清洁溶液的制造方法及其清洁方法技术

本发明专利技术涉及一种清洁方法，即涉及一种用于清除在制造液晶显示器基片或半导体过程中，粘附在基片等表面上的污物的清洁方法。其中含水氧化酸性清洁溶液或含水氧化碱性清洁溶液由酸性或碱性溶液与含臭氧的水混合制成。含水还原酸性清洁溶液或含水还原碱性清洁溶液由酸性或碱性溶液与含氢的水混合制成。这些含水清洁溶液中的每一种溶液都具有有效的清洁能力，其氧化还原电位和ｐＨ值可以单独控制。因此，根据在每一制造工序过程中，粘附在物体上的污物的形式，选择相应的含水清洁溶液，利用一种形式的含水清洁溶液清洗既可清除多种污物。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于清除在制造液晶显示器基片或半导体过程中，粘附在基片等表面上的污物的。
技术介绍
制造液晶显示器基片的过程包括把金属(例如ITO)溅射至基片表面形成金属薄膜(导电薄膜)的工序；在金属薄膜上形成保护层以后，通过腐蚀，部分除去该金属薄膜(导电薄膜)，形成电极的工序；和在金属薄膜(导电薄膜)制成的电极上形成定向薄膜的工序。制造使用薄膜晶体管(TFT)的液晶显示器基片的过程包括通过溅射或化学汽相淀积(CVD)形成薄膜晶体管(TFT)，以形成金属薄膜(导电薄膜)的工序；涂敷保护层的工序；和通过腐蚀部分清除金属薄膜的工序。在上述制造工序过程中，空气中的颗粒可能粘附在基片表面上，在腐蚀或形成保护层的过程中，金属或有机物也可能粘附在基片表面上，还有氧片物薄膜也会在基片表面上自然形成。假如这些污物粘附在基片，电极或电极和定向薄膜之间的界面上，则电极之间的接触恶化，因此电阻增加，并且还造成线路质量差。因此，为了生产高性能的元件，清除这些污物的工序就非常重要，并且，在每一个制造工序中都必须清洁基片表面。特别是对于薄膜晶体管(TFT)的制造工序，更必须有可靠的清洁工序，因为这时必须将本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种利用含水氧化碱性溶液清洁物体的清洁方法。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：吴义烈，三森健一，宫泽聪，
申请(专利权)人：阿尔卑斯电气株式会社，奥璐佳瑙股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]