一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗装置，设置有上料、超声清洗、喷淋清洗和烘干下料四个工位，同时结合控制气缸的运动，可以完成对光学元件的自动上下料、多工位自动超声清洗和喷淋清洗，使整个清洗过程全部自动化。本发明专利技术的主体除了需要与外界交换物料的部分外，其余全部采用防腐密封处理，各个清洗工位在工作时均被隔门单独隔开，防止了清洗液喷溅造成工位之间交叉污染和二次污染，保证了清洗质量。本发明专利技术在清洗过程中产生的挥发废气和废液实时被分别引导入循环回收系统，压缩机对废气进行冷凝液化后回收再利用，实现环保无排放清洗，减少了浪费，防止了环境污染，提高了经济性。

Automatic cleaning device for recycling and recycling volatile solvent of optical component

The invention discloses an automatic cleaning device of optical components of volatile solvent recycling, set feeding, ultrasonic cleaning, spray cleaning and drying material under the four stations, combined with the control of the movement of the cylinder, the optical element can accomplish automatic loading and unloading, multi position automatic ultrasonic cleaning and spray cleaning. The whole cleaning process automation. The main body of the invention in addition to the exchange of material and the external part, the others all adopt the anticorrosion and sealing treatment, each cleaning station at work are doors separated alone, to prevent the cleaning liquid splash caused by cross contamination between station and two pollution, ensure the quality of cleaning. The present invention in the cleaning process, the volatilization of waste gas and waste liquid were guided into the real-time recycling system, compressor condensing and liquefying after recycling of waste gas emissions, to achieve environmental protection without cleaning, reduce waste, prevent environmental pollution, improve the economy.

【技术实现步骤摘要】
一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗装置
本专利技术涉及一种光学元件的清洗
