【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种含氟清洗液组合物的制备方法。
技术介绍
1、在芯片制造技术中，铜互联等离子刻蚀后残余物清洗液以含氟清洗液为主。随着技术节点的不断前进，越来越多的材料被引入，如钴、钛、钨、氮化钛等金属材料，以及低k介质材料等，进而对传统的含氟清洗液与多种材料的兼容性形成挑战。
2、等离子干蚀刻常用于在铜(cu)/低介电常数双镶嵌制造工艺中制造垂直侧壁沟槽和各向异性互连通路。随着技术节点发展至45nm及更小(比如28-14nm)，半导体设备尺寸的缩小使得达到通路与沟槽的精准轮廓控制更具挑战性。集成电路制造公司正在研究利用各种硬遮罩来改善对低介电常数材料的蚀刻选择性，从而获得更佳的轮廓控制。硬遮罩材料(例如ti、tin、氧氮化硅或其类似物)在发挥蚀刻保护作用后需移除，在移除硬遮罩材料的清洗工艺中，需对其他金属及介电材料进行保护，因此对传统的含氟清洗液与多种材料的兼容性形成挑战。
3、开发兼容性强的选择性移除硬遮罩的清洗液成为本领域亟待解决的一个问题。
技术实现思路
1、本专利技术所要解决的技术问题是克服现有的含氟清洗液选择性移除硬遮罩的缺陷，而提供一种含氟清洗液组合物的制备方法。采用本专利技术的含氟清洗液组合物的制备方法制得的含氟清洗液组合物可以高选择性地移除tin、tan、tinxoy、ti硬遮罩和包含上述物质的合金的硬遮罩，且对具有等离子刻蚀后残余物和灰化后残余物清洗效果佳。
2、本专利技术通过以下技术方案解决上述技术问题的。
3、本
4、所述的含氟清洗液组合物包括下述质量分数的组分：10-30％氧化剂、0.001-0.01％氧化型谷胱甘肽、0.001-0.25％半胱氨酸、氟化物、有机碱、螯合剂、缓蚀剂、羧酸铵、0.01％-1％eo-po聚合物l31、0.01％-2％1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-甲基苯并咪唑)和水，水补足余量；各组分质量分数之和为100％。
5、各组分的质量分数为各组分中的质量占所述的含氟清洗液组合物中所有组分总质量的质量百分比。
6、所述的含氟清洗液组合物的制备方法中，所述的混合优选将所述的组分中的固体组分加入到液体组分中，搅拌均匀，即可。
7、所述的含氟清洗液组合物的制备方法中，所述的混合的温度可为10-30℃。
8、所述的含氟清洗液组合物中，所述的氧化剂的质量分数可以为10-15％，例如10％或15％；还可以为15-30％，例如15％或30％。
9、所述的含氟清洗液组合物中，所述的氧化剂可以为本领域常规的氧化剂，较佳地为过氧化氢(h2o2)、n-甲基吗啉氧化物(nmmo或nmo)、过氧化苯甲酰、过氧单硫酸四丁铵、臭氧、氯化铁、高锰酸盐、过硼酸盐、高氯酸盐、过硫酸盐、过氧二硫酸铵、过乙酸、过氧化脲、硝酸(hno3)、亚氯酸铵(nh4clo2)、氯酸铵(nh4clo3)、碘酸铵(nh4io3)、过硼酸铵(nh4bo3)、高氯酸铵(nh4clo4)、高碘酸铵(nh4io3)、过硫酸铵((nh3)2s2o8)、亚氯酸四甲铵((n(ch3)4clo2)、氯酸四甲铵((n(ch3)4clo3)、碘酸四甲铵(n(ch3)4io3)、过硼酸四甲铵((n(ch3)4bo3)、高氯酸四甲铵((n(ch3)4)clo4)、高碘酸四甲铵((n(ch3)4io4)、过硫酸四甲铵((n(nh4)4s2o8)、过氧化尿素((co(nh2)2)h2o2)和过氧乙酸(ch3(co)ooh)中的一种或多种，优选过氧化氢、过氧化脲和过氧乙酸中一种或多种，更优选过氧化氢。
10、所述的含氟清洗液组合物中，所述的氧化型谷胱甘肽的质量分数可以为0.005％-0.01％，例如0.005％或0.01％。
11、所述的含氟清洗液组合物中，所述的半胱氨酸的质量分数可以为0.15-0.25％，例如0.15％或0.25％。
12、所述的含氟清洗液组合物中，所述的氟化物的质量分数可以为本领域常规用量，优选1.0-5.0％，例如1.0％、2.5％或5.0％。
13、所述的含氟清洗液组合物中，所述的氟化物可以为本领域常规的氟化物，优选为氟化氢、氟化铵、氟化钾、碱金属氟化物、四烷基氟化铵、氟硼酸、四氟硼酸铵、碱金属四氟硼酸盐、四氟硼酸四烷基铵和四氟硼酸三甲基氧鎓中的一种或多种，优选氟化氢。
14、所述的含氟清洗液组合物中，所述的有机碱的质量分数可以为本领域常规用量，优选1.0-5.0％，例如1.0％、2.5％或5.0％。
15、所述的含氟清洗液组合物中，所述的有机碱可以为本领域常规的有机碱，优选四甲基氢氧化铵(tmah)、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵(teah)、苄基三甲基氢氧化铵(btah)、胆碱、(2-羟基乙基)三甲基氢氧化铵、三(2-羟乙基)甲基氢氧化铵、单乙醇胺(mea)、二甘醇胺(dga)、三乙醇胺(tea)、异丁醇胺、异丙醇胺、四丁基氢氧化(tbph)鏻和四甲基胍中的一种或多种，更优选四甲基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵和胆碱中的一种或多种，最优选四甲基氢氧化铵。
