一种细缝式涂布装置制造方法及图纸

一种细缝式涂布装置适用在基材上涂布均匀膜层。该细缝式涂布装置包含基座、细缝式涂布喷嘴、可挠曲垫片及滚轮装置。细缝式涂布喷嘴位于基座上方。当涂布工艺开始执行时，将可挠曲垫片覆盖在基材的两侧，并使细缝式涂布喷嘴将涂布开始与涂布结束时的不均匀膜层分别涂布在两个可挠曲垫片上，从而使均匀膜层被涂布在基材上。可挠曲垫片通过滚轮装置驱动而变更为可挠曲垫片其它未受污染的区域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种细缝式涂布装置，特别涉及一种液晶显示器彩色滤光片的细缝式涂布装置。
技术介绍
液晶显示器制造技术的进步，尤其大尺寸液晶显示器制造技术的进步，使得真空管显示器在许多应用领域被液晶显示器取代。液晶显示器的相关产品成为近年来的流行产品。在液晶显示器的制作过程中，光刻工艺(Lithography)是一系列重要工艺之一。光刻工艺通过涂布光刻胶、显影(exposure)、曝光(development)等步骤，图案化液晶显示器中的膜层。在第四代面板上，涂布光刻胶一般采用旋涂方式(Spin coating)涂布。从第五代面板开始，因为面板尺寸过大，一般采用细缝式涂布法。光刻胶层厚度的均匀与否关系着后续工艺的良率。在大尺寸的面板上控制光刻胶层均匀厚度，考验着液晶显示器相关制造商的技术能力。现有的细缝式涂布法，通常在成膜开始及成膜结束地方的涂布均匀性有问题。因为，细缝式涂布喷嘴在开始涂布和结束涂布时处于不稳定的状态，而进行中间大部份薄膜的土不是，喷嘴吐出的状态是稳定的，所以膜厚比较均匀。为了解决上述问题，液晶显示器相关制造商积极提出创新的方法，解决现有细缝式涂布法的不足。
技术实现思路
因此本专利技术的目的就是提供一种细缝式涂布装置，用以改善细缝式涂布膜厚不均匀的情况。根据本专利技术的上述目的，提出一种细缝式涂布装置，适用于在基材上涂布均匀膜层。此细缝式涂布装置包含基座、细缝式涂布喷嘴、可挠曲垫片及滚轮装置。细缝式涂布喷嘴位于基座上方。当涂布工艺开始执行时，将可挠曲垫片覆盖在基材的两侧，并使细缝式涂布喷嘴在涂布开始与涂布结束时，将不均匀膜层分别涂布于两垫片，使均匀膜层被涂布在基材上。可挠曲垫片通过滚轮装置驱动变为可挠屈垫片其它未被污染的区域。由上述可知，使用本专利技术的细缝式涂布装置，在装置基座上增加可挠曲垫片，将其覆盖在基材两侧，并使喷嘴在涂布开始及涂布结束时，将不均匀膜层涂布在基材两侧的垫片上，从而涂布均匀的膜层在基材上。可挠曲垫片可通过滚轮装置驱动而变更为可挠曲垫片的其它未被污染区域，防止垫片上的涂布材料在工艺区停留过久污染基座。附图说明图1是绘示了依照本专利技术一较佳技术方案的一种细缝式涂布装置的前视图；图2是绘示了依照本专利技术一较佳技术方案的一种细缝式涂布装置的侧视图；图3是绘示了依照本专利技术另一较佳技术方案的一种细缝式涂布装置的侧视图。图号说明基座100 基材102 均匀膜层104可挠曲垫片106容器110 清洗液108滚轮装置112a/112b细缝式涂布喷嘴11具体实施方式为解决现有细缝式涂布法在成膜的开始及结束时，因喷嘴处于不稳定的状态，发生涂布不均匀的问题，本专利技术提出一种细缝式涂布装置。通过在装置的基座上增加可挠曲垫片，将其覆盖在基材两侧，喷嘴在涂布开始及涂布结束时，将不均匀膜层涂布在基材两侧的垫片上，从而涂布均匀的膜层在基材上。可挠曲垫片可通过滚轮装置驱动而变更为该可挠曲垫片的其它未受污染的区域。请参照图1，其绘示了依照本专利技术一较佳技术方案的一种细缝式涂布装置的正视图。本较佳实施例在基座100上增加一厚度小于30微米的可挠曲垫片106。在涂布工艺开始执行前将可挠曲垫片106覆盖在基材102的两侧，使得细缝式涂布喷嘴114涂布开始与涂布结束时，将不均匀膜层104a分别涂布在两个可挠曲垫片106上。如此一来，细缝式涂布喷嘴114就将均匀膜层104涂布在基材102上。为了使涂布材料不易沾附在可挠曲垫片106上，可以对可挠曲垫片106外可进行奈米处理，使其易于清洗。请参照图2，其绘示了依照本专利技术一较佳技术方案的一种细缝式涂布装置的侧视图。