，特别是一种光学元件挥发溶剂的超声辅助自动清洗装置。
技术介绍
大尺寸光学玻璃及晶体类元件广泛地应用在各类光学和非光学设备上，各种新型和尖端设备上的光学元件质量要求极高，例如：纳米级的表面粗糙度和平面度，极小的波前畸变和极高的洁净度，特殊的光学玻璃类元件如KDP晶体、氟化钙晶体等具有硬度低、易碎、易潮解的特性，对超精密加工和后续的清洗清洁工艺及设备都提出了很大的挑战。该类特殊的大尺寸高精度光学类元件的加工通常采用先进的磁流变抛光、化学机械抛光、无磨料水溶解精密抛光及离子束抛光等精加工技术与方法。由于该类光学元件软脆易潮解等特性，在加工后的光学晶体元件表面往往会残留有金属离子、抛光液、有机杂质等污染物，对诸如镀膜等后续的工程应用造成困难，因此，需要对该类光学元件进行清洗。而象手工擦拭和水基清洗液等传统清洗方法对此类软脆易潮解光学元件则明显不适用，特别是对于尺寸较大且经过光学超精密加工后具有高质量的光学功能表面。同时传统的清洗方法劳动强度大，稳定性差，对劳动者素质要求较高，甚至一些有害的清洗剂会对劳动者本人造成伤害，因此可操作性差，具有一定的局限性，不能适应现代生产中规模化对高洁净度大尺寸光学晶体类元件的需求。在以往关于多工位超声波清洗装置的专利专利技术中，有以下不同类型的例子：中国专利公开号CN102601094A公开了“超声波清洗工具框悬吊移位装置及其方法”。该专利包括横设于清洗池上方的横向导轨，所述清洗池由若干个超声波清洗池和鼓泡清洗池横向拼接构成，所述横向导轨上设置有由气缸驱动的横向往复移位基座，所述基座下方横设有具有挂钩的吊架，所述吊架经前后两侧的纵向导柱及导套升降传动机构与基座实现升降传动连接。该超声波清洗工具框悬吊移位装置结构有利于多工位清洗，但清洗过程为半开放式，工位之间没有完全隔离开来，容易造成工件的二次污染。中国专利公开号CN1468665A公开了“一种多工位全自动超声清洗装置”，它包括控制柜、高频超声波发生器、中频超声波发生器、低频超声波发生器；它包括支架、动力装置、传动装置、传动轮、悬挂器具、清洗工件装栏，分别设置在与支架联接的升降机构上的装工件台、低频超声清洗槽、中频超声清洗槽、高频超声清洗槽、冲淋清洗槽、与变频电机相联的变频脱水器、热风发生器、卸工件台，在低频超声清洗槽、中频超声清洗槽、高频超声清洗槽内设置有超声振动体，在冲淋清洗槽内设置有冲淋喷头；它还包括设置支架上的光电传感器。但是该装置体积庞大，结构复杂，成本较高，对其应用造成一定障碍。中国专利公开号CN103887212A公开了“一种多槽式超声波清洗干燥装置”，涉及一种全自动太阳能硅片清洗干燥装置。该装置包括一超声清洗槽，所述的超声清洗槽后方依次设有浸泡酸洗槽、超声碱洗槽以及一个或多个超声漂洗槽，所述的超声清洗槽、浸泡酸洗槽、超声碱洗槽及超声漂洗槽上方设有一平移支架，所述的平移支架上吊设又一个或多个承载待清洗硅片的吊篮，所述的平移支架安装在一升降结构上。该装置实现了多晶、单晶太能能硅片、光学镜片的清洗。该装置由于工位繁多，占地面积狭长，清洗过程中有不同性质的化学药液，容易造成环境污染，同时对回收循环造成困难。可以看出在目前存在的相关专利中，多工位超声自动清洗装置针对的清洗对象具有普遍性，清洗所用的介质多为炭氢等水基的不挥发的清洗液，并且清洗过程多为半开放和开放式的，清洗过程容易产生对被清洗工件的二次污染，同时也容易造成环境污染；没有专门的针对大尺寸光学元件的超声清洗装置，特别是在使用易挥发清洗剂，没有在封闭空间内进行的具有循环回收功能的超声喷淋清洗装置。
技术实现思路
