一种硅片清洗液制造技术

本发明专利技术一种硅片清洗液，由表面活性剂、乙醇、氟化氢、EDTA二钠、三乙醇胺、柠檬酸、去离子水，进行搅拌混合，形成清洗液，本发明专利技术制备方法简单，对环境无不利影响，且表面去污力强，可保持清洁度的持续性，对于多晶硅片等物料具有良好的清洁效果，并且提高了清洗速度和耐用性能；本发明专利技术通过乙醇对硅片表面有机沾污进行清洗，另外，通过氟化氢对氧化层进行清洗，从而，使硅片的清洗更加彻底，且对金属离子有较强的清洗作用，从而，提高了硅片的后续使用性能。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：聂金根，
申请(专利权)人：镇江市港南电子有限公司，
类型：发明
国别省市：