本实用新型专利技术公开了一种用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构，所述反应腔室的腔壁上设有检测口，所述光谱仪包括检测窗，包括直角弯管和转接头和45度反射镜，所述转接头安装于所述反应腔室的检测口上，所述直角弯管的一端与所述转接头密封连接，另一端与所述光谱仪的检测窗密封连接，所述45度反射镜设置于所述直角弯管内的转弯处。本实用新型专利技术还公开了一种反应装置，包括反应腔室和光谱仪，所述反应腔室和所述光谱仪之间设置有如上所述的用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构。本实用新型专利技术可以防止反应腔室内的反应气体大量接触光谱仪的检测窗，同时可以避免反应腔室的腔壁上的螺纹组件经常拆卸，从而有效延长反应腔室和光谱仪的检测窗的使用寿命。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构及反应装置
本技术涉及一种半导体领域，尤其涉及用于反应腔室和光谱仪的连接结构和反应装置。
技术介绍
目前，在用于半导体生产的反应装置中，经常采用光谱仪检测反应腔室中的变化。 例如，在蚀刻工艺中，将光谱仪密封连接到反应腔室的检测口中，用于检测反应腔室中的元素变化，以确定蚀刻反应是否已经完成。请参阅图1，通常，现有的光谱仪120通过螺栓组件130直接连接到反应腔室110 的检测口 111上，光谱仪120的检测窗121紧贴所述反应腔室110的检测口 111，在反应腔室110的腔壁上所述检测口的四周与光谱仪120的检测窗121的四周对应设置若干螺纹孔。由于检测窗121直接对着反应腔室110的检测口 111，反应腔室110进行蚀刻反应时，反应腔室110内的等离子体气体会从上向下运动，此时反应气体会接触并腐蚀检测窗121，使得检测窗121的表面变粗糙。粗糙的检测窗121会影响检测结果，所以需要经常更换检测窗121。每次更换检测窗121都必须拆卸螺栓组件130。多次反复拆卸螺栓组件 130后，会使得反应腔室110的腔壁上的螺纹孔出现磨损的现象，使得反应腔室110出现经螺纹孔发生泄漏事故。从反应腔室110内泄漏的气体不但会腐蚀反应腔室110外的环境， 而且会对操作人员的身体造成危害。另外，经常更换检测窗121，也容易发生螺栓组件130断落于螺纹孔中的现象。当反应腔室Iio的腔壁上的螺纹孔磨损过大或者发生螺栓组件130断落于螺纹孔时，就必须更换反应腔室110的腔壁上，而更换反应腔室110的腔壁的成本将非常高昂。因此，如何提供一种可以防止反应腔室泄漏的用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构及反应装置是本领域技术人员亟待解决的一个技术问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构及反应装置，可以防止反应腔室内的反应气体大量接触光谱仪的检测窗，同时可以避免反应腔室的腔壁上的螺纹组件经常拆卸，从而有效延长反应腔室和光谱仪的检测窗的使用寿命。为了达到上述的目的，本技术采用如下技术方案一种用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构，所述反应腔室的腔壁上设有检测口，所述光谱仪包括检测窗，包括直角弯管、转接头和45度反射镜，所述转接头安装于所述反应腔室的检测口上，所述直角弯管的一端与所述转接头密封连接，所述直角弯管的另一端与所述光谱仪的检测窗密封连接，所述45度反射镜设置于所述直角弯管内的转弯处。优先地，在上述的用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构中，所述直角弯管的一端通过快速接头与所述转接头密封连接，所述直角弯管的另一端通过另一快速接头与光谱仪的检测窗密封连接。优先地，在上述的用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构中，所述快速接头内设置有密封圈。优先地，在上述的用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构中，所述转接头相对反应腔室的端面和所述反应腔室的腔壁上检测口的四周设有对应的螺纹孔。优先地，在上述的用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构中，所述45度反射镜采用铬面板。优先地，在上述的用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构中，所述直角弯管内靠近45度反射镜处设置有加热器。优先地，在上述的用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构中，所述直角弯管采用招合金菅ο本技术还公开了一种反应装置，包括反应腔室和光谱仪，所述反应腔室和所述光谱仪之间设置有如上所述的用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构。