为解决现有技术存在的上述问题，本专利技术要设计一种自动化程度高、不会造成工件二次污染、不会造成环境污染、具有循环回收功能的大尺寸光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗装置。为了实现上述目的，本专利技术的技术方案如下：一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗装置，包括主体和循环回收系统，所述的主体内设置上料工位、超声清洗工位、喷淋清洗工位和下料工位；主体顶部通过排气管道与循环回收系统连接；所述的主体为上中下三段式结构；下部设有四个工位槽，从左至右依次为进料槽、超声清洗槽、喷淋清洗槽和烘干出料槽，中部为提拉运送机构活动空间，上部安装有提拉运送机构，上部与中部之间通过隔板隔开；所述的提拉运送机构包括提拉气缸、无杆气缸、吊篮架和挂钩，所述的提拉气缸为单杆不回转气缸，缸杆通过隔板中间开设的运动轨道伸入进料槽；提拉气缸的缸杆末端装有吊篮架，吊篮架上有挂钩，用于钩吊盛有工件的清洗篮；提拉气缸通过气缸安装块A安装在无杆气缸滑块上，无杆气缸滑块初始位置为左极限位置，无杆气缸通过气缸安装块B固定在主体上；提拉气缸带动清洗篮上下运动，无杆气缸带动提拉气缸水平运动，两者相互配合，完成对工件的吊取和移位；所述的上料工位包括进料槽，进料槽的前侧设有进料口，进料口外侧的主体上安装进料口门，进料口门的内侧四周粘附防腐密封圈B；所述的超声清洗工位包括超声清洗槽和超声波振子，超声清洗槽底部安装有超声波振子，底部设有排液口A，用于排走废液，超声清洗槽后侧设有注液口，用于加注清洗液；超声清洗槽左右两侧边沿上分别设有隔门A和隔门B，隔门A和隔门B分别由隔门气缸A和隔门气缸B带动、沿着立柱上的隔门滑轨A和隔门滑轨B上下运动；所述的隔门滑轨A和隔门滑轨B的上下极限位置设有位置传感器；当隔门气缸A和隔门气缸B运动至上极限位置时，隔门A和隔门B关闭，隔门A和隔门B上部顶住隔板、隔门A和隔门B下部卡板上的防腐密封条A和防腐密封条B将缝隙堵住，从而使超声清洗工位形成单独的密闭空间；当隔门气缸A和隔门气缸B运动至下极限位置时，隔门A和隔门B打开，隔门A和隔门B上部边沿处的防腐密封条C和防腐密封条D将缝隙堵住，防止液体和气体泄漏；无杆气缸带动提拉气缸运动至此工位时将工件放入超声清洗槽进行超声波清洗；所述的喷淋清洗工位包括喷淋清洗槽和喷淋清洗头；喷淋清洗槽前后内壁上分别安装有喷淋清洗头；喷淋清洗槽底部设有排液口B，喷淋清洗后的液体从此处流走；喷淋清洗槽左右两侧边沿上分别设有隔门B和隔门C，隔门B和隔门C的运动形式和超声清洗工位的隔门A和隔门B的运动形式相同，使喷淋清洗工位在清洗时形成单独的密闭空间；无杆气缸带动提拉气缸将工件移送至此工位，喷淋清洗头喷出专用清洗液对其进行喷淋清洗，提拉气缸带动清洗篮上下往复运动实现均匀清洗；所述的下料工位包括烘干出料槽；烘干出料槽的前面设有出料口，出料口外侧安装出料口门，出料口门的内侧四周粘附防腐密封圈A；所述的烘干出料槽内部左右侧对称位置分别安装有送风管A和送风管B；工件在此工位实现风淋烘干，提拉气缸将工件放入烘干出料槽后在无杆气缸带动下移动至初始位置；所述的循环回收系统包括原液箱、废液箱和冷凝室；原液箱里盛放干净的清洗液，通过液泵连接管道经不锈钢过滤器注入超声清洗槽，清洗废液再经过相应管道流入废液箱；原液箱里的清洗液通过液泵连接管道经不锈钢过滤器通入喷淋清洗槽，清洗液由喷淋清洗头喷出对被清洗工件进行喷淋清洗；废液经过喷淋清洗底部的排液口A排出流入到废液箱；清洗过程中产生的有害废气经过主体顶部的排气本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗装置，其特征在于：包括主体和循环回收系统，所述的主体内设置上料工位、超声清洗工位、喷淋清洗工位和下料工位；主体顶部通过排气管道(46)与循环回收系统连接；所述的主体为上中下三段式结构；下部设有四个工位槽，从左至右依次为进料槽(1)、超声清洗槽(9)、喷淋清洗槽(21)和烘干出料槽(26)，中部为提拉运送机构活动空间