适用于栅线密度区域分布的印刷模版制造技术

技术编号:8225100 阅读:181 留言:0更新日期:2013-01-18 06:10
本实用新型专利技术提供一种适用于栅线密度区域分布的印刷模版,包括金属支撑丝网、感光乳剂层,所述感光乳剂层覆盖于所述金属支撑丝网,其特征在于,所述感光乳剂层设置有两条主栅线槽和多条副栅线槽,所述主栅线槽连接所述副栅线槽,所述感光乳剂层上包括中央区域和外围区域,其中,所述中央区域被包围在所述外围区域中,所述中央区域的宽度等于两条所述主栅线槽之间的间隔,所述中央区域中副栅线槽的密度大于所述外围区域中副栅线槽的密度。本实用新型专利技术的副栅线槽在不同区域内的分布密度是不同的,从而印刷出的栅线得以可以适应于片内方阻的不均匀性,从而有助于光电转换效率的提高。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及太阳能电池印刷系统,具体地,涉及适用于栅线密度区域分布的印刷模版
技术介绍
光伏板组件是一种暴露在阳光下便会产生直流电的发电装置,基本上主要以半导体物料(例如硅)制成的固体光伏电池组成,包括P型半导体和N型半导体。P型半导体(P指positive,带正电的)由单晶娃通过特殊工艺掺入少量的三价元素组成,会在半导体内部形成带正电的空穴;N型半导体(N指negative,带负电的)由单晶娃通过特殊工艺掺入少量的五价元素组成,会在半导体内部形成带负电的自由电子。当光的频率超过某一极限频率时,受光照射的太阳能电池板表面立即就会逸出光 电子,发生光电效应。当在太阳能电池板外面加一个闭合电路,加上正向电源,这些逸出的光电子全部到达阳极便形成所谓的光电流。位于太阳能电池正面的栅线正式为了富集电荷。现有技术中的模版印刷出的电极图案中的副栅线在硅片上等密度分布,不能适应硅片方阻的不均匀性,不利于光电转换效率的提高。
技术实现思路
针对现有技术中的缺陷,本技术的目的是提供一种适用于栅线密度区域分布的印刷模版。根据本技术的一个方面,提供一种适用于栅线密度区域分布的印刷模版,包括金属支撑丝网、感光乳剂层,所述感光乳剂层覆盖于所述金属支撑丝网,其特征在于,所述感光乳剂层设置有两条主栅线槽和多条副栅线槽,所述主栅线槽连接所述副栅线槽,所述感光乳剂层上包括中央区域和外围区域,其中,所述中央区域被包围在所述外围区域中,所述中央区域的宽度等于两条所述主栅线槽之间的间隔,所述中央区域中副栅线槽的分布密度大于所述外围区域中副栅线槽的分布密度。优选地,所述中央区域为矩形区域。优选地,所述中央区域的宽长比等于所述金属支撑丝网的宽长比。优选地,还包括外框栅线槽,其中,所述外框栅线槽呈环状。优选地,所述外框栅线槽位于所述外围区域内。 优选地,所述外框栅线槽沿所述金属支撑丝网的边缘延伸。本技术的副栅线槽在不同区域内的分布密度是不同的,中央区域副栅线槽的密度大于外围区域副栅线槽的密度,从而印刷出的栅线可以适应于片内方阻的不均匀性,从而有助于光电转换效率的提高。附图说明通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显图I示出根据本技术的适用于栅线密度区域分布的印刷模版的结构示意图。具体实施方式根据本技术提供的适用于栅线密度区域分布的印刷模版,包括金属支撑丝网I、感光乳剂层6,所述感光乳剂层6覆盖在所述金属支撑丝网1,所述感光乳剂层6设置有两条主栅线槽4和多条副栅线槽,所述主栅线槽4连接所述副栅线槽,所述感光乳剂层6上包括中央区域2和外围区域3,其中,所述中央区域2被包围在所述外围区域3中,所述中央区域2的宽度等于两条所述主栅线槽4之间的间隔,所述中央区域2中副栅线槽的分布密度大于所述外围区域3中副栅线槽的分布密度。