【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光栅尺刻线缺陷检验装置。
技术介绍
要实现光栅位移传感器高精度测量的首要任务是保证标准光栅的刻划和复制精度，刻划精度通常比较高，但是也存在黒白比不符合要求等情況；复制过程中存在由于环境洁净程度不高造成的污点，或者光线存在一定的扭曲等情况会影响到相位一致性等，这些都会严重影响最后光栅尺的精度。不仅如此，在光栅接长过程中存在的接长误差，也会大大的降低整个光栅尺的精度和性能。一般的光栅尺刻划或者复制后，由于数据量较大，利用一般的显微镜，无法用肉眼全面检测刻划精度。同吋，前后相位不一致是用肉眼观测无法做到的，如果能制作特定的检测设备，利用有效的检测手段，自动对光栅尺主尺上存在的污点和前后相位不一致进行记录，那么可以有效的提闻成品光棚尺的精度，提闻生广效率和生广质量。
技术实现思路
本专利技术为解决现有光栅尺制造过程中主尺存在污点和前后相位不一致等情况，靠人工无法完成光栅尺检验的问题，提供一种光栅刻线缺陷检验装置。光栅刻线缺陷检验装置，该装置包括标准光栅、信号探测头、第一移位驱动装置、第二移位驱动装置、信号处理模块和脉冲检测模块；所述第一移位驱动装置沿标准光...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴宏圣，曾琪峰，乔栋，张吉鹏，孙强，甘泽龙，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：
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