框。支架2上对称设置有两个V型架21。支架2下表面设置有四个导轮架22。每个导轮架22穿过其中一个通孔12。每个导轮架22下端设置有一个可转动的导轮23。支架2下表面设置有四个滑轴(图中未示出)。每个滑轴插入一个轴套14内,且可在轴套14内滑动。轴套14与滑轴相配合在支架2上下移动过程中导向,防止支架2偏离位置。支撑架3为中空的矩形框。支撑架3套装在槽体I外围,且支撑架3与槽体I具有一定的间隙以使支撑架3可水平方向移动。支撑架3上设置有四个轨迹基板31 (图中示出两个)。四个轨迹基板31按照矩形分布。每个轨迹基板31沿水平方向的两端高度不同。其上表面32为斜面。在图2中,轨迹基板31左端高于右端。每个轨迹基板31设置在其中一个导轮23下方。在轨迹基板31随支撑架3水平移动的过程中,导轮23始终与轨迹基板31上表面32接触。由于轨迹基板31左端高于右端,因此,当导轮23位于轨迹基板31左端时,支架2的高度高于导轮23位于轨迹基板31右端时的高度。支撑架3上安装有齿条6。支撑架3支撑在四个可转动的支撑轮4(图中示出两个)上。四个支撑轮4按照矩形分布。每两个支撑轮4设置在对称设置的两个支撑板的其中一个上。每个支撑轮4通过一个轮轴41可转动地安装于一个轮架42上。支撑轮4可绕轮轴41转动。轮架42安装于支撑板13上。槽体I侧面设置有减速电机5。减速电机5的输出轴上安装有齿轮(图中未示出)。齿条6与齿轮啮合。减速电机5驱动齿轮转动,与之啮合的齿条6左右移动。减速电机5可正转也可反转,以使引线框架可向左和向右往复运动。本技术也可使用其它换向传动装置代替齿条与齿轮,只要能将减速电机5的输出驱动力方向转换为驱动支撑架3水平移动的力即可。本技术中,如图2所示,通过减速电机5驱动支撑架3水平方向左右往复移动,利用轨迹基板31左端与右端高度不同而使导轮23上下往复移动,进而可使支架2上下往复移动。从而可调整通过挂具挂在V型夹21上的引线框架浸入容腔15内的液体内的高 度。本技术中的实施例仅用于对本技术进行说明,并不构成对权利要求范围的限制,本领域内技术人员可以想到的其他实质上等同的替代,均在本技术保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.可调整高度的引线框架处理装置,包括槽体及支架,所述支架设置于槽体上方,其特征在于,所述支架与槽体之间设置有可水平移动的支撑架;所述支撑架为矩形框,支撑架套装在槽体外围且可沿水平方向移动;所述支架与支撑架通过运动换向装置传动连接;所述运动换向装置将支撑架水平移动转化为支架的上下运动。2.根据权利要求I所述的可调整高度的引线框架处理装置,其特征在于,所述支撑架上表面设置有轨迹基板;轨迹基板沿水平方向的两端高度不同;支架下表面设置有导轮架;轨迹基板在随支撑架水平移动过程中与导轮架相配合驱动支架上下运动。3.根据权利要求2所述的可调整高度的引线框架处理装置,其特征在于,所述槽体上端设置有自槽体向外延伸的定位板;所述支撑架位于定位板下方且套装在槽体外围;所述定位板上设置有通孔;所述导轮架穿过通孔。4.根据权利要求2或3所述的可调整高度的引线框架处理装置,其特征在于,所述导轮架下端设置有可转动的导轮;所述导轮在轨迹基板水平运动过程中始终...

【专利技术属性】
技术研发人员:王振荣黄春杰黄利松
申请(专利权)人:上海新阳半导体材料股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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