【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及i)用于在各种材料的表面上形成低表面能层或防污层的包含有机硅化合物的表面处理组合物，ii)所述表面处理组合物的制造方法和iii)施用了所述表面处理组合物的表面经处理的物品。
技术介绍
抗反射涂层、光学滤光片、光学镜片、眼镜镜片、分束器、棱镜、反射镜和其他的光学元件和卫生器具在使用时容易被指印、皮肤油脂、汗水、化妆品等污染。这样的污溃一旦粘附上就很难被除去，尤其是附着于具有抗反射涂层的光学部件的污溃极为醒目，并且造成各种问题。 为了解决与防污有关的这些问题，迄今已经提出了采用各种表面处理组合物的技术。例如，日本审查专利公开第1994-29332号提出了一种防污的低反射塑料，其在表面上具有抗反射涂层，该抗反射涂层包含含有聚氟烷基的甲硅烷和こ硅烷化合物以及卤素、烷基或烷氧基硅烷化合物。近来，W02006/107083提出了ー种表面处理组合物，所述组合物包含在氟聚合物链的末端具有烷氧基甲硅烷基官能团的有机硅化合物。该表面处理组合物提供了低表面能层，该低表面能层防止水分或污物附着在各种材料，尤其是抗反射膜等光学部件和玻璃的表面上。不过，通过现今已知的方法形成的防污涂层的防污性不够充分，特别是，当长期使用时它们的耐沾污性明显降低。因此，需要开发具有优异的防污性和优异的耐久性的防污涂层。
技术实现思路
本专利技术g在解决如上所述的现有技术的问题，并提供了ー种表面处理组合物，该组合物形成了具有高度耐久性的优异的低表面能处理层，其防止水分或指印、皮肤油脂、汗水、化妆品等污物附着在各种材料，尤其是抗反射膜、光学部件和玻璃的表面上，并使得水分和污物即使在附着后也能够...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2009.11.11 US PCT/US2009/640161.一种表面处理组合物，所述表面处理组合物包含由通式(A)表示的有机硅化合物 F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2)。- (CH2) P_X_ (CH2) ,-C3H6-Si (X，) 3_a (R1) a (A) 其中q是I 3的整数；m、n和o独立地为0 200的整数；p为I或2 ;X是氧或二价有机基团；r为0 17的整数#是不具有不饱和脂族键的直链或支化的CV22烃基；a为0 2的整数；并且X’是可水解基团， 其中，在所述表面处理组合物中由以下通式(B)和(C)表示的含氟化合物的含量基于所述表面处理组合物为小于25摩尔％ F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2)。-F (B) 其中q、m、n和o与上述相同， F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2) 0- (CH2) P_X_ (CH2) ,-CH=CHCH3 (C) 其中q、m、n、0、p、r和X与上述相同。2.如权利要求I所述的表面处理组合物，其中，在通式(A)中，所述可水解基团X’是选自烷氧基(-0R)和烷氨基(-NHR或-NR2)中的至少一种基团，其中R独立地为C1 C22直链或支化的烷基，并且两个R基团能够形成环状胺，整数a为O。3.如权利要求I或2所述的表面处理组合物，其中，在通式(A)中，所述可水解基团X’是烷氨基(-NHR或-NR2),其中R与上述相同，并且整数a为O。4.如权利要求I 3中任一项所述的表面处理组合物，其中，由通式(A)表示的所述有机娃化合物由以下通式(i-d-i)或(i-d-ii)表示 F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-C3H6-Si- (HNR) 3 (i-d-i) 或F-(CF2) q-(OC3F6)ffl-(OC2F4)n-(OCF2)。-CH2O-(CH2),-C3H6-Si (NR2) 3 (i-d-ii) 其中，q、m、n、0、r和R与上述相同，由通式⑶和(C)表示的含氟化合物分别由以下通式(ii)和(i_c-d)表不: F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2) 0_F (ii) 和 F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-CH=CHCH3 (i-c—d)。5.如权利要求I 4中任一项所述的表面处理组合物，其中，由通式(C)表示的含氟化合物的含量基于所述表面处理组合物为I. 0摩尔％以上。6.如权利要求I 5中任一项所述的表面处理组合物，其中，由通式⑶和(C)表示的含氟化合物的含量基于所述表面处理组合物为小于15摩尔％。7.如权利要求I 6中任一项所述的表面处理组合物，其中，在通式⑷和(C)中，p为I且X为氧，S卩，(A)和(C)分别由以下通式(i_d)和(i-c-d)表示 F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-C3H6-Si (X，) 3_a (R1) a (i_d) 其中，q、m、n、0、r、a、X’和R1与上述相同， F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-CH=CHCH3 (i-c-d) 其中，q、m、n、o和r与上述相同。8.一种包含有机硅化合物的表面处理组合物的制造方法，所述方法包括以下步骤 (a)使包含由下列通式(i)和(ii)表示的化合物的原料混合物与还原剂接触以使化合物(i)反应，从而制造包含由此生成的由以下通式(i_b)表示的醇和由通式(ii)表示的化合物的反应混合物 F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2) 0-C (=0) F (i) 其中，q为I 3的整数；m、n和o独立地为0 200的整数， F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F...
【专利技术属性】
技术研发人员：G·赫尔维，PJ·卡尔巴，唐·李·克莱尔，林正之，彼得·谢舍尔·胡佩费尔德，吉田知弘，伊丹康雄，前田昌彦，桝谷哲也，
申请(专利权)人：依视路国际集团光学总公司，道康宁公司，大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：
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