光学部件的制造方法技术

本发明专利技术为光学部件的制造方法，其具备：镜面加工工序(S2)，其中，对玻璃制的被加工体的表面进行镜面加工；加热工序(S4)，其中，对镜面加工后的所述被加工体进行加热；制膜工序(S5)，其中，在由该加热工序(S4)进行了加热后的被加工体的表面上进行光学薄膜的制膜；在加热工序(S4)中，被加工体的温度为被加工体的玻璃化转变温度Tg(K)的0.75倍以上以及1倍以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。本专利技术涉及例如用作以显微镜、照相机、内窥镜为代表的各种光学机器的元件的滤光器或棱镜、透镜等光学部件中的在玻璃材料的表面上进行了例如氧化物、氟化物、金属等薄膜的制膜的。本专利技术基于2010年I月28日在日本申请的日本特愿2010-017363号主张优先权，将其内容引入此处。
技术介绍
以往，例如滤光器或棱镜、透镜等玻璃制光学部件是通过对形状与光学部件近似的玻璃进行磨削·研磨的方法、或使用进行了加热的模具来进行成型的方法等来制造得到的。 另外，在这些光学部件中，大多数情况下在镜面加工后的光学镜面上进行了用于控制镜面的反射特性和透过特性的光学薄膜的制膜。这种光学薄膜是通过在光学镜面上制作单层或多层的数nm至数百nm的金属氧化物、氟化物薄膜、金属膜等而构成的。为了得到分光反射率特性或分光透过率特性等所期望的光学特性，根据光学薄膜模拟法来决定光学薄膜的膜构成。基于光学薄膜模拟法的膜设计是通过对用作光学部件的基材的玻璃的折射率进行设定，然后以膜折射率、膜厚、层数作为参数来进行的。另外还进行了下述研究通过在制膜工序中，对制膜条件进行调整，从而调整膜应力，防止膜剥离。但是，在实际的制造工序中，光学部件有时会产生膜的剥离、或分光反射率特性和分光透过率特性与设计不符的膜缺陷。作为这些缺陷的原因，据认为是由于某种原因而在镜面加工后的光学部件的表面上形成了加工变质层。作为去除这种形成于光学镜面上的加工变质层的现有技术，在专利文献I中记载了下述光学元件的制造方法一种光学元件的制造方法，其包含第I阶段，其中，对由CaF2单晶构成的基板进行加工；第2阶段，其中，将污染物质从该第I阶段加工后的所述基板的表面上去除；第3阶段，其中，将第2阶段加工后的所述基板的所述表面的变质层去除。在专利文献I所述的方法中，利用水或水系清洗液对加工后的CaF2基板表面的加工变质层进行蚀刻由此来去除加工变质层。此处，对于专利文献I中的加工变质层来说，如专利文献I所述的那样“因利用研磨加工的加工有时也会在表面附近的微小区域中形成加工变质层。该加工变质层是对于紫外线等短波长的光具有吸收的层”，并且其是利用水或含有表面活性剂的水系清洗液进行蚀刻而能够去除的层。现有技术文献专利文献专利文献I :日本特开2002-82211号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题但是，在如上所述的以往的中存在如下的问题。专利文献I所述的技术是对CaF2(氟化钙)的单晶基板有效的技术，但用作光学部件的被加工体的光学玻璃为了实现多样的光学特性(例如折射率、阿贝值)而由金属氧化物、氟化物等多种元素构成，即使将专利文献I的制造方法应用于这种光学玻璃中，也无法去除变质层。专利技术人进行了各种各样的调查，结果发现光学玻璃的膜缺陷等的原因如下经由 加工工序或加工后的清洗工序后，与基材玻璃原本的性质相比，表面部的光学性质(折射率、散乱特性)或破坏强度发生了变化。S卩，因表面部的光学性质发生变化，在具有光学薄膜模拟时所设定的折射率的基材玻璃上生成了具有与基材玻璃不同的折射率的层，因此与膜设计产生了偏差。因此认为，分光反射率特性和分光透过率特性在标准之外，产生了不良品。另外，因在表面部生成了破坏强度下降的变质层，从而变质层会由于在制作光学薄膜后的清洁工序中或组装工序中所施加的外力而发生破坏，成为膜剥离这样的缺陷的诱因。在光学玻璃中，与氟化钙等相比，二氧化硅等玻璃网眼形成成分难以溶出到水或水系清洗液中，与此相对，被称作玻璃修饰成分的Na-0、K-O-, -O-Ba-O-这样的成分容易溶出到水或水系清洗液中。因此，每个构成玻璃的元素在溶出性方面存在偏差。因此，在与水或水系清洗液接触的玻璃表面上容易产生组成倾斜等偏析，光学玻璃的表面的组成因该偏析而发生变化，从而原本光学玻璃所具有的光学特性、物理特性发生变化。