【技术实现步骤摘要】
一种蝶烯化合物组成的光刻胶及其制备方法和应用
[0001]本专利技术属于光刻胶
,具体涉及一种蝶烯化合物组成的光刻胶及其制备方法和应用
。
技术介绍
[0002]随着现代半导体技术的不断发展,及其在电子设备,通信设备信息安全及娱乐设备等各领域的广泛应用,使其成为当今世界最有活力的
,广泛渗透到我们工作及生活的各个方面
。
而集成电路的制作又是半导体产业的核心领域,每一次集成电路的更新换代,都离不开光刻技术的更迭,光刻技术的发展历史就是集成电路的发展历史,光刻技术的水平决定着集成电路的制造水平
。
[0003]光刻的原理是在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶,再用光线
(
一般是紫外光
、
深紫外光
、
极紫外光
)
透过掩模照射在硅片表面,被光线照射到的光刻胶会发生反应
。
此后用特定溶剂洗去被照射
/
未被照射的光刻胶,就实现了电路图从掩模到硅片的转移
。
光刻技术经历了接触
/
接近
、
等倍投影
、
缩小步进投影
、
扫描步进投影曝光方式的变革,曝光波长从
300
至
450nm
的全谱曝光
、
到
436nm
的
G
‑
线
、365nm
的
I
‑
线< ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种光刻胶组合物,其特征在于,其包含以下组分:如下式所示的蝶烯
A、
如下式所示的蝶烯
B、
光产酸剂
、
有机溶剂和有机碱;所述蝶烯
A
以重量份数计的份数为
50
‑
70
份,所述蝶烯
B
以重量份数计的份数为
30
‑
50
份
。2.
如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述光刻胶组合物满足如下一个或多个条件;
(1)
所述光产酸剂为
(2)
所述有机溶剂为酯类溶剂;
(3)
所述有机碱为有机弱碱
。3.
如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述有机溶剂为乳酸乙酯;和
/
或,所述有机碱为三辛胺
。4.
如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述光刻胶组合物满足如下一个或多个条件;
(1)
所述蝶烯
A
以重量份数计的份数为
60
份;
(2)
所述蝶烯
B
以重量份数计的份数为
40
份;
(3)
所述光产酸剂以重量份数计的份数为1‑
10
份;
(4)
所述有机溶剂以重量份数计的份数为
1000
‑
2000
份;
(5)
所述有机碱以重量份数计的份为
0.2
‑1份
。5.
如权利要求4所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述光刻胶组合物满足如下一个或多个条件;
(1)
所述光产酸剂以重量份数计的份数为7份;
(2)
所述有机溶剂以重量份数计的份数为
1500
份;
(3)
所述有机碱以重量份数计的份为
0.5
份
。6.
如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述光产酸剂为以重量份数计1‑
10
份的所述有机溶剂为以重量份数计
1000
‑
2000
份的乳酸乙酯;所述有机碱为以重量份数计
0.2
‑1份的三辛胺
。7.
如权利要求1‑6中任一项所述光刻胶组合物,其特征在于,其由以下组分组成:所述蝶烯
A、
所述蝶烯
B、
所述光产酸剂
、
所述有机溶剂和所述有机碱
。8.
如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,其为...
【专利技术属性】
技术研发人员:方书农,王溯,
申请(专利权)人:上海新阳半导体材料股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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