，上部安装有提拉运送机构，上部与中部之间通过隔板(3)隔开；所述的提拉运送机构包括提拉气缸(2)、无杆气缸(8)、吊篮架(4)和挂钩(5)，所述的提拉气缸(2)为单杆不回转气缸，缸杆通过隔板(3)中间开设的运动轨道伸入进料槽(1)；提拉气缸(2)的缸杆末端装有吊篮架(4)，吊篮架(4)上有挂钩(5)，用于钩吊盛有工件的清洗篮；提拉气缸(2)通过气缸安装块A(6)安装在无杆气缸滑块(7)上，无杆气缸滑块(7)初始位置为左极限位置，无杆气缸(8)通过气缸安装块B(22)固定在主体上；提拉气缸(2)带动清洗篮上下运动，无杆气缸(8)带动提拉气缸(2)水平运动，两者相互配合，完成对工件的吊取和移位；所述的上料工位包括进料槽(1)，进料槽(1)的前侧设有进料口，进料口外侧的主体上安装进料口门(42)，进料口门(42)的内侧四周粘附防腐密封圈B(43)；所述的超声清洗工位包括超声清洗槽(9)和超声波振子(10)，超声清洗槽(9)底部安装有超声波振子(10)，底部设有排液口A(11)，用于排走废液，超声清洗槽(9)后侧设有注液口(12)，用于加注清洗液；超声清洗槽(9)左右两侧边沿上分别设有隔门A(13)和隔门B(14)，隔门A(13)和隔门B(14)分别由隔门气缸A(15)和隔门气缸B(16)带动、沿着立柱上的隔门滑轨A(39)和隔门滑轨B(40)上下运动；所述的隔门滑轨A(39)和隔门滑轨B(40)的上下极限位置设有位置传感器；当隔门气缸A(15)和隔门气缸B(16)运动至上极限位置时，隔门A(13)和隔门B(14)关闭，隔门A(13)和隔门B(14)上部顶住隔板(3)、隔门A(13)和隔门B(14)下部卡板上的防腐密封条A(17)和防腐密封条B(18)将缝隙堵住，从而使超声清洗工位形成单独的密闭空间；当隔门气缸A(15)和隔门气缸B(16)运动至下极限位置时，隔门A(13)和隔门B(14)打开，隔门A(13)和隔门B(14)上部边沿处的防腐密封条C(19)和防腐密封条D(20)将缝隙堵住，防止液体和气体泄漏；无杆气缸(8)带动提拉气缸(2)运动至此工位时将工件放入超声清洗槽(9)进行超声波清洗；所述的喷淋清洗工位包括喷淋清洗槽(21)和喷淋清洗头(23)；喷淋清洗槽(21)前后内壁上分别安装有喷淋清洗头(23)；喷淋清洗槽(21)底部设有排液口B(24)，喷淋清洗后的液体从此处流走；喷淋清洗槽(21)左右两侧边沿上分别设有隔门B(14)和隔门C(25)，隔门B(14)和隔门C(25)的运动形式和超声清洗工位的隔门A(13)和隔门B(14)的运动形式相同，使喷淋清洗工位在清洗时形成单独的密闭空间；无杆气缸(8)带动提拉气缸(2)将工件移送至此工位，喷淋清洗头(23)喷出专用清洗液对其进行喷淋清洗，提拉气缸(2)带动清洗篮上下往复运动实现均匀清洗；所述的下料工位包括烘干出料槽(26)；烘干出料槽(26)的前面设有出料口，出料口外侧安装出料口门(29)，出料口门(29)的内侧四周粘附防腐密封圈A(30)；所述的烘干出料槽(26)内部左右侧对称位置分别安装有送风管A(27)和送风管B(28)；工件在此工位实现风淋烘干，提拉气缸(2)将工件放入烘干出料槽(26)后在无杆气缸(8)带动下移动至初始位置；所述的循环回收系统包括原液箱、废液箱和冷凝室；原液箱里盛放干净的清洗液，通过液泵连接管道经不锈钢过滤器注入超声清洗槽(9)，清洗废液再经过相应管道流入废液箱；原液箱里的清洗液通过液泵连接管道经不锈钢过滤器通入喷淋清洗槽(21)，清洗液由喷淋清洗头(23)喷出对被清洗工件进行喷淋清洗；废液经过喷淋清洗底部的排液口A(11)排出流入到废液箱；清洗过程中产生的有害废气经过主体顶部的排气管道(46)输送至冷凝室，冷凝室内布置冷凝管，由压缩机提供低温，废气在冷凝室里面液化成液体，经过冷凝室底部的排液口流入废液箱。...