特别是近年来，在为了实现透镜的小型化和高性能化而开发的光学玻璃中，为了使其具备低分散性或异常分散性、高折射率、低熔点等性质，化学耐久性差的光学玻璃有所增加。在这种光学玻璃存在下述问题如上所述，特别是在与水或水系清洗液接触的时候，在所接触的玻璃表面上容易产生组成的偏析，表面的光学特性发生变化、或光学玻璃容易剥离。本专利技术是鉴于如上所述的问题而完成的，其目的为提供一种，所述能够抑制光学部件的光学薄膜的剥离或光学玻璃的光学特性缺陷的发生，并且可以提高光学部件的生产性，所述光学部件是通过在玻璃表面上制作光学薄膜而形成的。 用于解决问题的手段为了解决上述课题，本专利技术采用了以下方法。S卩，本专利技术为，其具备镜面加工工序，其中，对玻璃制的被加工体的表面进行镜面加工；加热工序，其中，对镜面加工后的所述被加工体进行加热；制膜工序，其中，在由该加热工序进行了加热后的所述被加工体的表面上进行光学薄膜的制膜；在所述加热工序中，所述被加工体的温度为所述被加工体的玻璃化转变温度Tg(K)的O. 75倍以上以及I倍以下。另外，对于本专利技术的，在所述加热工序中，可以按照所述被加工体的温度比所述制膜工序中的所述被加工体的温度高的方式来进行加热。另外，对于本专利技术的，在所述镜面加工工序和所述加热工序之间，可以具备利用水系清洗液来清洗所述被检体的清洗工序。此处，水系清洗液是指例如在水中溶解有表面活性剂等的清洗液等含有水的清洗液、或仅由水构成的清洗液。另外，对于本专利技术的，可以在真空中进行所述加热工序中的所述被加工体的加热。需要说明的是，本专利技术的真空为例如10_6Pa以上且5X IO2Pa以下。另外，对于本专利技术的，可以在惰性气体中进行所述加热工序中的所述被加工体的加热。 另外，对于在本专利技术的中所含有的在惰性气体中进行的加热工序，所述惰性气体可以为氦。另外，对于本专利技术的，所述加热工序可以在与进行所述制膜工序的制膜室另行设置的加热室中进行。另外，对于本专利技术的，所述被加工体可以是至少含有氟的光学玻璃。另外，对于本专利技术的，所述被加工体可以是至少含有磷的光学玻璃。另外，对于本专利技术的，所述被加工体可以是至少含有铋的光学玻璃。专利技术效果根据本专利技术的，即使在镜面加工后的玻璃制的被加工体的表面上附着水分而形成了变质层，也能够通过加工工序而将变质层修复，因此能够抑制光学部件的光学薄膜的剥离的发生或光学玻璃的光学特性缺陷的发生，并且能够提高光学部件的生产性，所述光学部件是通过在玻璃表面上制作光学薄膜而形成的。附图说明图I是表示由本专利技术的第I实施方式的而制造得到的光学部件的一个示例的沿光轴方向的截面图。图2是表示本专利技术的第I实施方式的的工序的流程图。图3是本专利技术的第I实施方式的的被加工体制作工序、镜面加工工序、清洗工序和加热工序的模拟性的工序说明图。图4是表示本专利技术的第I实施方式的变形例和本专利技术的第2实施方式的的工序的流程图。具体实施例方式以下，参照附图对本专利技术的实施方式所涉及的进行说明。[第I实施方式]对本专利技术的第I实施方式的进行说明。图I是表示由本专利技术的第I实施方式的而制造得到的光学部件的一个示例的沿光轴方向的截面图。图2是表示本专利技术的第I个实施方式的的工序流程的流程图。图3(a)、(b)、(c)、(d)各自为本专利技术的第I实施方式的的被加工体制作工序、镜面加工工序、清洗工序和加热工序的模拟性的工序说明图。本实施方式的是通过在玻璃表面上制作光学薄膜而形成的。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.01.28 JP 2010-0173631.一种光学部件的制造方法，其具备 镜面加工工序，其中，对玻璃制的被加工体的表面进行镜面加工； 加热工序，其中，对镜面加工后的所述被加工体进行加热；和 制膜工序，其中，在由该加热工序进行了加热后的所述被加工体的表面上进行光学薄膜的制膜； 在所述加热工序中，所述被加工体的温度为所述被加工体的玻璃化转变温度Tg的O. 75倍以上以及I倍以下，所述玻璃化转变温度Tg的单位为K。2.如权利要求I所述的光学部件的制造方法，其中，在所述加热工序中，按照所述被加工体的温度比所述制膜工序中的所述被加工体的温度高的方式来进行加热。3.如权利要求I或2所述的光学部件的制造方法，其中，在所述镜面加工工序和所述加 热工序之间,具备利用水系清洗...

【专利技术属性】
技术研发人员：森田祐子，铃木宏贵，
申请(专利权)人：奥林巴斯株式会社，
类型：发明
国别省市：