蚀刻玻璃基板的装置制造方法及图纸

一种用于蚀刻玻璃基板的装置，包括：容器，配置为容纳蚀刻剂；第一板，位于所述容器中，并配置为在该第一板上接收水平放置的玻璃基板；和循环单元，位于所述容器中且面向所述第一板，并配置为在所述第一板的面上产生所述蚀刻剂的流动。

【技术实现步骤摘要】

本公开在此涉及一种蚀刻装置。
技术介绍
平板显示器包括由二氧化硅形成的玻璃基板。由于玻璃基板是平板显示器中最重的部分，因此为了提供更轻且更纤薄的平板显示器正在进行大量的研究以开发更轻的玻璃基板。减轻玻璃基板的重量的典型方法可以是减小该玻璃基板的厚度。为此，基板玻璃在蚀刻之后应该是平整的。也就是说，在减小玻璃基板的厚度时玻璃基板的均勻性是重要的，因为如果使用不均勻的玻璃基板则平板显示器可能具有图像质量缺陷。
技术实现思路
本专利技术的实施例的一方面致力于一种用于均勻且有效地蚀刻玻璃基板的装置。本专利技术的各实施例提供一种用于蚀刻玻璃基板的装置，该装置包括容器，配置为容纳蚀刻剂；第一板，位于所述容器中，并配置为在该第一板上接收水平放置的玻璃基板； 和循环单元，位于所述容器中且面向所述第一板，并配置为在所述第一板的面上产生蚀刻剂的流动。所述循环单元可以包括第二板，面向所述第一板；和旋转叶片，位于所述第二板的顶面或底面上。所述第一板和所述第二板在俯视图中可以具有圆形形状。所述循环单元可以进一步包括配置为控制所述第二板的驱动单元。所述驱动单元可以配置为调节所述第一板与所述第二板之间的距离以及所述第二板的旋转速度。用于蚀刻玻璃基板的所述装置可以进一步包括传感器，位于所述容器的侧壁上并邻近所述第一板，且配置为测量所述玻璃基板的厚度；和控制单元，配置为接收来自所述传感器的信号并向所述驱动单元提供驱动信号。用于蚀刻玻璃基板的所述装置可以进一步包括连接到所述容器的底面以排出所述蚀刻剂的收集管。从所述玻璃基板蚀刻下来的物质或颗粒可以通过所述蚀刻剂的流动被收集到所述收集管。用于蚀刻玻璃基板的所述装置可以进一步包括阀，配置为控制所述蚀刻剂在所述收集管中的流动；过滤器，配置为在所述蚀刻剂通过所述阀之后从所述蚀刻剂中去除所述物质或颗粒；供应管，配置为将所述蚀刻剂供应到所述容器内；和泵，配置为在所述蚀刻剂通过所述过滤器之后将所述蚀刻剂输送到所述供应管。所述循环单元可以配置为相对于所述第一板水平移动以产生所述蚀刻剂的流动。所述循环单元可以包括配置为控制主体和连接至所述主体的能水平移动的叶片的操作的驱动单元。所述驱动单元可以配置为调节所述第一板与所述主体之间的距离以及所述主体的水平速度。所述第一板在俯视图中可以具有矩形形状。根据本专利技术的另一个实施例，一种用于蚀刻玻璃基板的装置包括容器，配置为容纳蚀刻剂；和板，位于所述容器中，并配置为在该板上接收水平放置的玻璃基板。所述板可以配置为被旋转，以引发所述蚀刻剂的流动。用于蚀刻玻璃基板的所述装置可以进一步包括配置为控制所述板的驱动单元。所述驱动单元可以配置为控制所述板的竖直运动和旋转速度。用于蚀刻玻璃基板的所述装置可以进一步包括传感器，位于所述容器的侧壁上并邻近所述板，且配置为测量所述玻璃基板的厚度；和控制单元，配置为接收来自所述传感器的信号并向所述驱动单元提供驱动信号。根据本专利技术的又一实施例，一种用于蚀刻玻璃基板的装置包括容器，配置为容纳蚀刻剂；第一板，位于所述容器中，并配置为在该第一板上接收玻璃基板，所述玻璃基板具有平行于所述第一板的面的主平面；和循环单元，位于所述容器中，并配置为在所述第一板的所述面上产生所述蚀刻剂的流动。附图说明附图被包含以提供对本专利技术的各实施例的进一步理解，且附图被合并入说明书中并组成该说明书的一部分。附图表示本专利技术的各示例性实施例，并与说明书一起用于解释本专利技术的原理。