本技术提供的用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构及反应装置，通过在反应腔室和光谱仪之间设置转接头和直角弯管，一方面，可以有效减少反应腔室的高温、腐蚀性的反应气体在从上至下的运动过程中接触光谱仪的检测窗，从而保护检测窗不受反应气体腐蚀，有效延长检测窗的使用寿命；另外，由于所述直角弯管的一端通过快速接头与所述转接头密封连接，另一端通过另一快速接头与光谱仪的检测窗密封连接，因此，在更换检测窗时，不需要将转接头从反应腔室的腔壁上不拆卸，而是仅仅将检测窗和直角弯管从转接头下拆下来，从而可以避免反应腔室的腔壁上的螺纹孔出现磨损现象，进而有效避免了反应腔室出现泄漏事故；再者，快速接头具有拆装方便的优点。附图说明本技术的用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构及反应装置由以下的实施例及附图给出。图1为现有的反应腔室和光谱仪的连接结构示意图。图2为本技术一实施例的反应装置及用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构的结构示意图。具体实施方式以下将对本技术的用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构及反应装置作进一步的详细描述。下面将参照附图对本技术进行更详细的描述，其中表示了本技术的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本技术而仍然实现本技术的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本技术的限制。为了清楚，不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中，不详细描述公知的功能和结构，因为它们会使本技术由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中，必须作出大量实施细节以实现开发者的特定目标，例如按照有关系统或有关商4业的限制，由一个实施例改变为另一个实施例。另外，应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的，但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。为使本技术的目的、特征更明显易懂，以下结合附图对本技术的具体实施方式作进一步的说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率， 仅用以方便、明晰地辅助说明本技术实施例的目的。请参阅图2，这反应装置，用于进行蚀刻反应，包括反应腔室210和光谱仪220，所述反应腔室210和所述光谱仪220之间设置有用于连接反应腔室210和光谱仪220的连接结构。该用于连接反应腔室和光谱仪的连接结构，包括直角弯管M0、转接头250和45度反射镜260 ；所述反应腔室210的腔壁上设有检测口 211，所述光谱仪220包括检测窗221 ； 所述转接头250通过螺栓组件230安装于所述反应腔室210的检测口 211上，所述转接头 250相对反应腔室210的端面和所述反应腔室210的腔壁上检测口 211的四周设有对应的螺纹孔；所述直角弯管240的一端与所述转接头250密封连接，所述直角弯管240的另一端与所述光谱仪220的检测窗221密封连接；所述45度反射镜260设置于所述直角弯管240 内的转弯处。由于在反应腔室210和光谱仪220之间设置转接头250和直角弯管M0，反应腔室210内的高温、腐蚀性的反应气体在从上至下的运动过程中，不容易经检测口 211、转接头250和直角弯管240后再接触光谱仪220的检测窗221，因此，可以有效减少反应腔室 210的反应气体接触光谱仪220的检测窗221，从而保护检测窗221不受反应气体腐蚀，进而有效延长检测窗221的使用寿命。较佳地，在本实施例中，所述直角弯管240的一端通过快速接头270与所述转接头密封连接，所述直角弯管240的另一端通过另一快速接头270与光谱仪220的检测窗221 密封连接。通过设置快速接头270，可以方便直角弯管与转接头和光谱仪的检测窗之间进行拆装。因此，在更换检测窗221时，不需要将转接头250从反应腔室210的腔壁上拆卸，而是仅本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陆飞，刘志攀，李文，林东榕，
申请(专利权)人：武汉新芯集成电路制造有限公司，中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。