在经过数次工艺后，上述的可挠曲垫片106，可通过位于基座100两侧的滚轮装置112a及112b驱动。可挠曲垫片106经驱动后可以移动到容器110内的清洗液108中洗净，而后重复使用。上述的滚轮装置112a及112b可通过手动或马达驱动。请参照图3，其绘示了依照本专利技术另一较佳技术方案的一种细缝式涂布装置的侧视图。在经过数次工艺后，上述的可挠曲垫片106可通过位于基座100两侧的滚轮装置112a及112b驱动而改变为可挠曲垫片106的其它未受污染的区域。受污染的可挠曲垫片106经驱动后可以直接回收。在本实施例中，滚轮装置112a提供未使用(未受污染)的可挠曲垫片106，经数次使用后，再经滚轮装置112b回收已使用(受污染)的可挠曲垫片106。上述的滚轮装置112a及112b可通过手动或马达驱动。由上述本专利技术较佳实施例可知，本专利技术的细缝式涂布装置，在装置中的基座上增加可挠曲垫片覆盖在基材两侧，使喷嘴在涂布开始及涂布结束时，将不均匀膜层涂布在基材两侧的垫片上，从而涂布均匀的膜层在基材上。可挠曲垫片可通过滚轮装置驱动而变更为可挠曲垫片其它未受污染的区域，避免垫片上的涂布材料在工艺区停留过久污染基座。虽然本专利技术通过较佳实施例说明了本专利技术的实施过程，然而所述实施例并非用于限定本专利技术的范围，任何本领域技术人员，根据本专利技术实施的各种变化均包括在本专利技术权利要求书所保护的范围中。权利要求1.一种细缝式涂布装置，适用于在基材上涂布均匀膜层，其特征是，所述的涂布装置至少包含一基座，承载一基材；一细缝式涂布喷嘴，位于基座上方；两滚轮装置，位于基座两侧；以及可挠曲垫片，覆盖在所述的基材两侧，并使所述的细缝式涂布喷嘴在涂布开始与涂布结束时，将不均匀膜层分别涂布在两个所述的可挠曲垫片上，从而使均匀的膜层被涂布在所述的基材，其中所述的可挠曲垫片是通过所述的滚轮装置驱动而变更为所述的可挠曲垫片的其它未被污染的区域。2.如权利要求1所述的细缝式涂布装置，其特征是，所述的可挠曲的垫片厚度小于30微米。3.如权利要求1所述的细缝式涂布装置，其特征是，所述的可挠曲的垫片可进行奈米处理，使所述的可挠曲垫片易于清洗。4.如权利要求1所述的细缝式涂布装置，其特征是，所述的滚轮装置是由手动或马达驱动。5.如权利要求1所述的细缝式涂布装置，其特征是，进一步包含一容器，所述的容器位于所述的滚轮装置下方并装有清洗液。6.如权利要求1至5所述的细缝式涂布装置，其特征是，所述的可挠曲垫片的被污染的区域通过所述的滚轮装置驱动被浸入所述的清洗液中洗净后，重复使用可挠曲垫片。全文摘要一种细缝式涂布装置适用在基材上涂布均匀膜层。该细缝式涂布装置包含基座、细缝式涂布喷嘴、可挠曲垫片及滚轮装置。细缝式涂布喷嘴位于基座上方。当涂布工艺开始执行时，将可挠曲垫片覆盖在基材的两侧，并使细缝式涂布喷嘴将涂布开始与涂布结束时的不均匀膜层分别涂布在两个可挠曲垫片上，从而使均匀膜层被涂布在基材上。可挠曲垫片通过滚轮装置驱动而变更为可挠曲垫片其它未受污染的区域。文档编号B05C11/10GK1843636SQ20051006327公开日2006年10月11日 申请日期2005年4月7日 优先权日2005年4月7日专利技术者柯山文, 陈重廷, 顾鸿寿, 刘昱庭, 张岳维, 陈志行 申请人:展茂光电股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种细缝式涂布装置，适用于在基材上涂布均匀膜层，其特征是，所述的涂布装置至少包含：一基座，承载一基材；一细缝式涂布喷嘴，位于基座上方；两滚轮装置，位于基座两侧；以及可挠曲垫片，覆盖在所述的基材两侧，并使所述的 细缝式涂布喷嘴在涂布开始与涂布结束时，将不均匀膜层分别涂布在两个所述的可挠曲垫片上，从而使均匀的膜层被涂布在所述的基材，其中所述的可挠曲垫片是通过所述的滚轮装置驱动而变更为所述的可挠曲垫片的其它未被污染的区域。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：柯山文，陈重廷，顾鸿寿，刘昱庭，张岳维，陈志行，
申请(专利权)人：展茂光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]