在所述附图中图1为表示根据本专利技术第一实施例的用于蚀刻玻璃基板的装置的视图；图2为表示根据本专利技术第一实施例的玻璃基板蚀刻装置的容器和板的详细视图；图3为表示根据本专利技术第一实施例的玻璃基板蚀刻装置的板和旋转叶片的详细视图；图4为表示根据本专利技术第二实施例的用于蚀刻玻璃基板的装置的视图；图5为表示根据本专利技术第三实施例的用于蚀刻玻璃基板的装置的视图；图6为表示根据本专利技术第三实施例的玻璃基板蚀刻装置的容器、板和循环单元的详细视图；图7为表示根据本专利技术第四实施例的用于蚀刻玻璃基板的装置的视图。 具体实施例方式下面，将参照附图更详细说明本专利技术的各示例性实施例。然而，本专利技术可以实施为不同的形式，并且不应当理解为限于这里所列出的各实施例。相反，这些实施例被提供以使本公开全面和完整，并且向本领域技术人员充分传达本专利技术的范围。在说明书中，应当理解的是当一个元件被称为位于另一元件“上”时，其可以直接位于该另一元件上，或者也可以有一个或多个中间元件存在于两者之间。在附图中，相似的参照标记自始至终指代相似的元件。在说明书中，将参照示例性的剖视图和透视图来描述各实施例。因此，各示例性视图的形状可以根据制造技术和/或容许误差来修改。应当理解的是，尽管例如第一、第二和第三的术语在此用来描述各种元件，但是这些元件不应当被这些术语所限制。这些术语仅用于将一个元件与另一元件区别开。在此描述和示例的各实施例包括其补充的各实施例。在此使用的术语用于解释各实施例而不是用于限制本专利技术。除非所指的相反，单数形式的术语可以包括复数形式。“包括(include)，，、“包含(comprise)，，、“包括 (including)”或“包含(comprising)”的含义限定了性质、区域、固定数目、步骤、过程、元件和/或组件，但并不排除其他的性质、区域、固定数目、步骤、过程、元件和/或组件。图1为表示根据本专利技术第一实施例的用于蚀刻玻璃基板的玻璃基板蚀刻装置100 的视图。图2为表示根据本专利技术第一实施例的玻璃基板蚀刻装置100的容器110和第一板 120以及第二板132的详细透视图。图3为表示根据本专利技术第一实施例的第二板132和旋转叶片135的详细视图。参见图1至图3，玻璃基板蚀刻装置100包括容器110，配置为容纳蚀刻剂115 ； 第一板120，设置在容器110中，用于在该第一板120上水平放置玻璃基板125(即，玻璃基板125具有主平面，该主平面被放置为面对或背对或平行于第一板120的顶面)；和循环单元130，设置在容器110中，以使第一板120的顶面上的蚀刻剂115循环。玻璃基板125可以通过真空吸附方法而放置在第一板120上。多个玻璃基板125 可以以相同的方式提供在第一板120上。在这种情况下，由于在相同或共同的时刻减小该多个玻璃基板125的厚度，因此可以降低制造成本。蚀刻剂115可以包括氟化盐、硫酸盐、 硝酸盐、磺酸盐、氢氟酸、硫磺酸、和/或硝酸。可以加热蚀刻剂115以增加蚀刻速度。玻璃基板125可以用于例如触摸屏面板的显示器。循环单元130可以包括面对第一板120的第二板132和设置在第二板132背面 (例如，面向第一板120的面)上的旋转叶片135。当从顶部观看时，第一板120和第二板 132可以具有圆形形状。容器110可以具有圆柱形形状。循环单元130可以进一步包括驱动单元138以控制第二板132。驱动单元138可以竖直移动第二板132。第一板120和第二板132之间的距离L可以通过竖直移动第二板 132来调节。驱动单元138可以控制第二板132的旋转速度。旋转叶片135可以产生涡流， 以使玻璃基板125上的蚀刻剂115的流动可以受到该涡流的影响。驱动单元138可以通过控制第二板132的竖直运动和旋转速度来调节玻璃基板 125的蚀刻速度。驱本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：李雅蘫，韩官荣，
申请(专利权)人：三星移动显示器株式会社，
类型：发明
国别省市：