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本发明涉及一种清洁方法，即涉及一种用于清除在制造液晶显示器基片或半导体过程中，粘附在基片等表面上的污物的清洁方法。其中含水氧化酸性清洁溶液或含水氧化碱性清洁溶液由酸性或碱性溶液与含臭氧的水混合制成。含水还原酸性清洁溶液或含水还原碱性清洁溶液...该专利属于阿尔卑斯电气株式会社;奥璐佳瑙股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过阿尔卑斯电气株式会社;奥璐佳瑙股份有限公司授权不得商用。