16、所述的含氟清洗液组合物中，所述的螯合剂的质量分数可以为本领域常规用量，优选0.01-2.0％，例如0.01％、1.0％或2.0％。
17、所述的含氟清洗液组合物中，所述的螯合剂可以为本领域常规的螯合剂，优选1,2-环己二胺-n,n,n',n'-四乙酸(cdta)、乙二胺四乙酸(edta)、次氮基三乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、1,4,7,10-四氮杂环十二烷-1,4,7,10-四乙酸、乙二醇四乙酸(egta)、1,2-双(邻氨基苯氧基)乙烷-n,n,n',n'-四乙酸、n-{2-[双(羧甲基)氨基]乙基}-n-(2-羟乙基)甘氨酸(hedta)、乙二胺-n,n'-双(2-羟基苯乙酸)(eddha)、二氧杂八亚甲基二氮基四乙酸(docta)和三亚乙基四胺六乙酸(ttha)中的一种或多种，更优选1,2-环己二胺-n,n,n',n'-四乙酸和/或乙二胺四乙酸，最优选乙二胺四乙酸。
18、所述的含氟清洗液组合物中，所述的缓蚀剂的质量分数可以为本领域常规用量，优选0.01-2.0％，例如0.01％、0.5％或2.0％。
19、所述的含氟清洗液组合物中，所述的缓蚀剂可以是本领域常规的缓蚀剂，优选偕胺肟化的二氨基马来腈、甲苯三唑、5-苯基-苯并三唑、5-硝基-苯并三唑、3-氨基-5-巯基-1,2,4-三唑、1-氨基-1,2,4-三唑、羟苯并三唑、2-(5-氨基-戊基)-苯并三唑、1-氨基-1,2,3-三唑、1-氨基-5-甲基-1,2,3-三唑、3-氨基-1,2,4-三唑、3-巯基-1,2,4-三唑、3-异丙基-1,2,4-三唑、5-苯硫醇-苯并三唑、卤代-苯并三唑(卤素＝f、cl、br或本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种含氟清洗液组合物的制备方法，其特征在于，其包括如下步骤，将所述的含氟清洗液组合物中的各个组分混合，即得到所述的含氟清洗液组合物；
2.如权利要求1所述的含氟清洗液组合物的制备方法，其特征在于，所述的含氟清洗液组合物的制备方法中，所述的混合的方式为将所述的组分中的固体组分加入到液体组分中，搅拌均匀；
3.如权利要求1所述的含氟清洗液组合物的制备方法，其特征在于，所述的含氟清洗液组合物中，所述的氧化剂的质量分数为10-15％，例如10％或15％；
4.如权利要求1所述的含氟清洗液组合物的制备方法，其特征在于，所述的含氟清洗液组合物中，所述的氧化剂的质量分数为15-30％，例如15％或30％；
5.如权利要求1所述的含氟清洗液组合物的制备方法，其特征在于，所述的含氟清洗液组合物中，所述的氧化剂为过氧化氢、N-甲基吗啉氧化物、过氧化苯甲酰、过氧单硫酸四丁铵、臭氧、氯化铁、高锰酸盐、过硼酸盐、高氯酸盐、过硫酸盐、过氧二硫酸铵、过乙酸、过氧化脲、硝酸、亚氯酸铵、氯酸铵、碘酸铵、过硼酸铵、高氯酸铵、高碘酸铵、过硫酸铵、亚氯酸四甲铵、氯酸四
6.如权利要求1所述的含氟清洗液组合物的制备方法，其特征在于，所述的含氟清洗液组合物为方案1或方案2：
7.如权利要求1所述的含氟清洗液组合物的制备方法，其特征在于，所述的含氟清洗液组合物，其为包括下述质量分数的组分任一组合：
8.如权利要求1-7中任一项所述的含氟清洗液组合物的制备方法，其特征在于，所述的含氟清洗液组合物，其由下述的组分组成：所述的氧化剂、所述的氧化型谷胱甘肽、所述的半胱氨酸、所述的氟化物、所述的有机碱、所述的螯合剂、所述的缓蚀剂、所述的羧酸铵、所述的EO-PO聚合物L31、1-(苯并三氮唑-1-甲基)-1-(2-甲基苯并咪唑)和所述的水；
...【技术特征摘要】
1.一种含氟清洗液组合物的制备方法，其特征在于，其包括如下步骤，将所述的含氟清洗液组合物中的各个组分混合，即得到所述的含氟清洗液组合物；
2.如权利要求1所述的含氟清洗液组合物的制备方法，其特征在于，所述的含氟清洗液组合物的制备方法中，所述的混合的方式为将所述的组分中的固体组分加入到液体组分中，搅拌均匀；
3.如权利要求1所述的含氟清洗液组合物的制备方法，其特征在于，所述的含氟清洗液组合物中，所述的氧化剂的质量分数为10-15％，例如10％或15％；
4.如权利要求1所述的含氟清洗液组合物的制备方法，其特征在于，所述的含氟清洗液组合物中，所述的氧化剂的质量分数为15-30％，例如15％或30％；
5.如权利要求1所述的含氟清洗液组合物的制备方法，其特征在于，所述的含氟清洗液组合物中，所述的氧化剂为过氧化氢、n-甲基吗啉氧化物、过氧化苯甲酰、过氧单硫酸四丁铵、臭氧、氯化铁、高锰酸盐、过硼酸盐、高氯酸盐、过硫酸盐、过氧二硫酸铵、...
【专利技术属性】
技术研发人员：王溯，蒋闯，冯强强，刘超勇，
申请(专利权)人：上海新阳半导体材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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