本技术的副栅线槽在不同区域内的分布密度是不同的,中央区域副栅线槽的 密度大于外围区域副栅线槽的密度,从而印刷出的栅线可以适应于片内方阻的不均匀性,从而有助于光电转换效率的提高。进一步地,所述中央区域2为矩形区域。优选地,所述中央区域2的宽长比等于所述金属支撑丝网I的宽长比。优选地,适用于栅线密度区域分布的印刷模版还包括外框栅线槽5,其中,所述外框栅线槽5呈环状。优选地,所述外框栅线槽5位于所述外围区域内。优选地,所述外框栅线槽5沿所述金属支撑丝网I的边缘延伸。以上对本技术的具体实施例进行了描述。需要理解的是,本技术并不局限于上述特定实施方式,本领域技术人员可以在权利要求的范围内做出各种变形或修改,这并不影响本技术的实质内容。权利要求1.一种适用于栅线密度区域分布的印刷模版,包括金属支撑丝网、感光乳剂层,所述感光乳剂层覆盖于所述金属支撑丝网,其特征在于,所述感光乳剂层设置有两条主栅线槽和多条副栅线槽,所述主栅线槽连接所述副栅线槽,所述感光乳剂层上包括中央区域和外围区域,其中,所述中央区域被包围在所述外围区域中,所述中央区域的宽度等于两条所述主栅线槽之间的间隔,所述中央区域中副栅线槽的分布密度大于所述外围区域中副栅线槽的分布密度。2.根据权利要求I所述的适用于栅线密度区域分布的印刷模版,其特征在于,所述中央区域为矩形区域。3.根据权利要求I所述的适用于栅线密度区域分布的印刷模版,其特征在于,所述中央区域的宽长比等于所述金属支撑丝网的宽长比。4.根据权利要求I所述的适用于栅线密度区域分布的印刷模版,其特征在于,还包括外框栅线槽,其中,所述外框栅线槽呈环状。5.根据权利要求4所述的适用于栅线密度区域分布的印刷模版,其特征在于,所述外框栅线槽位于所述外围区域内。6.根据权利要求4所述的适用于栅线密度区域分布的印刷模版,其特征在于,所述外框栅线槽沿所述金属支撑丝网的边缘延伸。专利摘要本技术提供一种适用于栅线密度区域分布的印刷模版,包括金属支撑丝网、感光乳剂层,所述感光乳剂层覆盖于所述金属支撑丝网,其特征在于,所述感光乳剂层设置有两条主栅线槽和多条副栅线槽,所述主栅线槽连接所述副栅线槽,所述感光乳剂层上包括中央区域和外围区域,其中,所述中央区域被包围在所述外围区域中,所述中央区域的宽度等于两条所述主栅线槽之间的间隔,所述中央区域中副栅线槽的密度大于所述外围区域中副栅线槽的密度。本技术的副栅线槽在不同区域内的分布密度是不同的,从而印刷出的栅线得以可以适应于片内方阻的不均匀性,从而有助于光电转换效率的提高。文档编号B41F15/36GK202669146SQ20122023888公开日2013年1月16日 申请日期2012年5月25日 优先权日2012年5月25日专利技术者钱腾达, 严锦春, 顾锡淼 申请人:嘉兴优太太阳能有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种适用于栅线密度区域分布的印刷模版,包括金属支撑丝网、感光乳剂层,所述感光乳剂层覆盖于所述金属支撑丝网,其特征在于,所述感光乳剂层设置有两条主栅线槽和多条副栅线槽,所述主栅线槽连接所述副栅线槽,所述感光乳剂层上包括中央区域和外围区域,其中,所述中央区域被包围在所述外围区域中,所述中央区域的宽度等于两条所述主栅线槽之间的间隔,所述中央区域中副栅线槽的分布密度大于所述外围区域中副栅线槽的分布密度。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:钱腾达严锦春顾锡淼
申请(专利权)人:嘉兴优太太阳能有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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