【技术特征摘要】
1.一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗装置，其特征在于：包括主体和循环回收系统，所述的主体内设置上料工位、超声清洗工位、喷淋清洗工位和下料工位；主体顶部通过排气管道(46)与循环回收系统连接；所述的主体为上中下三段式结构；下部设有四个工位槽，从左至右依次为进料槽(1)、超声清洗槽(9)、喷淋清洗槽(21)和烘干出料槽(26)，中部为提拉运送机构活动空间，上部安装有提拉运送机构，上部与中部之间通过隔板(3)隔开；所述的提拉运送机构包括提拉气缸(2)、无杆气缸(8)、吊篮架(4)和挂钩(5)，所述的提拉气缸(2)为单杆不回转气缸，缸杆通过隔板(3)中间开设的运动轨道伸入进料槽(1)；提拉气缸(2)的缸杆末端装有吊篮架(4)，吊篮架(4)上有挂钩(5)，用于钩吊盛有工件的清洗篮；提拉气缸(2)通过气缸安装块A(6)安装在无杆气缸滑块(7)上，无杆气缸滑块(7)初始位置为左极限位置，无杆气缸(8)通过气缸安装块B(22)固定在主体上；提拉气缸(2)带动清洗篮上下运动，无杆气缸(8)带动提拉气缸(2)水平运动，两者相互配合，完成对工件的吊取和移位；所述的上料工位包括进料槽(1)，进料槽(1)的前侧设有进料口，进料口外侧的主体上安装进料口门(42)，进料口门(42)的内侧四周粘附防腐密封圈B(43)；所述的超声清洗工位包括超声清洗槽(9)和超声波振子(10)，超声清洗槽(9)底部安装有超声波振子(10)，底部设有排液口A(11)，用于排走废液，超声清洗槽(9)后侧设有注液口(12)，用于加注清洗液；超声清洗槽(9)左右两侧边沿上分别设有隔门A(13)和隔门B(14)，隔门A(13)和隔门B(14)分别由隔门气缸A(15)和隔门气缸B(16)带动、沿着立柱上的隔门滑轨A(39)和隔门滑轨B(40)上下运动；所述的隔门滑轨A(39)和隔门滑轨B(40)的上下极限位置设有位置传感器；当隔门气缸A(15)和隔门气缸B(16)运动至上极限位置时，隔门A(13)和隔门B(14)关闭，隔门A(13)和隔门B(14)上部顶住隔板(3)、隔门A(13)和隔门B(14)下部卡板上的防腐密封条A(17)和防腐密封条B(18)将缝隙堵住，从而使超声清洗工位形成单独的密闭空间；当隔门气缸A(15)和隔门气缸B(16)运动至下极限位置时，隔门A(13)和隔门B(14)打开，隔门A(13)和隔门B(14)上部边沿处的防腐密封条C(19)和防腐密封条D(20)将缝隙堵住，防止液体和气体泄漏；无杆气缸(8)带动提拉气缸(2)运动至此工位时将工件放入超声清洗槽(9)进行超声波清洗；所述的喷淋清洗工位包括喷淋清洗槽(21)和喷淋清洗头(23)；喷淋清洗槽(21)前后内壁上分别安装有喷淋清洗头(23)；喷淋清洗槽(21)底部设有排液口B(24)，喷淋清洗后的液体从此处流走；喷淋清洗槽(21)左右两侧边沿上分别设有隔门B(14)和隔门C(25)，隔门B(14)和隔门C(25)的运动形式和超声清洗工位的隔门A(13)和隔门B(14)的运动形式相同，使喷淋清洗工位在清洗时形成单独的密闭空间；无杆气缸(8)带动提拉气缸(2)将工件移送至此工位，喷淋清洗头(23)喷出专用清洗液对其进行喷淋清洗，提拉气缸(2)带动清洗篮上下往复运动实现均匀清洗；所述的下料工位包括烘干出料槽(26)；烘干出料槽(26)的前面设有出料口，...

【专利技术属性】
技术研发人员：高航，陈玉川，王旭，郭东明，
申请(专利权)人：大连理工大学，
类型：发明
国别省市：辽宁,21